JP2011504290A - ウエハー反り測定の配置構造及び反り測定方法 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図2
Description
Claims (18)
- プラズマ処理システム内に位置している、ウエハーの反りを定量化するための配置構造であって、
ウエハーを保持するための支持機構と、
前記ウエハー上の複数のデータポイントの第1測定データセットを収集するように構成された第1センサセットと、を備え、
前記第1測定データセットは、前記第1センサセットと前記ウエハーとの間の1組の距離データを表し、前記第1センサセットは、前記プラズマ処理システムの1組の処理モジュールの外部にある第1位置に位置しており、
前記第1センサセットは、前記ウエハーが固定されながらも、z方向及び回転方向の1つを含む第1方向に移動することを特徴とする配置構造。 - 前記支持機構は、ロボットアーム及び静電チャックの1つを備えることを特徴とする請求項1に記載の配置構造。
- 前記第1センサセットの前記第1位置は、
正面開口式一体型容器(FOUP)と大気搬送モジュール(ATM)との間、
前記ATMとアライナとの間、
前記アライナ内、
前記ATMとエアロックモジュールとの間、
前記エアロックモジュールと真空搬送モジュール(VTM)との間、及び、
前記VTM内の1つに位置することを特徴とする請求項1に記載の配置構造。 - 前記第1センサセットは、1つのセンサであることを特徴とする請求項1に記載の配置構造。
- 前記第1センサセットは、センサアレイを含むことを特徴とする請求項1に記載の配置構造。
- 前記ウエハーは、前記第1センサセットが固定されながらも、z方向及び回転方向の1つを含む第1方向に移動することを特徴とする請求項1に記載の配置構造。
- 前記第1センサセットが前記z方向に移動している間、前記ウエハーが回転していることを特徴とする請求項1に記載の配置構造。
- 別のウエハーが前記1組の処理モジュールの処理モジュール内で処理されているときに、前記第1センサセットは前記第1測定データセットを収集していることを特徴とする請求項1に記載の配置構造。
- 第2測定データセットを収集するように構成された第2センサセットをさらに備え、
前記第2測定データセットは、前記第1センサセットによって測定された前記複数のデータポイントの少なくとも1つのデータポイントを含み、
前記第2センサセットは、前記プラズマ処理システムにおいて、前記第1位置の反対側にある第2位置に位置しており、
前記第1センサセットと前記第2センサセットとの間にギャップが存在し、それによって、前記ウエハーが前記第1センサセットと前記第2センサセットとの間に位置することを可能にすることを特徴とする請求項1に記載の配置構造。 - 前記第2センサセットは前記第1センサセットと平行であることを特徴とする請求項9に記載の配置構造。
- 前記ウエハーのウエハー厚は、前記第1測定データセットと前記第2測定データセットとを比較することによって決定されることを特徴とする請求項10に記載の配置構造。
- プラズマ処理システム内でウエハーの反りを定量化するための方法であって、
ウエハーを前記プラズマ処理システム内に搬送するステップと、
前記ウエハー上の複数のデータポイントの測定データを収集するステップと、を含み、
前記測定データは、前記プラズマ処理システムの1組の処理モジュールの外部に位置しているセンサセットと、前記ウエハーとの間の1組の距離を表しており、前記センサセットは、前記ウエハーが固定されながらも、z方向及び回転方向の1つを含む第1方向に移動しており、
前記測定データが1組の所定範囲内にある場合、前記ウエハーは処理のために前記1組の処理モジュールの処理モジュール内に移動して、前記測定データは前記ウエハーを処理するためのレシピを調整することに利用されることを特徴とする方法。 - 前記測定データが前記1組の所定範囲外にある場合、前記プラズマ処理システムから前記ウエハーを除去するステップをさらに含んでいることを特徴とする請求項12に記載の方法。
- 前記測定データを収集するステップは、前記1組の処理モジュールの外部の位置で実行されて、
前記位置は、
正面開口式一体型容器(FOUP)と大気搬送モジュール(ATM)との間、
前記ATMとアライナとの間、
前記アライナ内、
前記ATMとエアロックモジュールとの間、
前記エアロックモジュールと真空搬送モジュール(VTM)との間、及び、
前記VTM内の1つに位置することを特徴とする請求項12に記載の方法。 - 前記測定データは、前記ウエハーの厚みを決定するのに用いられ、
前記測定データは、前記第1センサセットの第1センササブセットを前記ウエハーの上方に配置し、前記第2センサセットの第2センササブセットを前記ウエハーの下方に配置することによって収集され、
前記第1センササブセットによって収集された第1測定データセットが、前記第2センササブセットによって収集された第2測定データセットと比較されて、前記ウエハーの厚みが決定されることを特徴とする請求項12に記載の方法。 - 前記第2測定データセットは、前記第1センサセットによって測定された複数のデータポイントの少なくとも1つのデータポイントを含むことを特徴とする請求項15に記載の方法。
- 前記ウエハーは、前記センサセットが固定された状態で、z方向及び回転方向の1つを含む第1方向に移動することを特徴とする請求項12に記載の方法。
- 前記第1センサセットが前記z方向に移動している間、前記ウエハーは回転していることを特徴とする請求項12に記載の方法。
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