JPH08166226A - 平面度測定装置およびそれを用いた平面度測定方法 - Google Patents
平面度測定装置およびそれを用いた平面度測定方法Info
- Publication number
- JPH08166226A JPH08166226A JP33236594A JP33236594A JPH08166226A JP H08166226 A JPH08166226 A JP H08166226A JP 33236594 A JP33236594 A JP 33236594A JP 33236594 A JP33236594 A JP 33236594A JP H08166226 A JPH08166226 A JP H08166226A
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- JP
- Japan
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- glass substrate
- warp
- light
- substrate
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 容易に基板の反りを測定することができ、且
つ基板の各箇所の反りの度合いを測定することができ
る。 【構成】 平面度測定装置はガラス基板１が載置される
テーブル２と対向して装置本体部３が配置され、装置本
体部３の下面に水平面のＸ方向およびＹ方向に移動自在
となった測定部４が設けられ、測定部４に光源５とセン
サ６とがテーブル２と対向するように設けられた構造と
なっている。そして、光源５からガラス基板１に対して
光を照射し、ガラス基板１で反射した光をセンサ６が受
光し、このセンサ６の受光位置とガラス基板１に反りが
ないときの受光位置とのずれからガラス基板１の反りを
測定するので、光源５およびセンサ６を水平面のＸ方向
およびＹ方向に移動することによりガラス基板１の各箇
所の反りを測定することができ、容易にガラス基板１の
反りを測定することができ、且つガラス基板１の各箇所
の反りの度合いを測定することができる。
つ基板の各箇所の反りの度合いを測定することができ
る。 【構成】 平面度測定装置はガラス基板１が載置される
テーブル２と対向して装置本体部３が配置され、装置本
体部３の下面に水平面のＸ方向およびＹ方向に移動自在
となった測定部４が設けられ、測定部４に光源５とセン
サ６とがテーブル２と対向するように設けられた構造と
なっている。そして、光源５からガラス基板１に対して
光を照射し、ガラス基板１で反射した光をセンサ６が受
光し、このセンサ６の受光位置とガラス基板１に反りが
ないときの受光位置とのずれからガラス基板１の反りを
測定するので、光源５およびセンサ６を水平面のＸ方向
およびＹ方向に移動することによりガラス基板１の各箇
所の反りを測定することができ、容易にガラス基板１の
反りを測定することができ、且つガラス基板１の各箇所
の反りの度合いを測定することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は基板の反りを測定する
平面度測定装置およびそれを用いた平面度測定方法に関
する。
平面度測定装置およびそれを用いた平面度測定方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】基板の反りを測定する平面度測定装置の
一例として、２枚の平板を離間対向して配置したものが
ある。このような平面度測定装置を用いて例えば液晶表
示パネルのガラス基板の反りを測定するには、まず両平
板間の隙間寸法を変えながら両平板間の隙間にその都度
ガラス基板を通過させて、ガラス基板が通過できる最小
の隙間寸法を測定する。そして、このガラス基板が通過
できる最小の隙間寸法からガラス基板の厚さ方向の寸法
を求め、ガラス基板の厚さ方向の寸法とガラス基板の厚
さとの差からガラス基板の反りを求めている。
一例として、２枚の平板を離間対向して配置したものが
ある。このような平面度測定装置を用いて例えば液晶表
示パネルのガラス基板の反りを測定するには、まず両平
板間の隙間寸法を変えながら両平板間の隙間にその都度
ガラス基板を通過させて、ガラス基板が通過できる最小
の隙間寸法を測定する。そして、このガラス基板が通過
できる最小の隙間寸法からガラス基板の厚さ方向の寸法
を求め、ガラス基板の厚さ方向の寸法とガラス基板の厚
さとの差からガラス基板の反りを求めている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
このような平面度測定装置では、両平板間の隙間寸法を
変えながら両平板間の隙間にその都度ガラス基板を通過
させて、ガラス基板が通過できる最小の隙間寸法を測定
するので、時間や手間がかかって容易にガラス基板の反
りを測定することができないという問題があった。ま
た、ガラス基板の厚さ方向の寸法とガラス基板の厚さと
の差からガラス基板の反りを測定するので、ガラス基板
の各箇所の反りの度合いを測定することができないとい
う問題があった。この発明の目的は、容易に基板の反り
を測定することができ、且つ基板の各箇所の反りの度合
いを測定することができる平面度測定装置およびそれを
用いた平面度測定方法を提供することにある。
このような平面度測定装置では、両平板間の隙間寸法を
変えながら両平板間の隙間にその都度ガラス基板を通過
させて、ガラス基板が通過できる最小の隙間寸法を測定
するので、時間や手間がかかって容易にガラス基板の反
りを測定することができないという問題があった。ま
た、ガラス基板の厚さ方向の寸法とガラス基板の厚さと
の差からガラス基板の反りを測定するので、ガラス基板
の各箇所の反りの度合いを測定することができないとい
う問題があった。この発明の目的は、容易に基板の反り
を測定することができ、且つ基板の各箇所の反りの度合
いを測定することができる平面度測定装置およびそれを
用いた平面度測定方法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
基板を載置するテーブルに対向して装置本体部を配置
し、装置本体部に水平方向に移動自在となった測定部を
設け、測定部に光源とセンサとをテーブルと対向して設
けたものである。請求項２記載の発明は、テーブルに基
板を載置し、テーブルと対向するように光源およびセン
サを配置し、光源から基板に対して光を照射し、基板で
反射した光をセンサが受光し、このセンサの受光位置よ
り基板の反りを測定するものである。
基板を載置するテーブルに対向して装置本体部を配置
し、装置本体部に水平方向に移動自在となった測定部を
設け、測定部に光源とセンサとをテーブルと対向して設
けたものである。請求項２記載の発明は、テーブルに基
板を載置し、テーブルと対向するように光源およびセン
サを配置し、光源から基板に対して光を照射し、基板で
反射した光をセンサが受光し、このセンサの受光位置よ
り基板の反りを測定するものである。
【０００５】
【作用】請求項１記載の発明によれば、水平方向に移動
自在となった測定部に光源およびセンサを基板を載置す
るテーブルと対向して設けたので、請求項２記載の発明
のように、光源から基板に対して光を照射し、基板で反
射した光をセンサが受光し、このセンサの受光位置と基
板に反りのないときのセンサの受光位置とのずれから基
板の反りを測定することができ、光源およびセンサを水
平方向に移動させることにより基板の各箇所の反りを測
定することができ、容易に基板の反りを測定することが
でき、且つ基板の各箇所の反りの度合いを測定すること
ができる。
自在となった測定部に光源およびセンサを基板を載置す
るテーブルと対向して設けたので、請求項２記載の発明
のように、光源から基板に対して光を照射し、基板で反
射した光をセンサが受光し、このセンサの受光位置と基
板に反りのないときのセンサの受光位置とのずれから基
板の反りを測定することができ、光源およびセンサを水
平方向に移動させることにより基板の各箇所の反りを測
定することができ、容易に基板の反りを測定することが
でき、且つ基板の各箇所の反りの度合いを測定すること
ができる。
【０００６】
【実施例】図１および図２はこの発明の一実施例におけ
る平面度測定装置を示したものである。この平面度測定
装置では、ガラス基板１を載置するテーブル２と、テー
ブル２の上方に配置される装置本体部３とを備えてい
る。テーブル２の上面には、黒色の塗料を塗布する等に
よって、光の反射を防止する処理が施されている。装置
本体部３の下面には、水平面のＸ方向およびＹ方向に移
動自在となった測定部４が設けられている。測定部４の
下面には、所定の箇所に光源５が設けられ、他の所定の
箇所にセンサ６が設けられている。光源５は発光ダイオ
ード、白熱電球、レーザ等からなり、光源５から出射さ
れる光は可視光線に限らず、赤外線、紫外線、レーザ光
線等であってもよい。センサ６は複数の受光部７がＸ方
向に直線状に配列されたものからなり、各受光部７はフ
ォトダイオード、ＣＣＤ、光電セル等からなっている。
る平面度測定装置を示したものである。この平面度測定
装置では、ガラス基板１を載置するテーブル２と、テー
ブル２の上方に配置される装置本体部３とを備えてい
る。テーブル２の上面には、黒色の塗料を塗布する等に
よって、光の反射を防止する処理が施されている。装置
本体部３の下面には、水平面のＸ方向およびＹ方向に移
動自在となった測定部４が設けられている。測定部４の
下面には、所定の箇所に光源５が設けられ、他の所定の
箇所にセンサ６が設けられている。光源５は発光ダイオ
ード、白熱電球、レーザ等からなり、光源５から出射さ
れる光は可視光線に限らず、赤外線、紫外線、レーザ光
線等であってもよい。センサ６は複数の受光部７がＸ方
向に直線状に配列されたものからなり、各受光部７はフ
ォトダイオード、ＣＣＤ、光電セル等からなっている。
【０００７】次に、このような平面度測定装置を用いて
ガラス基板１の反りを測定する平面度測定方法について
説明する。まず、テーブル２の上面に測定対象となるガ
ラス基板１を載置する。次に、テーブル２の上方に光源
５およびセンサ６がテーブル２と対向するように装置本
体部３を配置する。次に、光源５から出射した光をθの
角度でガラス基板１の上面に照射すると、ガラス基板１
の上面に対してθの角度で反射し、この反射した光をセ
ンサ６の受光部７が受光する。この場合、ガラス基板１
に反りあるときと、ないときとではセンサ６の受光位置
がずれる。すなわち、ガラス基板１に反りがないときは
受光位置Ａにある受光部７が受光するが、ガラス基板１
に反りがあるときはその反りの度合いに応じて受光位置
が光源５側にずれる。例えば、ガラス基板１の反りがｔ
の場合には、受光位置Ｂにある受光部７が受光し、ガラ
ス基板１に反りがないときよりも光源５側にｄだけずれ
る。ここで、ガラス基板１に対する入射光および反射光
のなす角をθとし、ガラス基板１の反りをｔとし、受光
位置Ａ、Ｂのずれをｄとすると、図２から以下のような
関係式が導かれる。 ｔ＝（ｄ／２）ｔａｎθ そして、ガラス基板１に対する入射光および反射光のな
す角θを一定にし、センサ６の下面と反りがないときの
ガラス基板１の上面との間の離間距離Ｌを一定にすると
受光位置Ａを特定することができ、この状態で受光位置
Ａ、Ｂのずれｄを測定すれば上記の関係式からガラス基
板１の反りｔを求めることができる。また、光源５およ
びセンサ６を水平面のＸ方向およびＹ方向に移動させて
同様の測定をガラス基板１の複数点で行えばガラス基板
１の各箇所の反りの度合いを測定することができる。
ガラス基板１の反りを測定する平面度測定方法について
説明する。まず、テーブル２の上面に測定対象となるガ
ラス基板１を載置する。次に、テーブル２の上方に光源
５およびセンサ６がテーブル２と対向するように装置本
体部３を配置する。次に、光源５から出射した光をθの
角度でガラス基板１の上面に照射すると、ガラス基板１
の上面に対してθの角度で反射し、この反射した光をセ
ンサ６の受光部７が受光する。この場合、ガラス基板１
に反りあるときと、ないときとではセンサ６の受光位置
がずれる。すなわち、ガラス基板１に反りがないときは
受光位置Ａにある受光部７が受光するが、ガラス基板１
に反りがあるときはその反りの度合いに応じて受光位置
が光源５側にずれる。例えば、ガラス基板１の反りがｔ
の場合には、受光位置Ｂにある受光部７が受光し、ガラ
ス基板１に反りがないときよりも光源５側にｄだけずれ
る。ここで、ガラス基板１に対する入射光および反射光
のなす角をθとし、ガラス基板１の反りをｔとし、受光
位置Ａ、Ｂのずれをｄとすると、図２から以下のような
関係式が導かれる。 ｔ＝（ｄ／２）ｔａｎθ そして、ガラス基板１に対する入射光および反射光のな
す角θを一定にし、センサ６の下面と反りがないときの
ガラス基板１の上面との間の離間距離Ｌを一定にすると
受光位置Ａを特定することができ、この状態で受光位置
Ａ、Ｂのずれｄを測定すれば上記の関係式からガラス基
板１の反りｔを求めることができる。また、光源５およ
びセンサ６を水平面のＸ方向およびＹ方向に移動させて
同様の測定をガラス基板１の複数点で行えばガラス基板
１の各箇所の反りの度合いを測定することができる。
【０００８】このように、光源５からガラス基板１に対
して光を照射し、ガラス基板１で反射した光をセンサ６
が受光し、このセンサ６の受光位置とガラス基板１に反
りのないときの受光位置とのずれからガラス基板１の反
りを測定するので、光源５およびセンサ６を水平面のＸ
方向およびＹ方向に移動させることによりガラス基板１
の各箇所の反りを測定することができ、容易にガラス基
板１の反りを測定することができ、且つガラス基板１の
各箇所の反りの度合いを測定することができる。
して光を照射し、ガラス基板１で反射した光をセンサ６
が受光し、このセンサ６の受光位置とガラス基板１に反
りのないときの受光位置とのずれからガラス基板１の反
りを測定するので、光源５およびセンサ６を水平面のＸ
方向およびＹ方向に移動させることによりガラス基板１
の各箇所の反りを測定することができ、容易にガラス基
板１の反りを測定することができ、且つガラス基板１の
各箇所の反りの度合いを測定することができる。
【０００９】なお、上記実施例では、光源５は１つとし
たが、これに限定されず、複数の光源５をＹ方向に直線
状に設けてもよい。この場合、センサ６の受光部７はＸ
方向およびＹ方向にマトリックス状に設ける。このよう
にすると、測定部４をＸ方向に移動するだけてガラス基
板１の各箇所の反りの度合いをガラス基板１の全面に渡
って細かく測定することができ、且つ短時間で手間をか
けずに測定することができる。また、上記実施例では、
ガラス基板１を動かさずに測定部４をガラス基板１に対
して移動させたが、これに限定されず、逆に測定部４を
動かさずにガラス基板１を測定部４に対して移動させて
もよい。さらに、上記実施例では、透明なガラス基板１
の反りを測定する場合について説明したが、これに限定
されず、例えば不透明な基板の反りを測定する場合であ
ってもよい。この場合には、テーブル２の上面に光の反
射を防止する処理を施す必要はない。
たが、これに限定されず、複数の光源５をＹ方向に直線
状に設けてもよい。この場合、センサ６の受光部７はＸ
方向およびＹ方向にマトリックス状に設ける。このよう
にすると、測定部４をＸ方向に移動するだけてガラス基
板１の各箇所の反りの度合いをガラス基板１の全面に渡
って細かく測定することができ、且つ短時間で手間をか
けずに測定することができる。また、上記実施例では、
ガラス基板１を動かさずに測定部４をガラス基板１に対
して移動させたが、これに限定されず、逆に測定部４を
動かさずにガラス基板１を測定部４に対して移動させて
もよい。さらに、上記実施例では、透明なガラス基板１
の反りを測定する場合について説明したが、これに限定
されず、例えば不透明な基板の反りを測定する場合であ
ってもよい。この場合には、テーブル２の上面に光の反
射を防止する処理を施す必要はない。
【００１０】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載の発
明によれば、水平方向に移動自在となった測定部に光源
およびセンサを基板を載置するテーブルと対向して設け
たので、請求項２記載の発明のように、光源から基板に
対して光を照射し、基板で反射した光をセンサが受光
し、このセンサの受光位置と基板に反りのないときのセ
ンサの受光位置とのずれから基板の反りを測定すること
ができ、光源およびセンサを水平方向に移動させること
により基板の各箇所の反りを測定することができ、容易
に基板の反りを測定することができ、且つ基板の各箇所
の反りの度合いを測定することができる。
明によれば、水平方向に移動自在となった測定部に光源
およびセンサを基板を載置するテーブルと対向して設け
たので、請求項２記載の発明のように、光源から基板に
対して光を照射し、基板で反射した光をセンサが受光
し、このセンサの受光位置と基板に反りのないときのセ
ンサの受光位置とのずれから基板の反りを測定すること
ができ、光源およびセンサを水平方向に移動させること
により基板の各箇所の反りを測定することができ、容易
に基板の反りを測定することができ、且つ基板の各箇所
の反りの度合いを測定することができる。
【図１】この発明の一実施例における平面度測定装置を
示す断面図。
示す断面図。
【図２】この発明の一実施例における平面度測定方法を
説明するための図。
説明するための図。
１ ガラス基板 ２ テーブル ３ 装置本体部 ４ 測定部 ５ 光源 ６ センサ
Claims (2)
- 【請求項１】 基板を載置するテーブルに対向して装置
本体部を配置し、 該装置本体部に水平方向に移動自在となった測定部を設
け、 該測定部に光源とセンサとを前記テーブルと対向して設
けたことを特徴とする平面度測定装置。 - 【請求項２】 テーブルに基板を載置し、前記テーブル
と対向するように光源とセンサとを配置し、前記光源か
ら前記基板に対して光を照射し、前記基板で反射した光
を前記センサが受光し、該センサの受光位置より前記基
板の反りを測定することを特徴とする平面度測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33236594A JPH08166226A (ja) | 1994-12-14 | 1994-12-14 | 平面度測定装置およびそれを用いた平面度測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33236594A JPH08166226A (ja) | 1994-12-14 | 1994-12-14 | 平面度測定装置およびそれを用いた平面度測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08166226A true JPH08166226A (ja) | 1996-06-25 |
Family
ID=18254149
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33236594A Pending JPH08166226A (ja) | 1994-12-14 | 1994-12-14 | 平面度測定装置およびそれを用いた平面度測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08166226A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007061388A1 (en) * | 2005-11-28 | 2007-05-31 | Rokko Systems Pte Ltd | Detection of warp in an ic substrate |
| US8225683B2 (en) | 2007-09-28 | 2012-07-24 | Lam Research Corporation | Wafer bow metrology arrangements and methods thereof |
| JP2015062023A (ja) * | 2005-07-27 | 2015-04-02 | コーニング インコーポレイテッド | ガラスシートを測定するための方法 |
-
1994
- 1994-12-14 JP JP33236594A patent/JPH08166226A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015062023A (ja) * | 2005-07-27 | 2015-04-02 | コーニング インコーポレイテッド | ガラスシートを測定するための方法 |
| WO2007061388A1 (en) * | 2005-11-28 | 2007-05-31 | Rokko Systems Pte Ltd | Detection of warp in an ic substrate |
| US8225683B2 (en) | 2007-09-28 | 2012-07-24 | Lam Research Corporation | Wafer bow metrology arrangements and methods thereof |
| US9123582B2 (en) | 2007-09-28 | 2015-09-01 | Lam Research Corporation | Methods of in-situ measurements of wafer bow |
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