JP2011504202A - オルガノシリコーン組成物とその製造方法 - Google Patents

Abstract

構造（Ｍ^１）_ａ（Ｍ^Ｅ）_ｂ（Ｄ^１）_ｃ（Ｄ^２）_ｄ（Ｔ）_ｅ（Ｑ）_ｆ〔式中、Ｍ^１＝Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３ＳｉＯ_１／２であり；Ｍ^Ｅ＝Ｒ^４Ｒ^５Ｒ^ＥＳｉＯ_１／２であり；Ｄ_１＝Ｒ^６Ｒ^７ＳｉＯ_２／２であり；Ｄ^２＝Ｒ^８Ｒ^９ＳｉＯ_２／２であり；Ｔ＝Ｒ^１０ＳｉＯ_３／２であり；そして、Ｑ＝ＳｉＯ_４／２であり；式中、各Ｒ^Ｅは、独立して、エポキシ基を含有する一価の炭化水素ラジカルであり；Ｒ^９は、構造−Ｌ^１−Ｓｉ（Ｒ^１１）_ｇ（ＯＲ^１２）_３−ｇもしくはＬ^２（Ｄ^３）_ｈ（Ｍ^２）_ｊ−Ｌ^３−Ｓｉ（Ｒ^１３）_ｇ（ＯＲ^１４）_３−ｇを含有し；式中、Ｌ^１、Ｌ^２、およびＬ^３は、独立して、二価の結合基であり；ｇおよびｇ’は、独立して、０から２までの値を有し；Ｍ^２＝Ｒ^１５Ｒ^１６Ｒ^１７ＳｉＯ_１／２であり；Ｄ^３＝Ｒ^１８Ｒ^１９ＳｉＯ_２／２であり；式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、およびＲ^１９は、独立して、一価の炭化水素ラジカルであり；式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｈ、およびｉは、ゼロもしくは正である化学量論的な下付文字であり、次の限定に従う：ｂは２の値を有し；ｄは１と等しいかもしくはそれ以上であり；（ａ＋ｃ＋ｅ＋ｆ）がゼロと等しい時、（ｂ＋ｄ）は３と等しいかもしくはそれ以上であり；そして、ｉ＝０である時、ｈは少なくとも１である〕を含有する組成物を開示する。
【選択図】なし

Description

本発明は、一般に、少なくとも一つのペンダント型官能性の有機ケイ素基を含有する、エポキシでキャップ化されたオルガノシリコーンを含有する組成物に関する。さらに本発明は、これらの組成物を選択的に製造する方法に関する。その上に本発明は、これらの組成物と、カルボン酸端末基のような、エポキシでキャップ化されたシロキサンに対して反応性のある末端基を少なくとも一つ有する重合体との反応生成物を含有する重合体組成物に関する。さらになお、本発明は、重合体組成物の種々の最終的な使用に関する。

末端キャップ化基および／もしくはペンダント型基としてのエポキシ基を有するオルガノシリコーンは、当分野で既知であり、そして例えば、シリコーン系のエポキシ樹脂のような様々な用途に使用されている。

しかしながら、ますます大きい要求がされる最終的な使用に対し、より堅牢な生成物を生成するための、エポキシの末端キャップ化基と、少なくとも一つのペンダント型官能性の有機ケイ素基とを単独で有するオルガノシリコーンへの必要性は、いまだ残っている。さらになお、選択的な方法で、そのようなオルガノシリコーンを製造する方法に対する必要性も依然として残っている。

本発明の一態様は、構造：
（Ｍ^１）_ａ（Ｍ^Ｅ）_ｂ（Ｄ^１）_ｃ（Ｄ^２）_ｄ（Ｔ）_ｅ（Ｑ）_ｆ
を含有する組成物であり；
式中、Ｍ^１＝Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３ＳｉＯ_１／２；Ｍ^Ｅ＝Ｒ^４Ｒ^５Ｒ^ＥＳｉＯ_１／２；Ｄ^１＝Ｒ^６Ｒ^７ＳｉＯ_２／２；Ｄ^２＝Ｒ^８Ｒ^９ＳｉＯ_２／２；Ｔ＝Ｒ^１０ＳｉＯ_３／２；そして、Ｑ＝ＳｉＯ_４／２であり；
式中、各Ｒ^Ｅは、独立して、エポキシ基を有する一価の炭化水素ラジカルであり；Ｒ^９は、構造−Ｌ^１−Ｓｉ（Ｒ^１１）_ｇ（ＯＲ^１２）_３−ｇもしくはＬ^２（Ｄ^３）_ｈ（Ｍ^２）_ｉ−Ｌ^３−Ｓｉ（Ｒ^１３）_ｇ’（ＯＲ^１４）_３−ｇ’を含有し；式中、Ｌ^１、Ｌ^２、およびＬ^３は、独立して、二価の結合基であり；ｇおよびｇ’は、独立して、０から２までの値を有し；Ｍ^２＝Ｒ^１５Ｒ^１６Ｒ^１７ＳｉＯ_１／２であり；Ｄ^３＝Ｒ^１８Ｒ^１９ＳｉＯ_２／２であり；
式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、およびＲ^１９は、独立して、一価の炭化水素ラジカルであり；
式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｈ、およびｉは、ゼロもしくは正である化学量論的な下付文字であり、次の限定に従う：ｂは２の値を有し；ｄは１と等しいかもしくはそれ以上であり；（ａ＋ｃ＋ｅ＋ｆ）がゼロと等しい時、（ｂ＋ｄ）は３と等しいかもしくはそれ以上であり；そして、ｉ＝０である時、ｈは少なくとも１である。

本発明の他の態様は、構造：
（Ｍ^Ｅ）_ｊ（Ｄ^４）_ｋ（Ｄ^５）_ｌ
を含有する組成物であり；
式中、Ｍ^Ｅ＝Ｒ^２０Ｒ^２１Ｒ^ＥＳｉＯ_１／２であり；Ｄ^４＝Ｒ^２２Ｒ^２３ＳｉＯ_２／２であり；そして、Ｄ^５＝Ｒ^２４Ｒ^２５ＳｉＯ_２／２であり；式中、Ｒ^２０、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３、Ｒ^２４、およびＲ^２５は、独立して、一価の炭化水素ラジカルであり；各Ｒ^Ｅは、独立して、エポキシ基を有する一価の炭化水素ラジカルであり；Ｒ^２５＝−Ｌ^４−Ｓｉ（Ｒ^２６）_ｍ（ＯＲ^２７）_３−ｍであり、式中、Ｌ^４は、二価の結合基であり；ｍは、０から２までの値を有し；そして、Ｒ^２６およびＲ^２７は、独立して、一価の炭化水素ラジカルであり；ｊは２の値を有し；ｋはゼロもしくは１より大きく；そして、ｌは１と等しいかもしくはそれ以上である。

さらに他の態様において、構造：
（Ｍ^１）_ａ（Ｍ^Ｅ）_ｂ（Ｄ^１）_ｃ（Ｄ^２）_ｄ（Ｔ）_ｅ（Ｑ）_ｆ
を含有する組成物を製造する方法が供される。この方法は：
（ｉ）構造（Ｍ^１）_ａ（Ｍ^Ｈ）_ｂ（Ｄ^１）_ｃ（Ｔ）_ｅ（Ｑ）_ｆを有する有機ケイ素ヒドリドと、エポキシオレフィンとを反応させて、構造（Ｍ^１）_ａ（Ｍ^Ｅ）_ｂ（Ｄ^１）_ｃ（Ｔ）_ｅ（Ｑ）_ｆを有する第一の中間体生成物を得るステップであって；式中、Ｍ^１＝Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３ＳｉＯ_１／２であり；Ｍ^Ｈ＝Ｒ^４Ｒ^５ＨＳｉＯ_１／２であり；Ｄ^１＝Ｒ^６Ｒ^７ＳｉＯ_２／２であり；Ｔ＝Ｒ^１０ＳｉＯ_３／２であり；Ｑ＝ＳｉＯ_４／２であり；そして、Ｍ^Ｅ＝Ｒ^４Ｒ^５Ｒ^ＥＳｉＯ_１／２であり；式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、およびＲ^１０は、独立して、一価の炭化水素ラジカルであり；それぞれのＲ^Ｅは、独立して、エポキシ基を有する一価の炭化水素ラジカルであり；そして、ａ、ｂ、ｃ、ｅ、およびｆは、ゼロもしくは正である化学量論的な下付文字であり、次の限定に従う：ｂは２の値を有し；そして、（ａ＋ｃ＋ｅ＋ｆ）＝０である時、ｂ＝２である、ステップ；
（ｉｉ）前記第一の中間体生成物と、構造（Ｄ^６）_ｎを有する環状シロキサンとを反応させて、構造（Ｍ^１）_ａ（Ｍ^Ｅ）_ｂ（Ｄ^１）_ｃ（Ｄ^６）_ｏ（Ｔ）_ｅ（Ｑ）_ｆを有する第二の中間生成物を得るステップであって；式中、Ｄ^６は、Ｒ^８Ｒ^２８ＳｉＯ_２／２であり；式中、Ｒ^８は、一価の炭化水素ラジカルであって；Ｒ^２８は、一価のアルケニル基であり；ａ、ｂ、ｃ、ｅ、ｆ、ｎ、およびｏは、ゼロもしくは正である化学量論的な下付文字であり、次の限定に従う：ｎは３と等しいかもしくはそれ以上であり；ｏは少なくとも１であり；ｂは２の値を有し；そして、（ａ＋ｃ＋ｅ＋ｆ）がゼロと等しい時、（ｂ＋ｏ）は３と等しいかもしくはそれ以上である、ステップ；そして、
（ｉｉｉ）前記第二の中間体生成物と、（アルコキシ）ヒドロシランとを反応させて、構造（Ｍ^１）_ａ（Ｍ^Ｅ）_ｂ（Ｄ^１）_ｃ（Ｄ^２）_ｄ（Ｔ）_ｅ（Ｑ）_ｆを有する組成物を得るステップであって；式中、Ｍ^１＝Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３ＳｉＯ_１／２であり；Ｍ^Ｅ＝Ｒ^４Ｒ^５Ｒ^ＥＳｉＯ_１／２であり；Ｄ^１＝Ｒ^６Ｒ^７ＳｉＯ_２／２であり；Ｄ^２＝Ｒ^８Ｒ^９ＳｉＯ_２／２であり；Ｔ＝Ｒ^１０ＳｉＯ_３／２であり；そして、Ｑ＝ＳｉＯ_４／２であり；式中、それぞれのＲ^Ｅは、独立して、エポキシ基を有する一価の炭化水素ラジカルであり；Ｒ^９は、構造−Ｌ^１−Ｓｉ（Ｒ^１１）_ｇ（ＯＲ^１２）_３−ｇもしくはＬ^２（Ｄ^３）_ｈ（Ｍ^２）_ｉ−Ｌ^３−Ｓｉ（Ｒ^１３）_ｇ’（ＯＲ^１４）_３−ｇ’を含有するペンダント型官能性の有機ケイ素基を含有し；式中、Ｌ^１、Ｌ^２、およびＬ^３は、独立して、二価の結合基であり；ｇおよびｇ’は、独立して、０から２までの値を有する；Ｍ^２＝Ｒ^１５Ｒ^１６Ｒ^１７ＳｉＯ_１／２であり；Ｄ^３＝Ｒ^１８Ｒ^１９ＳｉＯ_２／２であり；
式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、およびＲ^１９は、独立して、一価の炭化水素ラジカルであり；
式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｈ、およびｉは、ゼロもしくは正である化学量論的な下付文字であり、次の限定に従う：ｂは２の値を有する；ｄは１と等しいかもしくはそれ以上であり；（ａ＋ｃ＋ｅ＋ｆ）がゼロと等しい時、（ｂ＋ｄ）は３と等しいかもしくはそれ以上であり；そして、ｉ＝０である時、ｈは少なくとも１である、ステップ；
を含有する。

別の様態において、先に開示した組成物と、少なくとも一つのカルボン酸末端基を有する重合体との反応生成物を含有する、重合体組成物とコーティング剤組成物とが供される。

本発明のこれらの、そして別の特徴、様態、および長所は、添付される図面を参照して次の詳細な説明を読めば、より理解でき、ここで、図面の全体にわたって同類の文字が同類の部分を表す。

図１は、実施例１に記載される第一の中間生成物、Ｍ^Ｅ（Ｄ）_６Ｍ^Ｅに対する、ピークを同定したプロトン核磁気共鳴スペクトルを表す。 図２は、実施例１に記載される第二の中間体生成物、Ｍ^Ｅ（Ｄ）_６（Ｄ^Ｖｉ）_３Ｍ^Ｅに対する、ピークを同定したプロトン核磁気共鳴スペクトルを表す。 図３は、本発明の実施態様による例示的な組成物に対する、ピークを同定したプロトン核磁気共鳴スペクトルを表す。 図４は、本発明の他の実施態様による、図３の例示的な組成物に対する、ピークを同定したＳｉｌｉｃｏｎ−２９の核磁気共鳴スペクトルを表す。

本発明のこれらの、そして別の特徴、様態、および長所は、次の詳細な説明を考慮に入れるとより良く理解できるであろう。

単数形の「ａ」、「ａｎ」、および「ｔｈｅ」は、文脈が明かに他のことを指示するのでなければ、複数の指示物を含む。

「任意選択の（ｏｐｔｉｏｎａｌ）」もしくは「任意選択で（ｏｐｔｉｏｎａｌｌｙ）」は、この語のあとに記載される事態もしくは状況が、起きてもよく、もしくは起きなくてもよく、そしてこの記載は、事態が起きる場合と、事態が起きない場合とを含む。

ここで定義されるとき、用語の「ラジカル（ｒａｄｉｃａｌ）」および「基（ｇｒｏｕｐ）」は、用語の「アルキル」、「シクロアルキル」、「アリール」、「アルコキシ」、「アリールオキシ」、および「シクロアルコキシ」に用いるとき、この開示の全体にわたって相互互換的に使用される。

ここで定義にされるとき、用語の「一価の炭化水素ラジカル」は、一価のアルキルラジカル、一価のシクロアルキルラジカル、もしくは一価のアリールラジカルのいずれをも表す。別に特定されていなければ、用語の「炭化水素ラジカル」は、１から６０個の炭素原子を有するそれらのラジカルを含むことを意味する。さらに、この炭化水素ラジカルは、硫黄、酸素、および窒素のようなヘテロ原子を含有してもよい。

ここで定義されるとき、用語の「アルキル」は、環状ではなく、かつ、ｓｐ^３の炭素原子を介してケイ素原子に連結される、炭素原子の一価の配置を指す。炭素原子の配置は、ｓｐ^３、ｓｐ^２、もしくはｓｐの混成炭素原子の組合せをさらに含んでもよい。炭素原子の配置は、酸素、窒素、および硫黄のような一つもしくはそれ以上のヘテロ原子をさらに含んでもよい。その上に、アルキルラジカルもしくは基は、例えばヒドロキシ基のような別の官能基を含有することができる。アルキル基の例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、イソオクチル、ベンジル、シクロへキシルメチル、フェネチル、３−ヒドロキシプロピル、ブトキシ、２−ヒドロキシエチル、α，α−ジメチルベンジルなどを含む。

ここで定義されるとき、用語の「アルコキシ」は、上述されるように、酸素原子に連結される一価のアルキルラジカルを意味する。

ここで定義されるとき、用語の「アリール（ａｒｙｌ）」は、ｓｐ^２混成炭素原子と、共役する炭素−炭素二重結合との一価の環状配置を指し、そしてこれはｓｐ^２混成炭素原子を介してケイ素原子に連結される。この芳香族基もしくはラジカルは、一つから許容される最大数までの置換基を有してよい。アリールラジカルもしくは基、または芳香族ラジカルもしくは基は、硫黄、酸素、および窒素のようなヘテロ原子をさらに含有してよい。その上に芳香族ラジカルもしくは基は、例えばヒドロキシ基のような別の官能基を含有してよい。アリール基の例は、フェニル、置換フェニル、トリル、置換トリル、キシリル、メシチル、クロロフェニル、ナフチル、フリル、フリルメチル、チエニル、ピロリル、２−ヒドロキシフェニル、４−ヒドロキシフェニルなどを含む。

ここで定義されるとき、用語の「シクロアルキル」は、炭素原子の一価の環状配置を指し、そして炭素原子の環状配置の部分を形成するｓｐ^３混成炭素原子を介してケイ素原子に連結される。炭素原子の環状配置は、酸素、硫黄、および窒素のような一つもしくはそれ以上のヘテロ原子をさらに含有してもよい。さらに炭素原子の環状配置は、一つから許容される最大数までの置換基により置換されてよい。さらにシクロアルキルオキシ基もしくはラジカル）は、例えばヒドロキシ基のような別の官能基を含有してよい。シクロアルキル基の例は、シクロへキシル、メチルシクロへキシル、トリメチルシクロへキシル、フェニルシクロへキシル、テトラヒドロピラニル、４−ヒドロキシシクロヘキシル、４−チアシクロヘキシル、シクロオクチルなどを含む。

ここで定義されるとき、用語の「一価のアルケニル」基もしくはラジカルは、ケイ素原子に連結されるオレフィン性の基を指す。このアルケニル基は、アルキル基、アリール基、もしくはシクロアルキル基を含有してよい。さらにアルケニル基は、ｓｐ^２もしくはｓｐ^３の混成炭素原子を介してケイ素原子に連結されてよい。アルケニル基の幾つかの例は、ビニルもしくはエテニル、１−プロぺニル、１−ブテニル、１−ヘキセニル、スチレニル、およびメタリルを含む。

ここで定義されるとき、オルガノシリコーンに用いられる、用語の「エポキシでキャップ化された（ｅｐｏｘｙ−ｃａｐｐｅｄ）」は、オルガノシリコーン重合体のそれぞれの末端に、一つのエポキシ含有有機基を有するオルガノシリコーン重合体を指す。

本発明の実施様態において、構造（Ｉ）：
（Ｍ^１）_ａ（Ｍ^Ｅ）_ｂ（Ｄ^１）_ｃ（Ｄ^２）_ｄ（Ｔ）_ｅ（Ｑ）_ｆ （Ｉ）
を有する組成物であって、
式中、Ｍ^１＝Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３ＳｉＯ_１／２であり；Ｍ^Ｅ＝Ｒ^４Ｒ^５Ｒ^ＥＳｉＯ_１／２であり；Ｄ^１＝Ｒ^６Ｒ^７ＳｉＯ_２／２であり；Ｄ^２＝Ｒ^８Ｒ^９ＳｉＯ_２／２であり；Ｔ＝Ｒ^１０ＳｉＯ_３／２であり；そして、Ｑ＝ＳｉＯ_４／２であり；
式中、それぞれのＲ^Ｅは、独立して、エポキシ基を含有する一価の炭化水素基であり；Ｒ^９は、構造−Ｌ^１−Ｓｉ（Ｒ^１１）_ｇ（ＯＲ^１２）_３−ｇもしくはＬ^２（Ｄ^３）_ｈ（Ｍ^２）_ｉ−Ｌ^３−Ｓｉ（Ｒ^１３）_ｇ’（ＯＲ^１４）_３−ｇ’を含有するペンダント型官能性の有機ケイ素基を含有し；式中、Ｌ^１、Ｌ^２、およびＬ^３は、独立して、二価の結合基であり；ｇおよびｇ’は、独立して、０から２までの値を有し；Ｍ^２＝Ｒ^１５Ｒ^１６Ｒ^１７ＳｉＯ_１／２であり；Ｄ^３＝Ｒ^１８Ｒ^１９ＳｉＯ_２／２であり；
式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、およびＲ^１９は、独立して、一価の炭化水素ラジカルであり；
式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｈ、およびｉは、ゼロもしくは正である化学量論的な下付文字であり、次の限定に従う：ｂは２の値を有し；ｄは１と等しいかもしくはそれ以上であり；（ａ＋ｃ＋ｅ＋ｆ）がゼロと等しい時、（ｂ＋ｄ）は３と等しいかもしくはそれ以上であり；そして、ｉ＝０である時、ｈは少なくとも１である。

一実施態様において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、およびＲ^１９は、独立して、一価の炭化水素ラジカルである。アルキルラジカルの非限定的な例は、メチル、エチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、オクチル、デシル、ドデシル、セチル、ブトキシ、ヒドロキシプロピル、２，５，８−トリオキサデシル、トリアコンチル、および３，３，３−トリフルオロプロピルを含む。他の実施態様において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、およびＲ^１９は、独立して、アルキルラジカルおよびアリールラジカルからなる群より選択される。幾つかの非限定的な例は、Ｒ^６およびＲ^７が、フェニルラジカルのようなアリールラジカルであり、そしてＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^８、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、およびＲ^１９が、独立して、例えばメチル、エチル、およびプロピルのようなアルキルラジカルである組成物を含む。

構造（Ｉ）は、構造（Ｉ）の中でＲ^９として示される、少なくとも一つのペンダント型官能性の有機ケイ素基を含有する。この官能性の有機ケイ素基は、別の反応性官能基と共に共有結合を形成できる反応性基を一般に含有する。この反応性基は、アルコキシ基、アリールオキシ基、シクロアルコキシ基、チオアルコキシ基、チオアリールオキシ基、もしくはチオシクロアルコキシ基を含有する。一実施態様において、官能性の有機ケイ素基Ｒ^９は、一般構造（ＩＩ）：

を有する（アルコキシシリル）アルキル基であり；
式中、Ｌ^１は、二価の結合基あり；ｇは、０から２までの値を有し；そして、Ｒ^１１およびＲ^１２は、独立して、一価の炭化水素ラジカルである。一実施態様において、二価の結合基Ｌ^１は、一価のアルケニル基から誘導される。Ｌ^１の非限定的な例は、１−エテニル（しばしばビニルとも呼ばれる）、１−プロペニル、１−ブテニル、１−ペンテニル、およびスチレニルからなる群より選択される。特定の実施態様において、一価のアルケニル基は、ビニル基である。Ｒ^１１およびＲ^１２は、独立して、一価のアルキルラジカル、一価のアリールラジカル、もしくは一価のシクロアルキルラジカルである。一実施態様において、Ｒ^１１およびＲ^１２は、独立して、メチル、エチル、プロピル、ｎ−ブチル、シクロヘキシル、フェニル、ベンジル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、オクチル、デシル、ブトキシ、ドデシル、セチル、ヒドロキシプロピル、２，５，８−トリオキサデシル、トリアコンチル、および３，３，３−トリフルオロプロピルからなる群より選択される。

他の実施態様において、ペンダント型官能性の有機ケイ素基Ｒ^９は、構造（ＩＩＩ）：
Ｌ^２（Ｄ^３）_ｈ（Ｍ^２）_ｉ−Ｌ^３−Ｓｉ（Ｒ^１３）_ｇ’（ＯＲ^１４）_３−ｇ’ （ＩＩＩ）
を含有し；
式中、Ｌ^２およびＬ^３は、独立して、二価の結合基であり；ｇおよびｇ’は、独立して、０から２までの値を有し；Ｍ^２＝Ｒ^１５Ｒ^１６Ｒ^１７ＳｉＯｉ_１／２であり；そして、Ｄ^３＝Ｒ^１８Ｒ^１９ＳｉＯ_２／２であり；式中、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、およびＲ^１９は、独立して、１から６０個の炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカルであり；そして、ｈおよびｉは、ゼロもしくは正である化学量論的な下付文字であり、次の限定に従う：ｉ＝０である時、ｈは少なくとも１である。結合基Ｌ^２およびＬ^３は、同じであるか、もしくは異なる二価のアルキル基であってよい。この二価のアルキル基は、一価のアルケニル基から誘導できる。Ｌ^１、Ｌ^２、およびＬ^３の非限定的な例は、１−エテニル（しばしばビニルとも呼ばれる）、１−プロペニル、１−ブテニル、１−ペンテニル、およびスチレニルからなる群より選択される例を含む。さらに特に、結合基Ｌ^１、Ｌ^２、およびＬ^３は、各々がビニルラジカルである。一価の炭化水素ラジカルＲ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、およびＲ^１９は、独立して、アルキルラジカル、シクロアルキルラジカル、およびアリールラジカルから選択される。一実施態様において、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、およびＲ^１９は、独立して、メチル、エチル、プロピル、ｎ−ブチル、シクロヘキシル、フェニル、ベンジル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、３−ヒドロキシプロピル、ブトキシ、オクチル、デシル、ドデシル、およびセチルからなる群より選択される。一般構造（ＩＩＩ）の範囲内に入るペンダント型官能性の有機ケイ素基Ｒ^９の例は、構造（ＩＶ）：

を有し；
式中、ａ’は、１から５００までの値を有し；そして、Ｄ＝（ＣＨ_３）_２ＳｉＯ_１／２である。

この組成物は、それぞれがエポキシ基を有する、二つまでの一価の炭化水素ラジカルを含有する。このラジカルは、構造（Ｉ）においてＲ^Ｅとして表され、一般構造（Ｖ）：

を有し；
式中、Ｒ^２９、Ｒ^３０、Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３３、およびＲ^３４は、独立して、水素原子と、１から６０個までの炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカルとからなる群より選択され；Ｗ^１は、１から６０個までの炭素原子を有する二価もしくは三価の炭化水素ラジカルであり；Ｗ^２は、１から６０個までの炭素原子を有する二価の炭化水素ラジカルであり；そして、下付文字ｐおよびｑは、独立して、ゼロもしくは１であり、Ｗ^１が三価である時、Ｒ^２９もしくはＲ^３１の一つは水素原子である、という限定に従う。一実施態様において、Ｒ^Ｅは、構造（ＶＩ）、（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）、（ＩＸ）、（Ｘ）、および（ＸＩ）：

からなる群より選択され、
式中、ｒは、２から２０までの値を有する。特定の実施態様において、Ｒ^Ｅは、構造（ＶＩ）であり、これは市販の４−ビニルシクロヘキセンから容易に誘導されるからである。

他の実施態様において、Ｒ^Ｅは、構造（Ｖ）を有し；式中、Ｒ^２９、Ｒ^３０、Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３３、およびＲ^３４は、水素であり；そして、ｐおよびｑはゼロである。

構造（Ｉ）によって表される組成物は、ｂが２の値を有する化合物を一般に包含する。一実施態様において、ｂが２である時、ｄは１と等しいかもしくはそれ以上である。構造（Ｉ）の範囲内に入る組成物の幾つかの非限定的な例は、構造（ＸＩＩ）を有する。

別の実施態様において、この組成物は、ｓが約６であり、そしてｔが約３である構造（ＸＩＩ）を；他の実施態様において、ｓがゼロであり、そしてｔが約３である構造（ＸＩＩ）を；そして、ｓが約６であり、そしてｔが約７である構造（ＸＩＩ）を有する。

他の実施態様において、ここで開示される組成物は、構造（ＸＩＩＩ）：
（Ｍ^Ｅ）_ｊ（Ｄ^４）_ｋ（Ｄ^５）_ｌ （ＸＩＩＩ）
を含有し；
式中、Ｍ^Ｅ＝Ｒ^２０Ｒ^２１Ｒ^ＥＳｉＯ_１／２であり；Ｄ^４＝Ｒ^２２Ｒ^２３ＳｉＯ_２／２であり；そして、Ｄ^５＝Ｒ^２４Ｒ^２５ＳｉＯ_２／２であり；式中、Ｒ^２０、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３、Ｒ^２４、およびＲ^２５は、独立して、一価の炭化水素ラジカルであり；それぞれのＲ^Ｅは、独立して、エポキシ基を含有する一価の炭化水素ラジカルであり；Ｒ^２５＝−Ｌ^４−Ｓｉ（Ｒ^２６）_ｍ（ＯＲ^２７）_３−ｍであり；式中、Ｌ^４は、二価の結合基であり；ｍは、０から２までの値を有し；そして、Ｒ^２６およびＲ^２７は、独立して、一価の炭化水素ラジカルであり；ｊは２の値を有し；ｋは０もしくは１より大きく；そして、ｌは１と等しいかもしくはそれ以上である。さらに、構造（ＸＩＩＩ）において示される組成物は、独立して、Ｔ単位およびＱ単位を含有してよく、これは構造（Ｉ）に関して以前になされたのと同様の方法で定義される。一実施態様において、構造（ＸＩＩＩ）の組成物は、４−ビニルシクロヘキセンエポキシドの容易な入手可能性のため、構造（ＶＩ）を有するＲ^Ｅを含有する。

構造（Ｉ）を有する組成物は、次のような方法で容易に製造できる。最初に、構造（ＸＩＶ）：
（Ｍ^１）_ａ（Ｍ^Ｈ）_ｂ（Ｄ^１）_ｃ（Ｔ）_ｅ（Ｑ）_ｆ （ＸＩＶ）
を有する有機ケイ素ヒドリドが、エポキシオレフィンと反応して、構造（ＸＶ）：
（Ｍ^１）_ａ（Ｍ^Ｅ）_ｂ（Ｄ^１）_ｃ（Ｔ）_ｅ（Ｑ）_ｆ （ＸＶ）
を有する第一の中間体生成物を生成し；
式中、Ｍ^１＝Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３ＳｉＯ_１／２であり；Ｍ^Ｈ＝Ｒ^４Ｒ^５ＨＳｉＯ_１／２であり；Ｄ^１＝Ｒ^６Ｒ^７ＳｉＯ_２／２であり；Ｔ＝Ｒ^１０ＳｉＯ_３／２であり；Ｑ＝ＳｉＯ_４／２であり；そして、Ｍ^Ｅ＝Ｒ^４Ｒ^５Ｒ^ＥＳｉＯ_１／２であり；式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、およびＲ^１０は、独立して、一価の炭化水素ラジカルであり；それぞれのＲ^Ｅは、独立して、エポキシ基を含有する一価の炭化水素ラジカルであり；そして、ａ、ｂ、ｃ、ｅ、およびｆは、ゼロもしくは正である化学量論的な下付文字であり、次の限定に従う：ｂは２の値を有し；そして、（ａ＋ｃ＋ｅ＋ｆ）がゼロと等しい時、ｂは２と等しい。

一つもしくは二つの末端Ｓｉ−Ｈ結合を有する任意の有機ケイ素ヒドリドを、エポキシオレフィンのヒドロシリル化に用いてよい。構造（ＸＶ）において、ｂが２である第一の中間体生成物を製造するために、様々な、ヒドリドでキャップ化されたオルガノシリコーン（すなわち、直鎖のオルガノシリコーンの各末端が、一つのＳｉ−Ｈ結合を有する）を、有機ケイ素ヒドリドとして使用してよい。市販されているヒドリドでキャップ化されたオルガノシリコーンの任意のものを使用してよい。

好適なエポキシオレフィンは、一般構造（ＸＶＩ）：

によって表され；
式中、Ｒ^２９、Ｒ^３０、Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３３、およびＲ^３４は、独立して、水素原子と、１から６０個までの炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカルとからなる群より選択され；Ｗ^１は、１から６０個までの炭素原子を有する二価もしくは三価の炭化水素ラジカルであり；Ｗ^２は、１から６０個までの炭素原子を有する二価の炭化水素ラジカルであり；そして、下付き文字ｐおよびｑは、独立して、ゼロもしくは１であり、Ｗ^１が三価である時、Ｒ^２９もしくはＲ^３０の一つは水素原子である、という限定に従う。

エポキシオレフィンの具体例は、構造（ＸＶＩＩ）から（ＸＸＩＩ）において示される。

一実施態様において、エポキシオレフィンは、リモネンオキシド、１，２−エポキシ−７−オクテン、１，２−エポキシ−９−デセン、１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキサン、１，２−エポキシ−５−ヘキセン、１，２−エポキシ−９−デセン、３，４−エポキシ−１−ブテン、アリルグリシジルエーテル、１，２−エポキシ−７−オクテン、２，３−エポキシ−５，６−ノルボルネン、および２−（４−アリルオキシフェニル）−２−（４−グリシジルロキシフェニル）プロパン、もしくはそれらの混合物からなる群より選択される。

次に、上述のように得られた第一の中間体生成物は、構造（ＸＸＩＩＩ）：
（Ｄ^６）_ｎ （ＸＸＩＩＩ）
を有する環状シロキサンと反応して、構造（Ｍ^１）_ａ（Ｍ^Ｅ）_ｂ（Ｄ^１）_ｃ（Ｄ^６）_ｏ（Ｔ）_ｅ（Ｑ）_ｆを有する第二の中間体生成物を生成し；式中、Ｄ^６は、Ｒ^８Ｒ^２８ＳｉＯ_２／２であり；式中、Ｒ^８は、一価の炭化水素ラジカルであり；Ｒ^２８は、一価のアルケニル基であり；そして、ａ、ｂ、ｃ、ｅ、およびｆは、ゼロもしくは正である化学量論的な下付文字であり、そしてｎおよびｏは、正である化学量論的な下付文字であり、次の限定に従う：ｎは３と等しいかもしくはそれ以上であり；ｂは２の値を有し；ｄは１と等しいかもしくはそれ以上であり；そして、（ａ＋ｃ＋ｅ＋ｆ）がゼロと等しい時、（ｂ＋ｏ）は３と等しいかもしくはそれ以上である。環状シロキサンは、環状の（オルガノアルケニル）シロキサンを含有する。各ケイ素原子が一つのアルキル基と、一つのアルケニル基とを有する任意の環状の（オルガノアルケニル）シロキサンを使用してよい。構造（ＸＸＩＩ）の環状シロキサンの非限定的な例は、テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン、テトラプロピルテトラビニルテトラシロキサン、テトラアリルテトラエチルシクロテトラシロキサン、およびテトラオクチルテトラビニルシクロテトラシロキサンを含む。触媒は、この反応を促進するために一般に使用される。例えば、水酸化セシウムのようなアルカリ金属水酸化物は、第二の中間体生成物を生成するために用いられ得る。

第二の中間体生成物は、次に、（アルコキシ）ヒドロシランと反応し、それによって、アルケニル基が（アルコキシ）ヒドロシランのＳｉ−Ｈ結合によってヒドロシリル化され、一般構造（Ｉ）を有する、所望の組成物を生成する。一般に、化合物のどこかに位置している一つのＳｉ−Ｈ結合と、少なくとも一つのケイ素−アルコキシ結合とを有する任意の化合物は、第三ステップのために有用な（アルコキシ）ヒドロシランとみなされ得る。一実施態様において、（アルコキシ）ヒドロシランは、構造（ＸＸＩＩＩ）：
ＨＳｉ（Ｒ^１１）_ｇ（ＯＲ^１２）_３−ｇ （ＸＸＩＩＩ）
を有し；
式中、Ｒ^１１およびＲ^１２は、独立して、一価の炭化水素ラジカルであり；そして、ｇは、ゼロから２までの値を有する。この（アルコキシ）ヒドロシラン（ＸＸＩＩＩ）は、第二の中間体生成物と反応して、構造（Ｍ^１）_ａ（Ｍ^Ｅ）_ｂ（Ｄ^１）_ｃ（Ｄ^２）_ｄ（Ｔ）_ｅ（Ｑ）_ｆを含有する所望の組成物を与え；式中、Ｍ^１＝Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３ＳｉＯ_１／２であり；Ｍ^Ｅ＝Ｒ^４Ｒ^５Ｒ^ＥＳｉＯ_１／２であり；Ｄ^１＝Ｒ^６Ｒ^７ＳｉＯ_２／２であり；Ｄ^２＝Ｒ^８Ｒ^９ＳｉＯ_２／２であり；Ｔ＝Ｒ^１０ＳｉＯ_３／２であり；そして、Ｑ＝ＳｉＯ_４／２であり；
式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、およびＲ^１０は、独立して、一価の炭化水素ラジカルであり；各Ｒ^Ｅは、エポキシ基を含有する一価の炭化水素ラジカルであるであり；そして、Ｒ^９は、−Ｌ^１−Ｓｉ（Ｒ^１１）_ｇ（ＯＲ^１２）_３−ｇを含有し；式中、Ｌ^１は、構造（Ｍ^１）_ａ（Ｍ^Ｅ）_ｂ（Ｄ^１）_ｃ（Ｄ^６）_ｏ（Ｔ）_ｅ（Ｑ）_ｆ（上述）を有する第二の中間体生成物において、アルケニル基Ｒ^２８から誘導され；そして、Ｒ^１１、Ｒ^１２、およびｇは、構造（ＸＩＩＩ）に関して記載したとおりである。

（アルコキシ）ヒドロシランはまた、構造（ＸＸＩＶ）：
Ｍ^３（Ｍ^２）_ｉ（Ｄ^３）_ｈ−Ｌ^３−Ｓｉ（Ｒ^１３）_ｇ’（ＯＲ^１４）_３−ｇ’ （ＸＸＩＶ）
を有していてもよく；
式中、Ｌ^３、ｇ、およびｇ’は、構造（ＩＩＩ）に関して以前に説明したとおりであり；Ｍ^２＝Ｒ^１５Ｒ^１６Ｒ^１７ＳｉＯ_１／２であり；Ｄ^３＝Ｒ^１８Ｒ^１９ＳｉＯ_２／２であり；そして、Ｍ^３＝ＨＲ^３５Ｒ^３６ＳｉＯ_２／２であり；式中、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^３５、およびＲ^３６は、独立して、一価の炭化水素ラジカルであり；そして、式中、ｈおよびｉは、ゼロもしくは正である化学量論的な下付文字であり、次の限定に従う：ｉ＝０である時、ｈは少なくとも１である。

構造（ＸＸＩＶ）を有する（アルコキシ）シラン化合物は、例えばヒドリドでキャップ化されたシロキサン（すなわち、シロキサン各末端に、一つのＳｉ−Ｈ結合を有するシロキサン）の一つの末端を選択的にヒドロシリル化することによって、（アルケニル）アルコキシシランから製造され得る。ロジウム触媒は、この種の選択性を達成するのに用いてよい。次に、構造（ＸＸＩＶ）を有する（アルコキシ）ヒドロシランを第二の中間体生成物（以前に記載した）と反応させて、構造（Ｉ）を有する所望の組成物を製造できる。構造（ＸＸＩＶ）を有する（アルコキシ）ヒドロシランの例は、構造（ＸＸＶ）に示され、これは反応式（Ｉ）：

に示される合成方法によって製造でき；
式中、Ｍ^Ｈ＝Ｈ（ＣＨ_３）_２ＳｉＯ_１／２であり；そして、Ｄ＝（ＣＨ_３）_２ＳｉＯ_２／２である。この例において、結合基Ｌ^３は、反応物のアリルトリエトキシシランのアリル基から誘導される。（アルコキシ）シラン（ＸＸＶ）が、構造（Ｍ^１）_ａ（Ｍ^Ｅ）_ｂ（Ｄ^１）_ｃ（Ｄ^６）_ｏ（Ｔ）_ｅ（Ｑ）_ｆ（上述）を有する第二の中間体生成物と反応する時、結合基Ｌ^２は、構造（ＸＸＶ）のＭ^Ｈ単位と反応する第二の中間体生成物のＤ^６単位のアルケニル基Ｒ^２８から誘導される。

（アルコキシ）ヒドロシランによる、第二の中間体生成物のアルケニル基Ｒ^２８のヒドロシリル化を伴う第三ステップは、通常は触媒の存在下で実施される。この触媒は、有機過酸化物もしくは有機アゾ化合物のような遊離基触媒であってよい。過酸化触媒の例は、ベンゾイルペルオキシド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）ヘキサンなどを含む。触媒は、白金のような遷移金属の有機金属錯体であってもよく、これはヒドロシリル化触媒として一般に使用される。ロジウム触媒もまた用いられ得る。通常、白金触媒は、熱エネルギーもしくは光化学エネルギーのような外部からの刺激の適用により、活性状態が発生しうるような、潜在性の状態で導入される。例えば、１−エチニル−シクロヘキサン−１−オールの白金錯体は、触媒の潜在性の状態として使用され得る。ヒドロシリル化反応混合物が加熱されるとき、この白金錯体は、１−エチニルシクロヘキサン−１−オールを放出し、これによって白金触媒の活性な状態を放出する。当分野で既知の別の触媒、例えば、プロピオン酸ナトリウムもまた使用できる。触媒の混合物も使用できる。少なくとも一つのアルコキシ基と、一つのＳｉ−Ｈ結合とを有する任意のアルコキシシランを使用できる。Ｓｉ−Ｈ結合を含有する（アルコキシ）ヒドロシランの非限定的な例は、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリフェノキシシラン、およびトリブトキシシランを含む。

先に記載した方法を、構造（Ｉ）を有する組成物を製造するのに利用してよく；式中、ｅおよびｆはゼロであり、ａは１もしくは２であり、（ａ＋ｂ）＝２、という限定を伴い；そして、ｃは０から５００までの値を有する。他の実施態様において、この方法は、構造（ＸＸＩＩＩ）を有する環状シロキサンを選択することによって、構造（Ｉ）を有する組成物を製造するのに使用され得；式中、Ｒ^８は、メチル、エチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、オクチル、デシル、ドデシル、セチル、ヒドロキシプロピル、ブトキシ、２，５，８−トリオキサデシル、トリアコンチル、および３，３，３−トリフルオロプロピルからなる群より選択され；Ｒ^２８は、１−エテニル、１−プロペニル、１−ブテニル、１−ペンテニル、およびスチレニルからなる群より選択され；そして、ｎは３から６の値を有する。より詳細に、この方法は、Ｒ^８がメチルであり、Ｒ^２８が１−エテニルであり、そして、ｎが４である、構造（ＸＸＩＩＩ）を有する環状シロキサンを利用できる。

（Ｉ）および（ＸＩＩＩ）のような構造によって表される組成物は、様々な重合体組成物を製造するのに有益である。この重合体組成物は、構造（Ｉ）もしくは（ＸＩＩＩ）のエポキシ端末基およびペンダント型の（アルコキシシリル）アルキル基と、エポキシ基および／もしくは（アルコキシシリル）アルキル基に対して反応性のある少なくとも一つの官能基を有する重合体との反応から生じる反応生成物を含有する。様々な官能基が、エポキシ基と反応しうる。エポキシ基と反応できる官能基の非限定的な例は、カルボキシル含有基、アミン基、メルカプタン基、およびヒドロキシ基を含む。反応性アミン基は、第一級および第二級のアミン基を含み；反応性ヒドロキシ基は、芳香族ヒドロキシ基（もしくは、フェノール性のＯＨ基）、脂肪族ヒドロキシ基、もしくは脂環式ヒドロキシ基を含む。反応性のカルボキシル含有基の幾つかの例は、カルボン酸基、カルボキシルエステル基、およびカルボキシアミド基を含む。カルボン酸官能基は、エポキシ基との反応でエステル結合を生成することができるので、特に有用である。それ故に、一実施態様において、構造（Ｉ）もしくは（ＸＩＩＩ）を有するシリコーン組成物は、カルボン酸のような、反応性末端基を有するポリエステルにとって、鎖長の延長剤としての役割を果たすことができる。エポキシ基に対して反応性のある重合体は、脂肪族、芳香族、および脂環式のカルボン酸官能基を含有してよい。さらに、エポキシ基に対して反応性のある重合体は、一つの実施態様において、一つのカルボン酸官能基を、そして他の実施態様において、二つのカルボン酸官能基を含有することができる。一つのカルボン酸官能基では、鎖長の延長は、シリコーン組成物（Ｉ）もしくは（ＸＩＩＩ）の一方の端で起きるのに対して、二つのカルボン酸基では、鎖長の延長は、シリコーン組成物の両方の端で起きる。カルボン酸末端基を有する重合体の例は、種々のポリエステルを含む。そのようなポリエステルは、当分野で既知の技術を使い、ジカルボン酸とジヒドロキシ化合物との相対的な化学量論を調整することによって容易に製造され得る。構造（Ｉ）もしくは（ＸＩＩＩ）を有する組成物から、鎖長が延長した重合体組成物を製造するために使用できる有用なポリエステルの具体例は、構造（ＸＸＶＩ）および（ＸＸＶＩＩ）を有する。

鎖長が延長されたポリエステルのような、鎖長が延長された重合体は、一般に元のポリエステルと比較して、改良された堅牢性と、改良された耐化学性とを有する。利用してよい別の有用な重合体は、ヒドロキシ基とカルボン酸基とを有する単量体を重合することによって製造されるものを含む。

アミン末端重合体は、構造（Ｉ）および（ＸＩＩＩ）を有する組成物の鎖長延長ができる重合体としての役割を果たすこともできる。例えば、重合体における第一級もしくは第二級のアミン末端基は、エポキシ基と反応して、有用な反応生成物を生じる。そのような反応生成物は、金属表面への密着性のような、優れた性質を有することができ、これにより、反応生成物を、例えば金属表面を保護するようなコーティング剤用途のために有益なものとなす。

（ｉ）上述のような構造（Ｉ）もしくは（ＸＩＩＩ）におけるエポキシ基と、種々の反応性官能基との反応ならびに（ｉｉ）ペンダント型の（アルコキシシリル）アルキル基のさらなる反応の組合せは、種々の最終的な使用の用途にとって有益な様々な架橋生成物を提供する。この（アルコキシシリル）アルキル基のさらなる変換は、ケイ素に結合したアルコキシ基が反応するために公知の条件下で実施し得る。一般構造（ＩＩ）もしくは（ＩＩＩ）において記載されるように、（アルコキシシリル）アルキル基は、三つまでのアルコキシ基を有し得るので、種々な程度の架橋が達成され得る。（アルコキシシリル）アルキル基のアルコキシ基は、いずれも自己縮合して、架橋されたシリコーン重合体の網目を形成できる。代替的に、（アルコキシシリル）アルキル基のアルコキシ基は、アルコキシ基を有する別のシリコーン樹脂と反応でき、新しい型の架橋シリコーン産物を提供する。それゆえに、一実施態様において、有用な重合体組成物は、反応（ｉ）および（ｉｉ）から生じる反応生成物を含有する。例えば、有用な重合体組成物は、鎖長が延長されたポリエステルと、架橋されたシリコーン網目とを含有する構造を有する。

上述の重合体組成物は、コーティング剤を製造するために一般的に有用である。このコーティング剤は、例えば耐候性コーティング剤、耐腐食性コーティング剤、および耐薬品性コーティング剤のような種々の最終用途に使われ得る。さらに、構造（Ｉ）もしくは（ＸＩＩＩ）を有する組成物は、脂肪族エポキシ樹脂、シリコーン中間体、アルコキシシラン、およびアミノシランにより構造化されて、別の有用なタイプの重合体組成物を提供する。アミノシランのアミノ基は、通常の方法でエポキシ樹脂を硬化し、そしてシリコーンとアルコキシシランの成分と共に、加水分解性の重縮合反応に関与する。さらに、長期の柔軟性を維持するコーティング剤を製造することができ、これはそれらを耐久力のある保護コーティング剤を生成するのに魅力的なものにする。このコーティング剤は、刷毛、ローラー、および、無気スプレーもしくは汎用のスプレーによって塗布される。ここで開示されるコーティング剤組成物は、鋼鉄への優れた密着性と、無機基質との融和性を潜在的に有する。いかなる理論にも縛られることなく、高い密着性は、優れた濡れ特性ならびに接着促進剤として機能を果たす能力に起因すると考えられる。ペンダント型の（アルコキシシリル）アルキル基のアルコキシシラン基は、加水分解し、そして金属の無機基質上のヒドロキシ基と反応して、周知のシラン接着促進剤と同様の方法で化学結合を生成する。このコーティング剤物質は、必ずしも表面をきれいにしたり、整えたりすることなく、砂吹き鋼鉄表面や錆びた鋼鉄へと塗布され得る。有機下塗剤は、ここに開示されたコーティング剤組成物を含有するコーティング剤組成物の塗布に先立って、使われてもよい。ケイ酸亜鉛のような無機下塗剤もまた使われてよい。

別の用途において、エポキシでキャップ化された組成物は、光沢を調節する添加物として使用されてよい。例えば、エポキシでキャップ化された組成物が、押出機の中で、ＡＢＳのような耐衝撃改良剤やポリブチレンテレフターレートのような重合体と共に配合されるとき、生じる物質は、エポキシでキャップ化された組成物なしで製造された配合物と比較して、減少した光沢を有する。そのような減少した光沢を有する重合物は、フロントパネルのような自動車の装飾用として有用である。

このコーティング剤組成物は、アルカリおよび溶媒に対して優れた耐性をも潜在的に与える。さらに、このコーティング剤は、優れた耐候性を潜在的に有しており、これはそれらを屋外のコーティング剤用途に適したものにする。そのようなコーティング剤は、粉吹き、割れ、脆化、もしくは色褪せがないか、ほとんどなく、そして延長された期間にわたり光沢を維持する、もしくは調節すると期待される。一実施態様において、このような耐久力のあるコーティング剤は、長い直線状のシリコーン鎖を含有する構造（Ｉ）もしくは（ＸＩＩＩ）を含有する組成物を使用することによって達成され得る。それ故に、一実施態様において、そのようなコーティング剤組成物は、優れた色彩保有と光沢保持とを、一方では優れた腐食耐性と化学耐性との維持をも示すことができる。一実施態様において、コーティング剤組成物の架橋密度は、構造（Ｉ）および（ＸＩＩＩ）において、適切な（アルコキシアルキル）シラン官能基を使用することによって制御できる。このような方法は、改良された密着性、および／もしくは、改良された化学的な耐性、および／もしくは、改良された湿気耐性を有することのできるコーティング剤を導き得る。構造（Ｉ）もしくは（ＸＩＩＩ）のシロキサン鎖部分における炭化水素ラジカルの適切な選択によって、柔軟性および／もしくは、調節された光沢を保持するコーティング剤を製造することが可能である。

ここに記載されたコーティング剤組成物の多くの別の最終使用の用途が、可能である。金属へのコーティングに加えて、プラスチック、織物、および紙のような物質のコーティングに、それらを用いてよい。紙への用途としては、それらを紙剥離剤および紙のにじみ防止助剤として使用してよい。これらは概して汚れ耐性コーティング剤を製造するためにも使ってよい。

実施例１．エポキシでキャップ化されたオルガノシリコーンＭ^Ｅ（Ｄ）_６（Ｄ^７）_３Ｍ^Ｅ

を製造する手順であって；
式中、Ｍ^Ｅ＝ 、Ｄ＝（ＣＨ_３）_２ＳｉＯ_２／２であり、；そして、Ｄ^７＝（Ｃ_２Ｈ_５Ｏ）_３ＳｉＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＣＨ_３）−Ｏ_２／２である。この手順で使用されるヒドロシリル化剤は、構造Ｍ^Ｈ（Ｄ）_６Ｍ^Ｈを有し、式中、Ｍ^Ｈ＝Ｈ（ＣＨ_３）_２Ｓｉ−Ｏ_３／２であり；そして、Ｄは、Ｍ^Ｅ（Ｄ）_６（Ｄ^７）_３Ｍ^Ｅについて上で定義したとおりである。

１００ｍｌの二口丸底フラスコに入れた、ヒドリドでキャップ化されたポリジメチルシロキサンＭ^Ｈ（Ｄ）_６Ｍ^Ｈ（２０グラム）に、トリエチルアミン（２０マイクロリットル）、ジクロロメタン（６ミリリットル）と、４−ビニルシクロヘキセンエポキシド（ＶＣＨＥ、９グラム）とを、常温でマグネチックスタラーを使って撹拌しながら加えた。次に、カルステッド触媒（ジクロロメタン溶液を１０マイクロリットル）を加えた。発熱反応がその結果として起きた。一晩（１８時間）撹拌したあと、ロータリーエバポレーターを使って反応混合物から揮発物を取り除いた。蒸発フラスコに残った残渣物質は、無色の液体であり、これが所望の第一の中間体、Ｍ^Ｅ（Ｄ）_６Ｍ^Ｅ〔式中、Ｍ^ＥおよびＤは、上で定義したとおりである〕であることを赤外（ＩＲ）分光法と核磁気共鳴（ＮＭＲ）分光法とによって同定した。この生成物の重量は、２３．５グラムであり、理論収率の８２パーセントである。生成物のプロトンＮＭＲスペクトルは、ピークを同定して図１に示され、これはエポキシのプロトン、シクロヘキシルとこれに隣接するメチレンとのプロトン、Ｓｉ−ＣＨ_２のプロトン、およびＳｉ−ＣＨ_３のプロトンに起因するピークの相対強度比が、理論で期待されたように、それぞれ４：１８：１８：４４であることを示した。

Ｍ^Ｅ（Ｄ）_６Ｍ^Ｅ（５７．９グラム）と、（Ｄ^Ｖｉ）_４〔式中、Ｄ^Ｖｉ＝ＣＨ_３（ＣＨ＝ＣＨ_２）ＳｉＯ_２／２である〕（１８．１グラム）との攪拌されている混合物に対して、水酸化セシウム触媒（Ｍ^Ｅ（Ｄ）_６Ｍ^Ｅと（Ｄ^Ｖｉ）_４との合計重量に対して１００万当たり１０部）を常温で加えた。生じた混合物を１３０℃に加熱した。反応の経過は、固体の含量を測定することによって観察した。２８時間加熱したあと、固体の含量は、９０．５パーセントで一定であることが見出された。揮発物は、減圧蒸留によって取り除き、そして反応フラスコに残った残渣物質が、所望の第二の中間体生成物、Ｍ^Ｅ（Ｄ）_６（Ｄ^Ｖｉ）_３Ｍ^ＥであることをＩＲ分光法とＮＭＲ分光法とによって同定した。単離した生成物の重量は、６８．５ｇ（理論の９０パーセント）であった。この生成物のプロトンＮＭＲスペクトルは、ピークを同定して図２に示され、これはビニルのプロトン、エポキシのプロトン、シクロヘキシルとこれに隣接するメチレンとのプロトン、Ｓｉ−ＣＨ_２のプロトン、およびＳｉ−ＣＨ_３のプロトンに起因するピークの相対強度比は、理論によって期待されるように、それぞれ９：４：１５：１８：５７であることを示した。さらに生成物のｓｉｌｉｃｏｎ−２９ＮＭＲスペクトルは、理論的によって期待されるように、２：６：３の相対比でＭ^Ｅのケイ素、Ｄのケイ素、およびＤ^Ｖｉのケイ素のピークを示した。全反射減衰法で測定された生成物のＩＲスペクトルは、２９６１、１５９８、１４０８、１２５８、１０１８、７９３、６３３、および５３８毎センチメートル（ｃｍ^−１）で共振を示した。

２５０ｍｌの二口丸底フラスコにＭ^Ｅ（Ｄ）_６（Ｄ^Ｖｉ）_３Ｍ^Ｅ（２３グラム）を入れ、そしてトリエトキシシラン（１０．４グラム）により常温で処理した。次に、撹拌した混合物をカルステッド触媒（Ｍ^Ｅ（Ｄ）_６（Ｄ^Ｖｉ）_３Ｍ^Ｅと、トリエトキシシランとの合計重量に対して１００万当たり１０部）により処理し、そして７０℃の温度に加熱した。反応の経過は、ＩＲ分光法でＳｉ−Ｈ吸収帯の消失を観察することによって観察した。２４時間加熱したあと、Ｓｉ−ＨのＩＲ吸収帯は、完全に消失した。揮発物を減圧蒸留によって反応混合物から蒸発させて、残渣物質を得て、これが所望の生成物、Ｍ^Ｅ（Ｄ）_６（Ｄ^７）_３Ｍ^ＥであることをＩＲ分光法およびＮＭＲ分光法によって同定した。生成物は、２９ｇの収量（理論の８７パーセント）で得られた。ピークの同定をして図３に示すプロトンＮＭＲスペクトルは、ＯＣＨ_２のプロトン；エポキシのプロトン；シクロヘキシルのプロトンと、シクロヘキシル基に隣接するＣＨ_２のプロトンと、エポキシ基のメチルのプロトンとの組合せ；Ｓｉ−ＣＨ_２のプロトン；および、Ｓｉ−ＣＨ_３のプロトン；に起因するピークの相対強度比は、それぞれ１８：４：４５：１６：５７を示し、これは理論によって期待される相対強度比に非常に近い。さらに、生成物のｓｉｌｉｃｏｎ−２９ＮＭＲスペクトルは、図４でピークを同定して示され、これは理論によって期待されるように、Ｍ^Ｅのケイ素、Ｄのケイ素、およびＤ^Ｖｉのケイ素のピークを２：６：３の相対比で示した。全反射減衰法で測定された生成物のＩＲスペクトルは、２９６３、１４４４、１３９０、１２５７、１０７３、１０１６、７５０、および５４２毎センチメートル（ｃｍ^−１）で共振を示した。

ＭＢＳを有する配合物の場合において、エポキシでキャップ化されたシリコーンを有していない対照−１として表される配合物は、０．２５重量パーセントおよび３重量パーセントのエポキシ化されたシリコーンをそれぞれ有する実施例２および３の配合物よりも高い光沢を有することを、データは示す。さらに、エポキシでキャップ化されたオルガノシリコーンの重量パーセントが、０．２５重量パーセントから３重量パーセントまで増加するとき、重合体配合物の光沢は、９６．５から８７．５まで減少することが、実施例２および３からも明らかである。

本発明の特定の特徴だけを説明し、そして記載してきたけれども、多くの修正や変更を、当業者は思いつくであろう。それゆえに、添付された請求項は、総てのそのような修正や変更を、本発明の真の精神の範囲内に入るものとして包含することを意図されている、と理解するべきである。

Claims (32)

1. 構造：
   （Ｍ^１）_ａ（Ｍ^Ｅ）_ｂ（Ｄ^１）_ｃ（Ｄ^２）_ｄ（Ｔ）^ｅ（Ｑ）_ｆ
   を含有する組成物であって、
   式中、Ｍ^１＝Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３ＳｉＯ_１／２であり；Ｍ^Ｅ＝Ｒ^４Ｒ^５Ｒ^ＥＳｉＯ_１／２であり；Ｄ^１＝Ｒ^６Ｒ^７ＳｉＯ_２／２であり；Ｄ^２＝Ｒ^８Ｒ^９ＳｉＯ_２／２であり；Ｔ＝Ｒ^１０ＳｉＯ_３／２であり；そして、Ｑ＝ＳｉＯ_４／２であり；
   式中、各Ｒ^Ｅが、独立して、エポキシ基を含有する一価の炭化水素ラジカルであり；Ｒ^９が、−Ｌ^１−Ｓｉ（Ｒ^１１）_ｇ（ＯＲ^１２）_３−ｇもしくはＬ^２（Ｄ^３）_ｈ（Ｍ^２）_ｉ−Ｌ^３−Ｓｉ（Ｒ^１３）_ｇ’ＯＲ^１４）_３−ｇ’を含有し；式中、Ｌ^１、Ｌ^２、およびＬ^３が、独立して、二価の結合基であり；ｇおよびｇ’が、独立して、０から２までの値を有し；Ｍ^２＝Ｒ^１５Ｒ^１６Ｒ^１７ＳｉＯ_１／２であり；Ｄ^３＝Ｒ^１８Ｒ^１９ＳｉＯ_２／２であり；
   式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、およびＲ^１９が、独立して、一価の炭化水素ラジカルであり；
   式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｈ、およびｉが、ゼロもしくは正である化学量論的な下付文字であり、次の限定に従う：ｂが２の値を有し；ｄが１と等しいかもしくはそれ以上であり；（ａ＋ｃ＋ｅ＋ｆ）がゼロと等しい時、（ｂ＋ｄ）が３と等しいかもしくは以上であり；ｉ＝０である時、ｈが少なくとも１である、組成物。
2. Ｒ^Ｅが、構造：
   

   

   を有し、
   式中、Ｒ^２９、Ｒ^３０、Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３３、およびＲ^３４が、独立して、水素原子と、１から６０個までの炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカルとからなる群より選択され；Ｗ^１が、１から６０個までの炭素原子を有する二価もしくは三価の炭化水素ラジカルであり；Ｗ^２が、１から６０個までの炭素原子を有する二価の炭化水素ラジカルであり；そして、下付文字ｐおよびｑが、独立して、ゼロもしくは１であり、Ｗ^１が三価である時、Ｒ^２９もしくはＲ^３１の一つが水素原子である、という限定に従う、請求項１に記載の組成物。
3. Ｒ^Ｅが、
   

   

   または、これらの組合せからなる群より選択され；式中、ｒが２から２０までの値を有する、請求項１に記載の組成物。
4. Ｒ^２９、Ｒ^３０、Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３３、およびＲ^３４が、水素であり；そして、ｐおよびｑが、ゼロである、請求項２に記載の組成物。
5. Ｌ^１、Ｌ^２、およびＬ^３が、独立して、一価のアルケニル基から誘導される、請求項１に記載の組成物。
6. Ｌ^１、Ｌ^２、およびＬ^３が、独立して、１−エテニル、１−プロペニル、１−ブテニル、１−ペンテニル、およびスチレニルからなる群より選択される、請求項５に記載の組成物。
7. Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、およびＲ^１９が、独立して、メチル、エチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、オクチル、デシル、ブトキシ、ドデシル、セチル、ヒドロキシプロピル、ブトキシ、２，５，８−トリオキサデシル、トリアコンチル、および３，３，３−トリフルオロプロピルからなる群より選択される、請求項１に記載の組成物。
8. Ｒ^１１およびＲ^１２が、独立して、メチル、エチル、プロピル、ｎ−ブチル、シクロヘキシル、フェニル、ベンジル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、オクチル、デシル、ドデシル、セチル、ヒドロキシプロピル、ブトキシ、２，５，８−トリオキサデシル、トリアコンチル、および３，３，３−トリフルオロプロピルからなる群より選択される、請求項１に記載の組成物。
9. Ｒ^９が、−（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３である、請求項１に記載の組成物。
10. Ｒ^９が、構造：
    

    

    を有し；式中、ａ’が、１から５００までの値を有し：そして、Ｄ＝（ＣＨ_３）_２ＳｉＯ_１／２である、請求項１に記載の組成物。
11. 請求項１に記載の組成物と、少なくとも一つの反応性末端基を有する重合体との反応生成物を含有する重合体組成物。
12. 前記反応性末端基が、カルボン酸基である、請求項１１に記載の重合体組成物。
13. 前記重合体が、ポリエステルおよびポリアミドからなる群より選択される、請求項１２に記載の重合体組成物。
14. 請求項１に記載の組成物と、カルボン酸基により末端キャップ化されたポリエステルとの反応生成物を含有する重合体組成物。
15. カルボン酸基により末端キャップ化された重合体が、ポリエステルおよびポリアミドからなる群より選択される、請求項１４に記載の組成物。
16. 請求項１１に記載の重合体組成物を含有するコーティング剤組成物。
17. 請求項１５に記載の重合体組成物を含有するコーティング剤組成物。
18. 金属用コーティング剤、プラスチック用コーティング剤、織物用コーティング剤、もしくは紙用コーティング剤を含有する、請求項１６に記載のコーティング剤組成物。
19. 金属用コーティング剤、プラスチック用コーティング剤、織物用コーティング剤、もしくは紙用コーティング剤を含有する、請求項１７に記載のコーティング剤組成物。
20. 構造：
    （Ｍ^Ｅ）_ｊ（Ｄ^４）_ｋ（Ｄ^５）_ｌ
    を含有する組成物であって、
    式中、Ｍ^Ｅ＝Ｒ^２０Ｒ^２１Ｒ^ＥＳｉＯ_１／２であり；Ｄ^４＝Ｒ^２２Ｒ^２３ＳｉＯ_２／２であり；そして、Ｄ^５＝Ｒ^２４Ｒ^２５ＳｉＯ_２／２であり；式中、Ｒ^２０、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３、Ｒ^２４、およびＲ^２５が、独立して、一価の炭化水素ラジカルであり；各Ｒ^Ｅが、独立して、エポキシ基を有する一価の炭化水素ラジカルであり；Ｒ^２５＝−Ｌ^４−Ｓｉ（Ｒ^２６）_ｍ（ＯＲ^２７）_３−ｍであり；式中、Ｌ^４が、二価の結合基であり；ｍが、０から２までの値を有し；そして、Ｒ^２６およびＲ^２７が、独立して、一価の炭化水素ラジカルであり；ｊが２の値を有し；ｋが、ゼロもしくは１より大きく；そして、ｌが、１と等しいかもしくは以上である、組成物。
21. Ｒ^２０、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３、Ｒ^２４、およびＲ^２５が、独立して、メチル、エチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、オクチル、デシル、ドデシル、セチル、ヒドロキシプロピル、ブトキシ、２，５，８−トリオキサデシル、トリアコンチル、および３，３，３−トリフルオロプロピルからなる群より選択される、請求項２０に記載の組成物。
22. Ｒ^２６およびＲ^２７が、独立して、メチル、エチル、プロピル、ｎ−ブチル、シクロヘキシル、フェニル、ベンジル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、オクチル、デシル、ドデシル、セチル、ヒドロキシプロピル、ブトキシ、２，５，８−トリオキサデシル、トリアコンチル、および３，３，３−トリフルオロプロピルからなる群より選択される、請求項２０に記載の組成物。
23. Ｒ^Ｅが、
    

    

    である、請求項２０に記載の組成物。
24. 請求項２２に記載の組成物と、カルボン酸基により末端キャップ化された重合体との反応生成物を含有する重合体組成物。
25. 請求項２４に記載の重合体組成物を含有するコーティング剤組成物。
26. 組成物を製造する方法であって：
    構造（Ｍ^１）_ａ（Ｍ^Ｈ）_ｂ（Ｄ^１）_ｃ（Ｔ）_ｅ（Ｑ）_ｆを有する有機ケイ素ヒドリドをエポキシオレフィンと反応させて、構造（Ｍ^１）_ａ（Ｍ^Ｅ）_ｂ（Ｄ^１）_ｃ（Ｔ）_ｅ（Ｑ）_ｆを有する第一の中間体生成物を生成するステップであって、；
    式中、Ｍ^１＝Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３ＳｉＯ_１／２であり；Ｍ^Ｈ＝Ｒ^４Ｒ^５ＨＳｉＯ_１／２であり；Ｄ^１＝Ｒ^６Ｒ^７ＳｉＯ_２／２であり；Ｔ＝Ｒ^１０ＳｉＯ_３／２であり；Ｑ＝ＳｉＯ_４／２であり；そして、Ｍ^Ｅ＝Ｒ^４Ｒ^５Ｒ^ＥＳｉＯ_１／２であり；式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、およびＲ^１０が、独立して、一価の炭化水素ラジカルであり；各Ｒ^Ｅが、独立して、エポキシ基を含有する一価の炭化水素ラジカルであり；そして、ａ、ｂ、ｃ、ｅ、およびｆが、ゼロもしくは正である化学量論的な下付文字であり、次の限定に従う：ｂが、０≦ｂ≦２であるような値を有し；そして、（ａ＋ｃ＋ｅ＋ｆ）がゼロと等しい時、ｂが２と等しい、ステップ；
    前記第一の中間体生成物を、構造（Ｄ^６）_ｎを有する環状シロキサンと反応させて、構造（Ｍ^１）_ａ（Ｍ^Ｅ）_ｂ（Ｄ^１）_ｃ（Ｄ^６）_ｏ（Ｔ）_ｅ（Ｑ）_ｆを有する第二の中間体生成物を生成するステップであって；
    式中、Ｄ^６が、Ｒ^８Ｒ^２８ＳｉＯ_２／２であり；式中、Ｒ^８が、一価の炭化水素ラジカルであり；Ｒ^２８が、一価のアルケニル基であり；ａ、ｂ、ｃ、ｅ、ｆ、ｎ、およびｏが、ゼロもしくは正である化学量論的な下付文字であり、次の限定に従う：ｎが３と等しいかもしくはそれ以上であり；ｏが少なくとも１であり；ｂが２の値を有し；そして、（ａ＋ｃ＋ｅ＋ｆ）がゼロと等しい時、（ｂ＋ｏ）は３と等しいかもしくはそれ以上である、ステップ；そして、
    前記第二の中間体生成物を、（アルコキシ）ヒドロシランと反応させて、構造（Ｍ^１）_ａ（Ｍ^Ｅ）_ｂ（Ｄ^１）_ｃ（Ｄ^２）_ｄ（Ｔ）_ｅ（Ｑ）_ｆを有する前記組成物を生成するステップであって、；
    式中、Ｍ^１＝Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３ＳｉＯ_１／２であり；Ｍ^Ｅ＝Ｒ^４Ｒ^５Ｒ^ＥＳｉＯ_１／２であり；Ｄ^１＝Ｒ^６Ｒ^７ＳｉＯ_２／２であり；Ｄ^２＝Ｒ^８Ｒ^９ＳｉＯ_２／２であり；Ｔ＝Ｒ^１０ＳｉＯ_３／２であり；そして、Ｑ＝ＳｉＯ_４／２であり；式中、各Ｒ^Ｅが、独立して、エポキシ基を含有する一価の炭化水素ラジカルであり；Ｒ^９が、構造−Ｌ^１−Ｓｉ（Ｒ^１１）_ｇ（ＯＲ^１２）_３−ｇもしくはＬ^２（Ｄ^３）_ｈ（Ｍ^２）_ｉ−Ｌ^３−Ｓｉ（Ｒ^１３）_ｇ’（ＯＲ^１４）_３−ｇ’を含有するペンダント型官能性の有機ケイ素基を含有し；
    式中、Ｌ^１、Ｌ^２、およびＬ^３が、独立して、二価の結合基であり；ｇおよびｇ’が、独立して、０から２までの値を有し；Ｍ^２＝Ｒ^１５Ｒ^１６Ｒ^１７ＳｉＯ_１／２であり；Ｄ^３＝Ｒ^１８Ｒ^１９ＳｉＯ_２／２であり；
    式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ^１８、およびＲ^１９が、独立して、一価の炭化水素ラジカルであり；
    式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｈ、およびｉが、ゼロもしくは正である化学量論的な下付文字であり、次の限定に従う：ｂが２の値を有し；ｄが１と等しいかもしくはそれ以上であり；（ａ＋ｃ＋ｅ＋ｆ）がゼロと等しい時、（ｂ＋ｄ）が３と等しいかもしくはそれ以上であり；そして、ｉ＝０である時、ｈが少なくとも１である、ステップ、
    を含有する、方法。
27. 前記エポキシオレフィンが、構造：
    

    

    を有し、
    式中、Ｒ^２９、Ｒ^３０、Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３３、およびＲ^３４が、独立して、水素原子と、１から６０個までの炭素原子を有する一価の炭化水素ラジカルとからなる群より選択され；Ｗ^１が、１から６０個までの炭素原子を有する二価もしくは三価の炭化水素ラジカルであり；Ｗ^２が、１から６０個までの炭素原子を有する二価の炭化水素ラジカルであり；そして、下付文字ｐおよびｑが、独立して、ゼロもしくは１であり、Ｗ^１が三価である時、Ｒ^２９もしくはＲ^３０の一つが水素原子である、という限定に従う、請求項２６に記載の方法。
28. 前記エポキシオレフィンが、リモネンオキシド、１，２−エポキシ−７−オクテン、１，２−エポキシ−９−デセン、１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキサン、１，２−エポキシ−５−ヘキセン、１，２−エポキシ−９−デセン、３，４−エポキシ−１−ブテン、アリルグリシジルエーテル、１，２−エポキシ−７−オクテン、２，３−エポキシ−５，６−ノルボルネン、２−（４−アリルオキシフェニル）−２−（４−グリシジルオキシフェニル）プロパン、およびそれらの混合物からなる群より選択される、請求項２７に記載の方法。
29. ｅおよびｆが、ゼロであり；ａが、１もしくは２であり、（ａ＋ｂ）＝２という限定があり；そして、ｃが０から５００までの値を有する、請求項２６に記載の方法。
30. Ｒ^８が、メチル、エチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、オクチル、デシル、ドデシル、セチル、ブトキシ、ヒドロキシプロピル、２，５，８−トリオキサデシル、トリアコンチル、および３，３，３−トリフルオロプロピルからなる群より選択され；Ｒ^２８が、１−エテニル、１−プロペニル、１−ブテニル、１−ペンテニル、およびスチレニルからなる群より選択され；そして、ｎが３から６の値を有する、請求項２８に記載の方法。
31. Ｒ^８がメチルであり、Ｒ^２８が１−エテニルであり、そしてｎが４である、請求項３０に記載の方法。
32. 前記（アルコキシ）ヒドロシランが、トリエトキシシランを含有する、請求項２６に記載の方法。
    
    

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