JP2011510478A - 有機薄膜トランジスター、アクティブマトリックス有機光学デバイス、およびこれらの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
基板は、リジッドであっても、またはフレキシブルであってもよい。リジッド基板はガラスまたはケイ素から選択することができ、フレキシブル基板は薄いガラスまたはポリ(エチレン−テレフタレート)(PET)、ポリ(エチレン−ナフタレート)PEN、ポリカーボネートおよびポリイミドなどのプラスチックを含むことができる。
好ましい有機半導体材料としては、以下ものが挙げられる:任意選択で置換されたペンタセンなどの低分子化合物;ポリアリーレン、特にポリフルオレンおよびポリチオフェンなどの任意選択で置換されたポリマー;ならびにオリゴマー。異なるタイプの材料のブレンド(例えば、ポリマーと低分子化合物のブレンド)を含めて、材料のブレンドを用いることもできる。
pチャネルOTFTについては、ソース電極とドレイン電極は、3.5eVを超える仕事関数を有する高仕事関数の材料、好ましくは金属、例えば、金、白金、パラジウム、モリブデン、タングステン、またはクロムを含むことが好ましい。より好ましくは、この金属は、4.5〜5.5eVの範囲の仕事関数を有する。他の好適な化合物、合金および酸化物、例えば三酸化モリブデンおよびインジウムスズ酸化物を使用することもできる。ソース電極とドレイン電極は、熱蒸着によって堆積させ、当技術分野で知られている標準フォトリソグラフィーおよびリフトオフ技法を用いてパターン化することができる。
ゲート電極は、広範囲の導電材料、例えば金属(例えば金)または金属化合物(例えばインジウムスズ酸化物)から選択することができる。あるいは、導電性ポリマーをゲート電極として堆積させることができる。こうした導電性ポリマーは、例えばスピンコーティングまたはインクジェット印刷技術および先に述べた他の溶液堆積技術を用いて、溶液から堆積させることができる。
ゲート誘電体は、高い抵抗率を有する絶縁材料から選択された誘電材料を含む。誘電体の誘電率kは通常約2〜3であるが、k値の高い材料が望ましい。何故ならば、OTFTで達成可能な静電容量はkに正比例し、ドレイン電流IDは静電容量に正比例するからである。したがって、低い動作電圧で高いドレイン電流を得るためには、チャネル領域内に薄い誘電体層を有するOTFTが好ましい。
他の層をデバイスアーキテクチャに含めることができる。例えば、必要とされた場合、自己組織化単分子膜(SAM)を、ゲート、ソースまたはドレイン電極、基板、絶縁層および有機半導体材料上に堆積させて、結晶化を促進し、接触抵抗を低下させ、表面特性を修復し、密着性を向上させることができる。特に、チャネル領域内の誘導体表面に結合領域および有機領域を含む単分子層を設け、特に高k誘導体表面について、例えば有機半導体の形態(特にポリマーの配列および結晶化度)を改善することにより、かつ電荷トラップを覆うことによりデバイス性能を改善することができる。こうした単分子層の代表的な材料としては、長いアルキル鎖を有するクロロ−またはアルコキシ−シラン、例えばオクタデシルトリクロロシランが挙げられる。同様に、ソース電極とドレイン電極にSAMを設けて、有機半導体と電極の間の接触を改善することができる。例えば、金のSD電極に、チオール結合基および接触を改善するための基(高い双極子モーメント、ドーパント、または共役部分を有する基とすることができる)を含むSAMを設けることができる。
本発明の実施形態によるOTFTは広範囲の可能性のある用途を有する。こうした用途の1つは、光学デバイス、好ましくは有機光学デバイスにおいて画素を駆動することである。こうした光学デバイスの例としては、光応答性デバイス、特に光検出器、および発光デバイス、特に有機発光デバイスが挙げられる。OTFTは、アクティブマトリックス有機発光デバイスと共に使用(例えばディスプレイ用途で使用)するのに特に適している。
Claims (24)
- 有機薄膜トランジスターを製造する方法であって、
チャネル領域を画定するソース電極とドレイン電極を備えた基板を用意することと、
少なくとも前記チャネル領域を洗浄処理ステップにかけることと、
インクジェット印刷によって前記チャネル領域内に有機半導体材料を溶液から堆積させることと、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記ソース電極と前記ドレイン電極の少なくとも一部分を前記洗浄処理ステップにかける、請求項1に記載の方法。
- 前記洗浄処理ステップがプラズマ処理ステップである、請求項1または2に記載の方法。
- 前記プラズマ処理ステップがO2プラズマ処理ステップである、請求項3に記載の方法。
- 前記プラズマがラジカル促進種を含む、請求項3または4に記載の方法。
- 前記ラジカル促進種がハロゲン含有種である、請求項5に記載の方法。
- 前記ハロゲン含有種がフッ素含有種である、請求項6に記載の方法。
- 前記フッ素含有種がCF4である、請求項7に記載の方法。
- 前記プラズマ処理ステップが少なくとも60秒間行われる、請求項3〜8のいずれか一項に記載の方法。
- 前記洗浄処理ステップの後にディウェッティング処理ステップを行い、その後、前記有機半導体材料のインクジェット印刷を行う、請求項1〜9のいずれかに記載の方法。
- 前記ディウェッティング処理ステップがプラズマ処理である、請求項10に記載の方法。
- 前記ディウェッティングプラズマ処理がハロゲン含有プラズマを含む、請求項11に記載の方法。
- 前記ハロゲン含有プラズマがフッ素含有プラズマである、請求項12に記載の方法。
- 前記フッ素含有プラズマがCF4である、請求項13に記載の方法。
- 前記有機薄膜トランジスターがトップゲートデバイスであり、
前記方法は、
前記有機半導体材料の上にゲート誘電体を堆積させることと、
前記ゲート誘電体の上にゲート電極を堆積させることと、
をさらに含む、請求項1〜14のいずれかに記載の方法。 - 前記有機薄膜トランジスターがボトムゲートデバイスであり、
前記基板を用意することが、
ゲート電極を堆積させることと、
前記ゲート電極の上にゲート誘電体を堆積させることと、
前記ゲート誘電体の上に前記ソース電極とドレイン電極を堆積させて前記チャネル領域を形成することと、
を含む、請求項1〜14のいずれかに記載の方法。 - 前記誘電材料が有機誘電体である、請求項16に記載の方法。
- 前記基板を用意するステップの後かつ前記洗浄処理ステップの前に、前記チャネル領域を囲むウェルを画定する絶縁材料のパターン化層を形成することをさらに含む、請求項1〜17のいずれかに記載の方法。
- 請求項1〜18のいずれかに記載の方法に従って製造された有機薄膜トランジスターデバイスであって、電荷移動度が少なくとも10-4cm2/Vsであることを特徴とする有機薄膜トランジスターデバイス。
- 電荷移動度が少なくとも10-3cm2/Vsである、請求項19に記載の有機薄膜トランジスターデバイス。
- 電荷移動度が少なくとも10-2cm2/Vsである、請求項20に記載の有機薄膜トランジスターデバイス。
- アクティブマトリックス有機光学デバイスを製造する方法であって、
前記方法は、
パターン化された電極層を備えた基板上に、複数のウェルを画定する少なくとも1つのバンク層を形成することと、
前記複数のウェルを洗浄処理ステップにかけることと、
インクジェット印刷により、前記複数のウェルのうちの一部のウェルの内部に有機半導体材料を堆積させて有機薄膜トランジスターを形成するとともに、前記複数のウェルのうちの前記一部のウェル以外のウェルの内部に有機光学活性材料を堆積させて発光画素を形成することと、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記形成することが、共通基板上に、前記有機薄膜トランジスターおよび前記画素の両方のために設けられる共通バンク層を形成することを含み、
前記洗浄処理ステップにかけることが、前記有機薄膜トランジスター用の前記ウェルおよび前記画素用の前記ウェルの両方を、前記洗浄処理ステップに同時にかけることを含む、請求項22に記載の方法。 - 請求項22または23の方法に従って製造されたアクティブマトリックス有機光学デバイスであって、前記有機薄膜トランジスターの電荷移動度が少なくとも10-4cm2/Vsであることを特徴とするアクティブマトリックス有機光学デバイス。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013518428A (ja) * | 2010-01-27 | 2013-05-20 | ポリマー・ビジョン・ベー・フェー | 半導体装置およびその製造方法 |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5325465B2 (ja) * | 2008-06-03 | 2013-10-23 | 株式会社日立製作所 | 薄膜トランジスタおよびそれを用いた装置 |
KR20100054630A (ko) * | 2008-11-14 | 2010-05-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기 박막 트랜지스터와 이의 제조방법 그리고 이를 이용한표시장치 |
US8653527B2 (en) * | 2009-03-13 | 2014-02-18 | Konica Minolta Holdings, Inc. | Thin film transistor and method for manufacturing the same |
US8211782B2 (en) * | 2009-10-23 | 2012-07-03 | Palo Alto Research Center Incorporated | Printed material constrained by well structures |
WO2011148699A1 (ja) * | 2010-05-28 | 2011-12-01 | シャープ株式会社 | 有機半導体装置およびその製造方法 |
US8367459B2 (en) * | 2010-12-14 | 2013-02-05 | Sharp Laboratories Of America, Inc. | Organic semiconductor interface preparation |
CN102629671B (zh) * | 2012-04-25 | 2015-05-06 | 上海大学 | 硅基微显示器的有机电致发光器件制备方法 |
KR101888447B1 (ko) * | 2012-05-22 | 2018-08-16 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기 전계 발광 표시 패널의 제조 방법 |
CN102881827A (zh) * | 2012-10-10 | 2013-01-16 | 上海交通大学 | 用于溶液法小分子有机薄膜晶体管的接触式印刷工艺 |
US20140183457A1 (en) * | 2013-01-03 | 2014-07-03 | Lisa H. Stecker | Transistor with Organic Semiconductor Interface |
KR20140089233A (ko) * | 2013-01-04 | 2014-07-14 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기발광소자의 제조방법 |
JP2015050022A (ja) * | 2013-08-30 | 2015-03-16 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 有機el表示装置 |
CN104485420B (zh) * | 2014-12-24 | 2018-05-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种有机薄膜晶体管及其制备方法 |
CN105261652B (zh) * | 2015-07-10 | 2019-08-13 | 广州奥翼电子科技股份有限公司 | 有机半导体薄膜晶体管及其制造方法以及显示装置与背板 |
CN105118835A (zh) * | 2015-07-22 | 2015-12-02 | 京东方科技集团股份有限公司 | 阵列基板及其制作方法、显示面板和显示装置 |
CN110246860B (zh) * | 2018-03-07 | 2021-06-29 | 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 | 可拉伸显示面板及其制造方法 |
CN110780492A (zh) * | 2019-10-28 | 2020-02-11 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种显示面板及其制备方法、显示装置 |
CN111769162B (zh) * | 2020-06-28 | 2024-05-07 | 贵州民族大学 | 一种顶栅结构非晶氧化物薄膜晶体管及其制备方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005150640A (ja) * | 2003-11-19 | 2005-06-09 | Seiko Epson Corp | 薄膜トランジスタの製造方法、薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタ回路、電子デバイスおよび電子機器 |
JP2006332645A (ja) * | 2005-05-24 | 2006-12-07 | Samsung Sdi Co Ltd | 有機薄膜トランジスタ及びその製造方法、有機薄膜トランジスタを備えた平板表示装置 |
JP2007165889A (ja) * | 2005-12-13 | 2007-06-28 | Samsung Electronics Co Ltd | 表示装置とその製造方法 |
JP2007173085A (ja) * | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Canon Inc | パターニング方法、電気光学装置の製造方法、カラーフィルターの製造方法、発光体の製造方法、並びに薄膜トランジスタの製造方法 |
JP2007305802A (ja) * | 2006-05-11 | 2007-11-22 | Seiko Epson Corp | 半導体装置、電気光学装置、電子機器及び半導体装置の製造方法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100375310C (zh) * | 1999-12-21 | 2008-03-12 | 造型逻辑有限公司 | 喷墨制作的集成电路 |
EP1243034A1 (en) * | 1999-12-21 | 2002-09-25 | Plastic Logic Limited | Solution processed devices |
GB0207134D0 (en) * | 2002-03-27 | 2002-05-08 | Cambridge Display Tech Ltd | Method of preparation of organic optoelectronic and electronic devices and devices thereby obtained |
TWI256732B (en) * | 2002-08-30 | 2006-06-11 | Sharp Kk | Thin film transistor, liquid crystal display apparatus, manufacturing method of thin film transistor, and manufacturing method of liquid crystal display apparatus |
JP3788467B2 (ja) * | 2003-05-28 | 2006-06-21 | セイコーエプソン株式会社 | パターン形成方法、デバイス及びデバイスの製造方法、電気光学装置、電子機器並びにアクティブマトリクス基板の製造方法 |
JP4344270B2 (ja) * | 2003-05-30 | 2009-10-14 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶表示装置の製造方法 |
JP2005086147A (ja) * | 2003-09-11 | 2005-03-31 | Sony Corp | 金属単層膜形成方法、配線形成方法、及び、電界効果型トランジスタの製造方法 |
JP4341529B2 (ja) | 2004-11-05 | 2009-10-07 | セイコーエプソン株式会社 | 電子デバイス、電子デバイスの製造方法および電子機器 |
WO2006051457A1 (en) * | 2004-11-09 | 2006-05-18 | Polymer Vision Limited | Self-aligned process to manufacture organic transistors |
GB2423634A (en) * | 2005-02-25 | 2006-08-30 | Seiko Epson Corp | A patterning method for manufacturing high resolution structures |
JP4686232B2 (ja) | 2005-03-30 | 2011-05-25 | セイコーエプソン株式会社 | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
KR100647710B1 (ko) * | 2005-10-21 | 2006-11-23 | 삼성에스디아이 주식회사 | 박막 트랜지스터, 이의 제조 방법 및 이를 구비한 평판표시 장치 |
KR101198218B1 (ko) * | 2006-06-19 | 2012-11-07 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치용 어레이 기판 및 그 제조 방법 |
JP4363425B2 (ja) * | 2006-08-02 | 2009-11-11 | セイコーエプソン株式会社 | Tft、電気回路、電子デバイス、および電子機器、ならびにそれらの製造方法 |
CN101669225B (zh) | 2007-04-25 | 2013-03-13 | 默克专利股份有限公司 | 电子器件的制备方法 |
-
2007
- 2007-12-19 GB GBGB0724774.5A patent/GB0724774D0/en not_active Ceased
-
2008
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- 2008-12-17 CN CN200880125795.1A patent/CN101926016B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2008-12-17 WO PCT/GB2008/004138 patent/WO2009077740A1/en active Application Filing
- 2008-12-17 GB GB1010046A patent/GB2467711B/en not_active Expired - Fee Related
- 2008-12-17 JP JP2010538885A patent/JP5595927B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-12-17 DE DE112008003420T patent/DE112008003420T5/de not_active Withdrawn
- 2008-12-17 KR KR1020107016121A patent/KR20100106503A/ko not_active Application Discontinuation
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005150640A (ja) * | 2003-11-19 | 2005-06-09 | Seiko Epson Corp | 薄膜トランジスタの製造方法、薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタ回路、電子デバイスおよび電子機器 |
JP2006332645A (ja) * | 2005-05-24 | 2006-12-07 | Samsung Sdi Co Ltd | 有機薄膜トランジスタ及びその製造方法、有機薄膜トランジスタを備えた平板表示装置 |
JP2007165889A (ja) * | 2005-12-13 | 2007-06-28 | Samsung Electronics Co Ltd | 表示装置とその製造方法 |
JP2007173085A (ja) * | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Canon Inc | パターニング方法、電気光学装置の製造方法、カラーフィルターの製造方法、発光体の製造方法、並びに薄膜トランジスタの製造方法 |
JP2007305802A (ja) * | 2006-05-11 | 2007-11-22 | Seiko Epson Corp | 半導体装置、電気光学装置、電子機器及び半導体装置の製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013518428A (ja) * | 2010-01-27 | 2013-05-20 | ポリマー・ビジョン・ベー・フェー | 半導体装置およびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8697504B2 (en) | 2014-04-15 |
KR20100106503A (ko) | 2010-10-01 |
US20100314614A1 (en) | 2010-12-16 |
WO2009077740A1 (en) | 2009-06-25 |
DE112008003420T5 (de) | 2011-01-13 |
GB2467711A (en) | 2010-08-11 |
GB2467711B (en) | 2011-04-27 |
CN101926016B (zh) | 2014-04-09 |
GB0724774D0 (en) | 2008-01-30 |
CN101926016A (zh) | 2010-12-22 |
GB201010046D0 (en) | 2010-07-21 |
JP5595927B2 (ja) | 2014-09-24 |
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---|---|---|
JP5595927B2 (ja) | 有機薄膜トランジスター、アクティブマトリックス有機光学デバイス、およびこれらの製造方法 | |
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