JP2011503056A - 新しい有機発光素子化合物およびこれを用いた有機発光素子 - Google Patents

Abstract

本発明は、有機発光素子の寿命、効率、電気化学的安定性および熱的安定性を大きく向上させられる新規化合物、および前記化合物が有機化合物層に含まれている有機発光素子を提供する。

Description

本発明は、有機発光素子の寿命、効率、電気化学的安定性および熱的安定性を大きく向上させることができる新規化合物が有機化合物層に含まれている有機発光素子に関する。本出願は２００７年１１月１８日に韓国特許庁に提出された韓国特許出願第１０−２００７−０１１３８５２号の出願日の利益を主張し、その内容の全ては本明細書に援用される。

有機発光現象は特定有機分子の内部プロセスによって電流が可視光に転換される例の１つである。有機発光現象の原理は次の通りである。正極と負極との間に有機物層を介在した時、２つの電極の間に電圧を印加すれば、負極と正極から各々電子と正孔が有機物層に注入される。有機物層に注入された電子と正孔は再結合してエキシトン（ｅｘｃｉｔｏｎ）を形成し、このエキシトンが再び基底状態に落ちて光が出る。このような原理を利用した有機発光素子は、一般的に、負極と正極およびその間に位置した有機物層、例えば正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層を含む有機物層で構成することができる。

有機発光素子に用いられる物質としては、純粋有機物質または有機物質と金属の錯体が大半を占めており、用途に応じ、正孔注入物質、正孔輸送物質、発光物質、電子輸送物質、電子注入物質などに分類することができる。ここで、正孔注入物質や正孔輸送物質としては、ｐ−タイプの性質を有する有機物質、すなわち酸化し易く、酸化時に電気化学的に安定した状態を有する有機物が主に用いられている。一方、電子注入物質や電子輸送物質としては、ｎ−タイプの性質を有する有機物質、すなわち還元し易く、還元時に電気化学的に安定した状態を有する有機物が主に用いられている。発光層物質としては、ｐ−タイプの性質とｎ−タイプの性質を同時に有した物質、すなわち酸化された時と還元された時に安定な物質が好ましく、エキシトンが形成された時にこれを光に転換する発光効率の高い物質が好ましい。

加えて、有機発光素子に用いられる物質は次のような性質をさらに有することが好ましい。

第１に、有機発光素子に用いられる物質は熱的安定性に優れることが好ましい。これは、有機発光素子内において、電荷の移動によるジュール熱（ｊｏｕｌｅ ｈｅａｔ）が発生するためである。現在、正孔輸送層物質として主に用いられるＮＰＢは、ガラス転移温度が１００℃以下の値を有するため、高い電流を必要とする有機発光素子においては使用し難いという問題がある。

第２に、低電圧駆動可能な高効率の有機発光素子を得るためには、有機発光素子内に注入された正孔または電子が円滑に発光層に伝達されると同時に、注入された正孔と電子が発光層の外に抜け出ないようにしなければならない。このために、有機発光素子に用いられる物質は、適切なバンドギャップ（ｂａｎｄｇａｐ）とＨＯＭＯまたはＬＵＭＯエネルギー準位を有しなければならない。現在、溶液塗布法によって製造される有機発光素子において、正孔輸送物質として用いられるＰＥＤＯＴ：ＰＳＳの場合、発光層物質として用いられる有機物のＬＵＭＯエネルギー準位に比べてＬＵＭＯエネルギー準位が低いため、高効率および長寿命の有機発光素子の製造に困難がある。

この他に、有機発光素子に用いられる物質は、化学的安定性、電荷移動度、電極や隣接した層との界面特性などに優れていなければならない。すなわち、有機発光素子に用いられる物質は水分や酸素による物質の変形が小さい必要がある。また、適切な正孔または電子移動度を有することにより、有機発光素子の発光層において正孔と電子の密度が均衡をなすようにしてエキシトンの形成を極大化しなければならない。また、素子の安定性のために、金属または金属酸化物を含む電極との界面を良くするべきである。

したがって、当技術分野においては前記のような要件を備えた有機物の開発が求められている。

国際公開２００５−０９０５１２

そこで、本発明者らは、有機発光素子に使用可能な物質に求められる条件、例えば適切なエネルギー準位、電気化学的安定性および熱的安定性などを満足させることができ、置換基に応じて有機発光素子に求められる様々な役割を果たすことのできる化学構造を有するヘテロ化合物誘導体を含む有機発光素子を提供することを目的とする。

本発明は、下記化学式１の化合物を提供する。

また、本発明は、第１電極、１層以上であり発光層を含む有機物層および第２電極を積層した形態で含む有機発光素子であって、前記有機物層のうちの１層以上が下記化学式１の化合物、またはこの化合物に熱硬化性または光硬化性官能基が導入された化合物を含む有機発光素子を提供する。

前記化学式１において、
Ｘは−（Ａ）_ｍ−（Ｂ）_ｎであり、
Ｙは−（Ｂ）_ｐであり、
Ａｒは、ニトロ、ニトリル、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基およびアミノ基からなる群から選択された１つ以上の置換基で置換もしくは非置換された炭素数６〜４０のアリーレン基；またはニトロ、ニトリル、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基およびアミノ基からなる群から選択された１つ以上の置換基で置換もしくは非置換された２価の複素環基であり、
Ａは、ハロゲン基、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、置換もしくは非置換のアリールアミン基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換のアリールアルキル基、置換もしくは非置換のアリールアルケニル基、置換もしくは非置換の複素環基、ニトリル基およびアセチレン基からなる群から選択された１つ以上の置換基で置換もしくは非置換されたアリール基であり、
Ｂは、ハロゲン基、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、置換もしくは非置換のアリールアミン基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換のアリールアルキル基、置換もしくは非置換のアリールアルケニル基、置換もしくは非置換の複素環基、ニトリル基およびアセチレン基からなる群から選択された１つ以上の置換基で置換もしくは非置換されたアリールアミン基；またはハロゲン基、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、置換もしくは非置換のアリールアミン基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換のアリールアルキル基、置換もしくは非置換のアリールアルケニル基、置換もしくは非置換の複素環基、ニトリル基およびアセチレン基からなる群から選択された１つ以上の置換基で置換もしくは非置換され、ヘテロ原子としてＯ、ＮまたはＳを含む複素環基であり、
ｍおよびｎは各々１〜１０および０〜１０の整数であり、ｐは１〜１０の整数であり、
Ｒ１〜Ｒ７は、各々独立に、水素；ハロゲン基、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換のアリールアルキル基、置換もしくは非置換のアリールアルケニル基、置換もしくは非置換の複素環基、ニトリル基およびアセチレン基からなる群から選択された１つ以上の置換基で置換もしくは非置換されたアルキル基；ハロゲン基、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換のアリールアルキル基、置換もしくは非置換のアリールアルケニル基、置換もしくは非置換の複素環基、ニトリル基およびアセチレン基からなる群から選択された１つ以上の置換基で置換もしくは非置換されたアルコキシ基；ハロゲン基、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換のアリールアルキル基、置換もしくは非置換のアリールアルケニル基、置換もしくは非置換の複素環基、ニトリル基およびアセチレン基からなる群から選択された１つ以上の置換基で置換もしくは非置換されたアリール基；アルキル基、アルケニル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換のアリールアルキル基、置換もしくは非置換のアリールアルケニル基からなる群から選択された１つ以上の置換基で置換されたアミノ基；ニトロ基；およびハロゲン基からなる群から選択され、ここで、Ｒ１〜Ｒ７は隣接基とともに脂肪族またはヘテロの縮合環を形成することができる。

本発明による化合物は、有機発光素子において、有機物層物質、特に正孔注入物質および／または正孔輸送物質として用いられ、この化合物を有機発光素子に用いる場合、素子の駆動電圧を下げ、光効率を向上させ、化合物の熱的安定性によって素子の寿命特性を向上させることができる。

基板１、正極２、発光層３、負極４からなる有機発光素子の例を示すものである。 基板１、正極２、正孔注入層５、正孔輸送層６、発光層７、電子輸送層８および負極４からなる有機発光素子の例を示すものである。

前記化学式１の置換基を詳細に説明すれば次の通りである。

前記化学式１のＲ１〜Ｒ７中のアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基は炭素数は特に限定されないが、１〜２０であることが好ましい。

化合物中に含まれているアルキル基の長さは化合物の共役長には影響を及ぼさず、但し、付随的に化合物の有機発光素子への適用方法、例えば真空蒸着法または溶液塗布法の適用に影響を及ぼし得る。

前記化学式１のＲ１〜Ｒ７中のアリール基の例としてはフェニル基、ビフェニル基、テルフェニル基、スチルベン基などの単環式芳香族およびナフチル基、アントラセニル基、フェナントレン基、ピレニル基、ペリレニル基などの多環式芳香族などが挙げられるが、これらだけに限定されるものではない。

前記化学式１のＲ１〜Ｒ７中の複素環基の例としてはチオフェニル基、フラン基、ピロリル基、イミダゾリル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、オキサジアゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピラダジン基、キノリニル基、イソキノリン基、アクリジル基などが挙げられるが、これらだけに限定されるものではない。

化学式１のＡはアリール基であり、好ましくは、フェニル基、ビフェニル基、テルフェニル基、スチルベン基などの単環式芳香族およびナフチル基、アントラセニル基、フェナントレン基、ピレニル基、ペリレニル基などの多環式芳香族が挙げられるが、これらだけに限定されるものではない。

化学式１のＢが複素環である場合、好ましくは、チオフェニル基、フラン基、ピロリル基、イミダゾリル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、オキサジアゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピラダジン基、キノリニル基、イソキノリン基、アクリジル基などが挙げられるが、これらだけに限定されるものではない。

前記化学式１で示される化合物は、好ましくは、下記化学式２〜化学式３のうちの１つで示される化合物であってもよい。

前記化学式において、Ａｒ’は、各々独立に、フェニル基、ビフェニル基、テルフェニル基、スチルベン基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントレン基、ピレニル基およびペリレニル基からなる群から選択され、Ａｒ、ＹおよびＲ１〜Ｒ８は、各々、前記化学式１のＡｒ、ＹおよびＲ１〜Ｒ７に対する定義と同様である。

また、前記化学式１で示される化合物は、好ましくは、下記化学式２−１〜化学式３−１のうちの１つで示される化合物であってもよい。

ここで、Ａｒ、ＹおよびＲ１〜Ｒ８は、各々、前記化学式１のＡｒ、ＹおよびＲ１〜Ｒ７に対する定義と同様である。

また、前記化学式１で示される化合物は、好ましくは、下記化学式２−２〜化学式３−３のうちの１つで示される化合物であってもよい。

ここで、Ａｒ、ＹおよびＲ１〜Ｒ８は、各々、前記化学式１のＡｒ、ＹおよびＲ１〜Ｒ７に対する定義と同様である。

また、アリールアミンである場合、好ましくは、下記の基が挙げられるが、これらだけに限定されるものではない。

前記Ａｒは、好ましくはフェニレンであってもよい。

化学式１の化合物は、好ましくは、下記化学式４〜化学式１２で示される化合物であってもよい。

前記化学式１の化合物は、前記化学式１で示されたコア構造、すなわちカルバゾールのＲ５およびＲ６の間の炭素位置にアリーレンが置換された構造をコア構造とし、各々独立に、水素、重水素；炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素；芳香族炭化水素；ニトロ、ニトリル、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、芳香族炭化水素および複素環基からなる群から選択された１つ以上の置換基で置換された芳香族炭化水素；芳香族炭化水素で置換されたシリコン基；複素環基；ニトロ、ニトリル、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、芳香族炭化水素および複素環基からなる群から選択された１つ以上の置換基で置換された複素環基；炭素数１〜２０の炭化水素または炭素数６〜２０の芳香族炭化水素で置換されたチオフェン基；または芳香族炭化水素で置換されたホウ素基構造が融合されたコア構造に様々な置換体を導入することにより、有機発光素子に用いられる有機物層として用いるのに好適な特性を有することができる。

化合物の共役長とエネルギーバンドギャップは密接な関わりがある。具体的には、化合物の共役長が長いほど、エネルギーバンドギャップが小さくなる。前述したように、前記化学式１の化合物のコア構造中の共役構造は制限されているため、コア構造は、エネルギーバンドギャップが大きい性質を有する。

本発明においては、上記のようにエネルギーバンドギャップが大きいコア構造のＲ１〜Ｒ７、ＸおよびＹ位置に様々な置換基を導入することにより、様々なエネルギーバンドギャップを有する化合物を合成することができる。通常、エネルギーバンドギャップの大きいコア構造に置換基を導入してエネルギーバンドギャップを調節するのは容易ではあるが、コア構造が、エネルギーバンドギャップが小さい場合には、置換基を導入してエネルギーバンドギャップを大きく調節することが難しい。また、本発明においては、前記のような構造のコア構造のＲ１〜Ｒ７、ＸおよびＹ位置に様々な置換基を導入することにより、化合物のＨＯＭＯおよびＬＵＭＯエネルギー準位も調節することができる。

また、前記のような構造のコア構造に様々な置換基を導入することにより、導入された置換基の固有特性を有する化合物を合成することができる。例えば、有機発光素子の製造時に用いられる正孔注入層物質、正孔輸送層物質、発光層物質、および電子輸送層物質に主に用いられる置換基を前記コア構造に導入することにより、有機物層に求められる条件を充足させる物質を合成することができる。

前記化学式１の化合物はコア構造にアリールアミン構造を含んでいるため、有機発光素子において、正孔注入および／または正孔輸送物質としての適切なエネルギー準位を有し得る。本発明においては、前記化学式１の化合物のうち、置換基に応じて適切なエネルギー準位を有する化合物を選択して有機発光素子に用いることにより、駆動電圧が低く、光効率の高い素子を実現することができる。

また、前記コア構造に様々な置換基を導入することにより、エネルギーバンドギャップを微細に調節することができ、その一方で、有機物間での界面における特性を向上させて物質の用途を様々にすることができる。

また、置換基Ｂに含まれたアミン数を調節することにより、ＨＯＭＯ、ＬＵＭＯエネルギー準位およびエネルギーバンドギャップを微細に調節することができ、その一方で、有機物間における界面での特性を向上させ、物質の用途を様々にすることができる。

一方、前記化学式１の化合物はガラス転移温度（Ｔｇ）が高くて熱的安定性に優れる。このような熱的安定性の増加は素子に駆動安定性を提供する重要な要因となる。

また、前記化学式１の化合物は、有機発光素子の製造時、真空蒸着法だけでなく、溶液塗布法によって有機物層として形成される。ここで、溶液塗布法とは、スピンコーティング、ディップコーティング、インクジェット印刷、スクリーン印刷、スプレー法、ロールコーティングなどを意味するが、これらだけで限定されるものではない。

本発明の有機発光素子は、有機物層のうちの１層以上が本発明の化合物、すなわち前記化学式１の化合物を含むことを除いては当技術分野に知られている材料と方法により製造することができる。

本発明の有機発光素子の有機物層は単層構造であってもよいが、２層以上の有機物層が積層された多層構造であってもよい。例えば、本発明の有機発光素子は、有機物層として正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層などを含む構造であってもよい。但し、有機発光素子の構造はこれに限定されず、より少ない数の有機物層を含んでもよい。

また、本発明の有機発光素子は、例えば、基板上に、第１電極、有機物層および第２電極を順次積層させることによって製造することができる。この時、スパッタリング法（ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）や電子ビーム蒸着法（ｅ−ｂｅａｍ ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）などのＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）方法を用いることができるが、これらの方法だけに限定されるものではない。

前記化学式１の化合物の製造方法は以下の製造例で具体的に説明する。但し、下記製造例および実験例は本発明を例示するためのものであって、本発明の範囲がこれらによって限定されるものではない。

＜製造例１＞化学式４で示される化合物の製造

＜製造例１−１＞化合物Ａの製造
２−ブロモチオフェン（２０ｇ、１２２．７ｍｍｏｌ）とフェニルボロン酸（１８ｇ、１４７．６ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３００ｍＬ）に溶かし、４Ｎ炭酸カリウム水溶液（１３０ｍＬ）とテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（２．９ｇ、２．５ｍｍｏｌ）を入れて攪拌しながら加熱した。反応終了後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧蒸留後、ヘキサンで再結晶して化合物Ａ（１４．６ｇ、収率７４％；［Ｍ＋Ｈ］^＋＝１６１）を得た。

＜製造例１−２＞化合物Ｂの製造
前記製造例１−１で製造した化合物Ａ（１８ｇ、１１２．３ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフランに溶かし、−７８℃でｎ−ブチルリチウム２．５Ｍヘキサン溶液（４９．４ｍＬ、１２３．５ｍｍｏｌ）を入れて１時間攪拌した。トリメチルボレート（１５．１ｇ、１４５．３ｍｍｏｌ）を入れ、１時間攪拌した後、２Ｎ塩酸水溶液（８０ｍＬ）を入れて常温に昇温させた。有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧蒸留後、ヘキサンで再結晶して化合物Ｂ（１５．２ｇ、収率６６％；［Ｍ＋Ｈ］^＋＝２０５）を得た。

＜製造例１−３＞化合物Ｃの製造
前記製造例１−２で製造した化合物Ｂ（１５ｇ、７３．５ｍｍｏｌ）と４−ブロモ−１−ヨードベンゼン（２０．８ｇ、７３．５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２５０ｍＬ）に溶かし、４Ｎ炭酸カリウム水溶液（７５ｍＬ）とテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（１．７ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を入れて攪拌しながら加熱した。反応終了後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧蒸留後、エタノールで再結晶して化合物Ｃ（１４．８ｇ、収率６４％；［Ｍ＋Ｈ］^＋＝３１６）を得た。

＜製造例１−４＞化合物Ｄの製造
前記製造例１−３で製造した化合物Ｃ（１４ｇ、４４．４ｍｍｏｌ）とカルバゾール（７．５ｇ、４４．９ｍｍｏｌ）、ナトリウム−Ｔｅｒｔ−ブトキシド（５．５ｇ、５７．２ｍｍｏｌ）、ビス（トリ−Ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（０）（０．２３ｇ、０．４５ｍｍｏｌ）をキシレン（３００ｍＬ）に懸濁させた後に攪拌しながら還流した。反応終了後、常温に温度を下げた後、生成された固体を濾過した。水とエタノールで順次洗浄して化合物Ｄ（１４．７ｇ、収率８２％；［Ｍ＋Ｈ］^＋＝４０２）を得た。

＜製造例１−５＞化合物Ｅの製造
前記製造例１−４で製造した化合物Ｄ（１４ｇ、３４．９ｍｍｏｌ）をクロロホルム（３００ｍＬ）に溶かし、Ｎ−ブロモスクシンイミド（６．３ｇ、３５．４ｍｍｏｌ）を入れて常温で攪拌した。反応終了後、水を注ぎ、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧蒸留後、テトラヒドロフランとエタノールで再結晶して化合物Ｅ（１４．３ｇ、収率８５％；［Ｍ＋Ｈ］^＋＝４８１）を得た。

＜製造例１−６＞化学式４の製造
前記製造例１−５で製造した化合物Ｅ（１３ｇ、２７ｍｍｏｌ）と製造例１−２で製造した化合物Ｂ（５．５ｇ、２７ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２００ｍＬ）に溶かし、４Ｎ炭酸カリウム水溶液（３０ｍＬ）とテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．６２ｇ、０．５４ｍｍｏｌ）を入れて攪拌しながら加熱した。反応終了後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧蒸留後、テトラヒドロフランとエタノールで再結晶して化学式４（１０．７ｇ、収率７１％；［Ｍ＋Ｈ］^＋＝５６０）を得た。

＜製造例２＞化学式５で示される化合物の製造

＜製造例２−１＞化合物Ａの製造
前記製造例１−５の化合物Ｅ（１０ｇ、２０．８ｍｍｏｌ）とフェニルボロン酸（２．７ｇ、２２．１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３００ｍＬ）に溶かし、４Ｎ炭酸カリウム水溶液（２５ｍＬ）とテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．４９ｇ、０．４２ｍｍｏｌ）を入れて攪拌しながら加熱した。反応終了後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧蒸留後、テトラヒドロフランとヘキサンで再結晶して化合物Ａ（８．２ｇ、収率８３％；［Ｍ＋Ｈ］^＋＝４７８）を得た。

＜製造例２−２＞化合物Ｂの製造
前記製造例２−１で製造した化合物Ａ（８ｇ、１６．７ｍｍｏｌ）をクロロホルム（２００ｍＬ）に溶かし、Ｎ−ブロモスクシンイミド（３ｇ、１６．９ｍｍｏｌ）を入れて常温で攪拌した。反応終了後、水を注ぎ、生成された固体を濾過した。水とエタノールで順次洗浄して化合物Ｂ（８．２ｇ、収率８８％；［Ｍ＋Ｈ］^＋＝５５７）を得た。

＜製造例２−３＞化学式５の製造
前記製造例２−２で製造した化合物Ｂ（５ｇ、９ｍｍｏｌ）と製造例１−２で製造した化合物Ｂ（１．９ｇ、９．３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１５０ｍＬ）に溶かし、４Ｎ炭酸カリウム水溶液（１２ｍＬ）とテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．２ｇ、０．１８ｍｍｏｌ）を入れて攪拌しながら加熱した。反応終了後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧蒸留後、テトラヒドロフランとエタノールで再結晶して化学式５（３．９ｇ、収率６８％；［Ｍ＋Ｈ］^＋＝６３６）を得た。

＜製造例３＞化学式６で示される化合物の製造

＜製造例３−１＞化合物Ａの製造
前記製造例１−３で製造した化合物Ｃ（１０ｇ、３１．７ｍｍｏｌ）を無水テトラヒドロフランに溶かし、−７８℃でｎ−ブチルリチウム２．５Ｍヘキサン溶液（１３．８ｍＬ、３４．５ｍｍｏｌ）を入れて１時間攪拌した。トリメチルボレート（４．３ｇ、４１．４ｍｍｏｌ）を入れて１時間攪拌した後、２Ｎ塩酸水溶液（２０ｍＬ）を入れて常温に昇温させた。有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧蒸留後、ヘキサンで再結晶して化合物Ａ（５．４ｇ、収率６１％；［Ｍ＋Ｈ］^＋＝２８１）を得た。

＜製造例３−２＞化学式６の製造
前記製造例３−１で製造した化合物Ａ（５ｇ、１７．８ｍｍｏｌ）と製造例１−５で製造した化合物Ｅ（８．５ｇ、１７．７ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１５０ｍＬ）に溶かし、４Ｎ炭酸カリウム水溶液（２０ｍＬ）とテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．４２ｇ、０．３６ｍｍｏｌ）を入れて攪拌しながら加熱した。反応終了後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧蒸留後、テトラヒドロフランとエタノールで再結晶して化学式６（８．２ｇ、収率７３％；［Ｍ＋Ｈ］^＋＝６３６）を得た。

＜製造例４＞化学式７で示される化合物の製造

＜製造例４−１＞化合物Ａの製造
前記製造例１−２で製造した化合物Ｂ（１５ｇ、７３．５ｍｍｏｌ）と３−ブロモ−１−ヨードベンゼン（２０．８ｇ、７３．５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１８０ｍＬ）に溶かし、４Ｎ炭酸カリウム水溶液（７５ｍＬ）とテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（１．７ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を入れて攪拌しながら加熱した。反応終了後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧蒸留後、テトラヒドロフラン／ヘキサン＝１／１０の溶媒でカラム精製して化合物Ａ（１４．４ｇ、収率６２％；［Ｍ＋Ｈ］^＋＝３１６）を得た。

＜製造例４−２＞化合物Ｂの製造
前記製造例４−１で製造した化合物Ａ（１４ｇ、４４．４ｍｍｏｌ）とカルバゾール（７．５ｇ、４４．９ｍｍｏｌ）、ナトリウム−Ｔｅｒｔ−ブトキシド（５．５ｇ、５７．２ｍｍｏｌ）、ビス（トリ−Ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（０）（０．２３ｇ、０．４５ｍｍｏｌ）をキシレン（３００ｍＬ）に懸濁させた後に攪拌しながら還流した。反応終了後、常温に温度を下げた後、生成された固体を濾過した。水とエタノールで順次洗浄して化合物Ｂ（１５．１ｇ、収率８５％；［Ｍ＋Ｈ］^＋＝４０２）を得た。

＜製造例４−３＞化合物Ｃの製造
前記製造例４−２で製造した化合物Ｂ（１５ｇ、３７．４ｍｍｏｌ）をクロロホルム（３００ｍＬ）に溶かし、Ｎ−ブロモスクシンイミド（６．７ｇ、３７．６ｍｍｏｌ）を入れて常温で攪拌した。反応終了後、水を注ぎ、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧蒸留後、テトラヒドロフランとエタノールで再結晶して化合物Ｃ（１４．２ｇ、収率７９％；［Ｍ＋Ｈ］^＋＝４８１）を得た。

＜製造例４−４＞化合物Ｄの製造
前記製造例４−３で製造した化合物Ｃ（１３ｇ、２７ｍｍｏｌ）と４−クロロフェニルボロン酸（４．３ｇ、２７．５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３００ｍＬ）に溶かし、４Ｎ炭酸カリウム水溶液（３３ｍＬ）とテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．６２ｇ、０．５４ｍｍｏｌ）を入れて攪拌しながら加熱した。反応終了後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧蒸留後、テトラヒドロフランとエタノールで再結晶して化合物Ｄ（９．５ｇ、収率６９％；［Ｍ＋Ｈ］^＋＝５１２）を得た。

＜製造例４−５＞化学式７の製造
前記製造例４−４で製造した化合物Ｄ（８ｇ、１５．６ｍｍｏｌ）とＮ−フェニル−１−ナフチルアミン（３．８ｇ、１７．３ｍｍｏｌ）、ナトリウム−Ｔｅｒｔ−ブトキシド（２ｇ、２０．８ｍｍｏｌ）、ビス（トリ−Ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（０）（０．０８ｇ、０．１６ｍｍｏｌ）をキシレン（３００ｍＬ）に懸濁させた後に攪拌しながら還流した。反応終了後、常温に温度を下げた後、酸性白土を入れて攪拌した。濾過後、減圧蒸留し、テトラヒドロフラン／ヘキサン＝１／７の溶媒でカラム精製して化学式７（６．４ｇ、収率５９％；［Ｍ＋Ｈ］^＋＝６９５）を得た。

＜製造例５＞化学式８で示される化合物の製造

＜製造例５−１＞化学式８の製造
前記製造例４−４で製造した化合物Ｄ（８ｇ、１５．６ｍｍｏｌ）とビス（４−ビフェニリル）アミン（５．５ｇ、１７．１ｍｍｏｌ）、ナトリウム−Ｔｅｒｔ−ブトキシド（２ｇ、２０．８ｍｍｏｌ）、ビス（トリ−Ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（０）（０．０８ｇ、０．１６ｍｍｏｌ）をキシレン（２５０ｍＬ）に懸濁させた後に攪拌しながら還流した。反応終了後、常温に温度を下げた後、酸性白土を入れて攪拌した。濾過後、減圧蒸留し、テトラヒドロフランとエタノールで再結晶して化学式８（７．８ｇ、収率６３％；［Ｍ＋Ｈ］^＋＝７９７）を得た。

＜製造例６＞化学式９で示される化合物の製造

＜製造例６−１＞化合物Ａの製造
前記製造例１−５で製造した化合物Ｅ（１０ｇ、２０．８ｍｍｏｌ）と４−クロロフェニルボロン酸（３．６ｇ、２３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２５０ｍＬ）に溶かし、４Ｎ炭酸カリウム水溶液（２２ｍＬ）とテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．４９ｇ、０．４２ｍｍｏｌ）を入れて攪拌しながら加熱した。反応終了後、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧蒸留後、テトラヒドロフランとエタノールで再結晶して化合物Ａ（７ｇ、収率６６％；［Ｍ＋Ｈ］^＋＝５１２）を得た。

＜製造例６−２＞化学式９の製造
前記製造例６−１で製造した化合物Ａ（５ｇ、９．７ｍｍｏｌ）とビス（４−ビフェニリル）アミン（３．４ｇ、１０．６ｍｍｏｌ）、ナトリウム−Ｔｅｒｔ−ブトキシド（１．２ｇ、１２．６ｍｍｏｌ）、ビス（トリ−Ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（０）（０．０５ｇ、０．１ｍｍｏｌ）をキシレン（１５０ｍＬ）に懸濁させた後に攪拌しながら還流した。反応終了後、常温に温度を下げた後、生成された固体を濾過した。濾過された固体をクロロホルムに溶かした後、酸性白土を入れて攪拌した。濾過後、減圧蒸留し、テトラヒドロフランとエタノールで再結晶して化学式９（５．２ｇ、収率６７％；［Ｍ＋Ｈ］^＋＝７９７）を得た。

＜製造例７＞化学式１０で示される化合物の製造

＜製造例７−１＞化合物Ａの製造
前記製造例４−４で製造した化合物Ｄ（１０ｇ、１９．５ｍｍｏｌ）をクロロホルム（３００ｍＬ）に溶かし、Ｎ−ブロモスクシンイミド（３．７ｇ、２０．８ｍｍｏｌ）を入れて常温で攪拌した。反応終了後、水を注ぎ、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧蒸留後、テトラヒドロフランとエタノールで再結晶して化合物Ａ（８．９ｇ、収率７７％；［Ｍ＋Ｈ］^＋＝５９１）を得た。

＜製造例７−２＞化合物Ｂの製造
前記製造例７−１で製造した化合物Ａ（８ｇ、１３．５ｍｍｏｌ）と４−クロロフェニルボロン酸（２．３ｇ、１４．７ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２００ｍＬ）に溶かし、４Ｎ炭酸カリウム水溶液（１５ｍＬ）とテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．３１ｇ、０．２７ｍｍｏｌ）を入れて攪拌しながら加熱した。反応終了後、生成された固体を濾過した。濾過された固体をテトラヒドロフランとエタノールで再結晶して化合物Ｂ（５．２ｇ、収率６５％；［Ｍ＋Ｈ］^＋＝５８８）を得た。

＜製造例７−３＞化学式１０の製造
前記製造例７−２で製造した化合物Ｂ（５ｇ、８．５ｍｍｏｌ）とビス（４−ビフェニリル）アミン（３ｇ、９．３ｍｍｏｌ）、ナトリウム−Ｔｅｒｔ−ブトキシド（１．１ｇ、１１．４ｍｍｏｌ）、ビス（トリ−Ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（０）（０．０５ｇ、０．１ｍｍｏｌ）をキシレン（１５０ｍＬ）に懸濁させた後に攪拌しながら還流した。反応終了後、常温に温度を下げた後、酸性白土を入れて攪拌した。濾過後、減圧蒸留し、テトラヒドロフランとエタノールで再結晶して化学式１０（４．５ｇ、収率６１％；［Ｍ＋Ｈ］^＋＝８７３）を得た。

＜製造例８＞化学式１１で示される化合物の製造

＜製造例８−１＞化合物Ａの製造
前記製造例６−１で製造した化合物Ａ（１０ｇ、１９．５ｍｍｏｌ）をクロロホルム（３００ｍＬ）に溶かし、Ｎ−ブロモスクシンイミド（３．７ｇ、２０．８ｍｍｏｌ）を入れて常温で攪拌した。反応終了後、水を注ぎ、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧蒸留後、テトラヒドロフランとエタノールで再結晶して化合物Ａ（９．４ｇ、収率８２％；［Ｍ＋Ｈ］^＋＝５９１）を得た。

＜製造例８−２＞化合物Ｂの製造
前記製造例８−１で製造した化合物Ａ（８ｇ、１３．５ｍｍｏｌ）と製造例１−２で製造した化合物Ｂ（３ｇ、１４．７ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１５０ｍＬ）に溶かし、４Ｎ炭酸カリウム水溶液（１５ｍＬ）とテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．３１ｇ、０．２７ｍｍｏｌ）を入れて攪拌しながら加熱した。反応終了後、生成された固体を濾過した。濾過された固体をテトラヒドロフランとエタノールで再結晶して化合物Ｂ（６．２ｇ、収率６９％；［Ｍ＋Ｈ］^＋＝６７０）を得た。

＜製造例８−３＞化学式１１の製造
前記製造例８−２で製造した化合物Ｂ（６ｇ、９ｍｍｏｌ）とＮ−フェニル−１−ナフチルアミン（２．１ｇ、９．６ｍｍｏｌ）、ナトリウム−Ｔｅｒｔ−ブトキシド（１．１ｇ、１１．７ｍｍｏｌ）、ビス（トリ−Ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（０）（０．０５ｇ、０．１ｍｍｏｌ）をキシレン（１００ｍＬ）に懸濁させた後に攪拌しながら還流した。反応終了後、常温に温度を下げた後、酸性白土を入れて攪拌した。濾過後、減圧蒸留し、テトラヒドロフラン／ヘキサン＝１／６の溶媒でカラム精製して化学式１１（３．８ｇ、収率４９％；［Ｍ＋Ｈ］^＋＝８５３）を得た。

＜製造例９＞化学式１２で示される化合物の製造

＜製造例９−１＞化合物Ａの製造
前記製造例４−４で製造した化合物Ｄ（１０ｇ、１９．５ｍｍｏｌ）をクロロホルム（３００ｍＬ）に溶かし、Ｎ−ブロモスクシンイミド（３．７ｇ、２０．８ｍｍｏｌ）を入れて常温で攪拌した。反応終了後、水を注ぎ、有機層を分離して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧蒸留後、テトラヒドロフランとエタノールで再結晶して化合物Ａ（９．１ｇ、収率７９％；［Ｍ＋Ｈ］^＋＝５９１）を得た。

＜製造例９−２＞化合物Ｂの製造
前記製造例９−１で製造した化合物Ａ（９ｇ、１５．２ｍｍｏｌ）と製造例１−２で製造した化合物Ｂ（３．４ｇ、１６．７ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１５０ｍＬ）に溶かし、４Ｎ炭酸カリウム水溶液（１８ｍＬ）とテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．３５ｇ、０．３ｍｍｏｌ）を入れて攪拌しながら加熱した。反応終了後、生成された固体を濾過した。濾過された固体をテトラヒドロフランとエタノールで再結晶して化合物Ｂ（７．３ｇ、収率７２％；［Ｍ＋Ｈ］^＋＝６７０）を得た。

＜製造例９−３＞化学式１２の製造
前記製造例９−２で製造した化合物Ｂ（６ｇ、９ｍｍｏｌ）とビス（４−ビフェニリル）アミン（３ｇ、９．３ｍｍｏｌ）、ナトリウム−Ｔｅｒｔ−ブトキシド（１．１ｇ、１１．４ｍｍｏｌ）、ビス（トリ−Ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（０）（０．０５ｇ、０．１ｍｍｏｌ）をキシレン（１５０ｍＬ）に懸濁させた後に攪拌しながら還流した。反応終了後、常温に温度を下げた後、生成された固体を濾過した。濾過された固体をクロロホルムに溶かし、酸性白土を入れて攪拌した後に濾過した。減圧蒸留後、テトラヒドロフランとエタノールで再結晶して化学式１２（５．６ｇ、収率６５％；［Ｍ＋Ｈ］^＋＝９５５）を得た。

＜製造例１０＞化学式１３の製造

前記製造例６の化合物Ａ（４ｇ、７．８ｍｍｏｌ）およびアミン化合物（３．１７ｇ、８．２ｍｍｏｌ）をキシレン１５０ｍｌに溶解し、ナトリウム−Ｔｅｒｔ−ブトキシド（１．９ｇ、１９．５ｍｍｏｌ）、Ｐｄ［Ｐ（ｔ−Ｂｕ）_３］_２ ２０ｍｇ（０．０６ｍｍｏｌ）を添加した後、５時間窒素気流下で還流した。

反応溶液に蒸留水を入れて反応を終了させ、有機層を抽出した。ノルマルヘキサン／テトラヒドロフラン＝１０／１溶媒でカラム分離した後、石油エーテルに攪拌した後に真空乾燥して化学式１３（３．４ｇ、収率５０％）を得た。ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］^＋＝８６１

＜製造例１１＞化学式１４の製造

（１）化学式Ａの製造
カルバゾール（１７．５ｇ、１０４．８ｍｍｏｌ）をジメチルアセトアミド（１００ｍＬ）に溶かし、４−クロロヨードベンゼン（２５ｇ、１０４．８ｍｍｏｌ）、Ｃｕ（１３．３ｇ、２０９．６ｍｍｏｌ）、Ｋ_２ＣＯ_３（４３．５ｇ、３１４．４ｍｍｏｌ）を入れて１２時間還流した。

反応溶液を濾過した後に濃縮し、ＥｔＯＨで再結晶して化学式Ａ（２４．８ｇ、収率８５％）を得た。ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］^＋＝２７８

（２）化学式Ｂの製造
前記（１）ステップで製造した化学式Ａ（２４．８ｇ、８９．３ｍｍｏｌ）をクロロホルム（２００ｍＬ）に溶かし、Ｎ−ブロモスクシンイミド（１５．９ｇ、８９．３ｍｍｏｌ）を添加した後、５時間常温で攪拌した。
反応溶液に蒸留水を入れて終了させ、有機層を抽出した。反応液を濃縮した後、精製過程を行うことなく、次の反応を進行した。ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］^＋＝３５７

（３）化学式Ｃの製造
前記（２）ステップで製造した化学式Ｂ（３１．７ｇ、８９ｍｍｏｌ）と４−クロロフェニルボロン酸（１５．３ｇ、９７．９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１５０ｍＬ）に溶かした後、Ｐｄ（ＰＰｈ_３）_４（２．１ｇ、１．７８ｍｍｏｌ）とＫ_２ＣＯ_３／Ｈ_２Ｏ水溶液（６ｇ／１００ｍＬ、３５６ｍｍｏｌ）を入れ、２４時間還流した。

反応溶液に蒸留水を入れて終了させ、有機層を抽出した。反応液を濃縮し、ノルマルヘキサン／テトラヒドロフラン＝１０／１溶媒でカラム分離した後、ＥｔＯＨに攪拌した後に濾過した後、真空乾燥して化学式Ｃ（８．９ｇ、収率２６％）を得た。ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］^＋＝３８８

（４）化学式１４の製造
前記（３）ステップで製造した化学式Ｃ（４．９ｇ、１２．６ｍｍｏｌ）、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン（６．９ｇ、３１．５ｍｍｏｌ）をキシレン１５０ｍｌに溶解し、ナトリウム−Ｔｅｒｔ−ブトキシド（３ｇ、３１．５ｍｍｏｌ）、ビスジベンジリデンアセトンパラジウム（０）（０．２８ｇ、０．５ｍｍｏｌ）、５０ｗｔ％トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィントルエン溶液（０．２４ｍｌ、０．５ｍｍｏｌ）を添加した後、５時間窒素気流下で還流した。

反応溶液に蒸留水を入れて反応を終了させ、有機層を抽出した。ノルマルヘキサン／テトラヒドロフラン＝１０／１溶媒でカラム分離した後、ＥｔＯＨに攪拌した後に濾過した後、真空乾燥して化学式１４（１．８ｇ、収率１９％）を得た。ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］^＋＝７５４

＜製造例１２＞化学式１５の製造

前記製造例１１の（３）ステップで製造した化学式Ｃ（４ｇ、１０．３ｍｍｏｌ）およびビスジフェニルアミン（８．２８ｇ、２５．８ｍｍｏｌ）をキシレン１５０ｍｌに溶解し、ナトリウム−Ｔｅｒｔ−ブトキシド（２．４７ｇ、２５．８ｍｍｏｌ）、Ｐｄ［Ｐ（ｔ−Ｂｕ）_３］_２（０．２ｇ、０．４ｍｍｏｌ）を添加した後、５時間窒素気流下で還流した。

反応溶液に蒸留水を入れて反応を終了させ、有機層を抽出した。ノルマルヘキサン／テトラヒドロフラン＝１０／１溶媒でカラム分離した後、石油エーテルに攪拌した後に真空乾燥して化学式１５（６．９ｇ、収率７０％）を得た。ＭＳ：［Ｍ＋Ｈ］^＋＝９５８

＜実験例１＞
ＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍ ｔｉｎ ｏｘｉｄｅ）が１５００Å厚さで薄膜コーティングされたガラス基板を、洗剤を溶かした蒸留水に入れて超音波で洗浄した。この時、洗剤としてはＦｉｓｃｈｅｒ Ｃｏ．製品を用い、蒸留水としてはＭｉｌｌｉｐｏｒｅ Ｃｏ．製品のフィルタ（Ｆｉｌｔｅｒ）で２次フィルタリングした蒸留水を用いた。ＩＴＯを３０分間洗浄した後、蒸留水で２回繰り返し超音波洗浄を１０分間進行した。蒸留水洗浄が終わった後、イソプロピルアルコール、アセトン、メタノールの溶剤で超音波洗浄を行い、乾燥した後、プラズマ洗浄機に輸送した。また、酸素プラズマを利用して前記基板を５分間洗浄した後、真空蒸着機に基板を輸送した。

このように準備したＩＴＯ透明電極上に、下記化学式のヘキサニトリルヘキサアザトリフェニレン（ｈｅｘａｎｉｔｒｉｌｅ ｈｅｘａａｚａｔｒｉｐｈｅｎｙｌｅｎｅ；ＨＡＴ）を５００Å厚さで熱真空蒸着して正孔注入層を形成した。

前記正孔注入層上に、製造例１で製造された化学式４の化合物を４００Å厚さで熱真空蒸着して正孔輸送層を形成した。

次に、前記正孔輸送層上に、膜厚さ３００Åで、下記のようなＧＨとＧＤを２０：１の膜厚さの比で真空蒸着して発光層を形成した。

前記発光層上に、下記のような電子輸送物質を２００Å厚さで真空蒸着して電子注入および輸送層を形成した。

前記電子注入および輸送層上に、１２Å厚さでフッ化リチウム（ＬｉＦ）と２０００Å厚さでアルミニウムを順次蒸着して負極を形成した。

前記過程において、有機物の蒸着速度は０．４〜０．７Å／ｓｅｃを維持し、負極のフッ化リチウムは０．３Å／ｓｅｃ、アルミニウムは２Å／ｓｅｃの蒸着速度を維持し、蒸着時における真空度は２×１０−７〜５×１０−８ｔｏｒｒを維持した。

前記で製造された有機発光素子に４．８Ｖの順方向電界を加えた結果、５０ｍＡ／ｃｍ２の電流密度において色座標が（０．３２、０．６６）である緑色光が２６ｃｄ／Ａで観察され、９０％輝度までの寿命は１８０時間であった。

＜実験例２＞
実験例１において、化学式４の化合物の代わりに化学式５の化合物を用いたことを除いては同じようにして有機ＥＬ素子を製作した。

前記で製造された有機発光素子に４．７Ｖの順方向電界を加えた結果、５０ｍＡ／ｃｍ２の電流密度において色座標が（０．３３、０．６４）である緑色光が２７ｃｄ／Ａで観察され、９０％輝度までの寿命は２００時間であった。

＜実験例３＞
実験例１において、化学式４の化合物の代わりに化学式６の化合物を用いたことを除いては同じようにして有機ＥＬ素子を製作した。

前記で製造された有機発光素子に４．８Ｖの順方向電界を加えた結果、５０ｍＡ／ｃｍ２の電流密度において色座標が（０．３３、０．６５）である緑色光が２９ｃｄ／Ａで観察され、９０％輝度までの寿命は２１０時間であった。

＜実験例４＞
実験例１において、化学式４の化合物の代わりに化学式７の化合物を用いたことを除いては同じようにして有機ＥＬ素子を製作した。

前記で製造された有機発光素子に４．６Ｖの順方向電界を加えた結果、５０ｍＡ／ｃｍ２の電流密度において色座標が（０．３２、０．６５）である緑色光が２８ｃｄ／Ａで観察され、９０％輝度までの寿命は１９０時間であった。

＜実験例５＞
実験例１において、化学式４の化合物の代わりに化学式８の化合物を用いたことを除いては同じようにして有機ＥＬ素子を製作した。

前記で製造された有機発光素子に４．７Ｖの順方向電界を加えた結果、５０ｍＡ／ｃｍ２の電流密度において色座標が（０．３２、０．６４）である緑色光が３０ｃｄ／Ａで観察され、９０％輝度までの寿命は２５０時間であった。

＜実験例６＞
実験例１において、化学式４の化合物の代わりに化学式９の化合物を用いたことを除いては同じようにして有機ＥＬ素子を製作した。

前記で製造された有機発光素子に４．６Ｖの順方向電界を加えた結果、５０ｍＡ／ｃｍ２の電流密度において色座標が（０．３１、０．６５）である緑色光が２９ｃｄ／Ａで観察され、９０％輝度までの寿命は２４０時間であった。

＜実験例７＞
実験例１において、化学式４の化合物の代わりに化学式１０の化合物を用いたことを除いては同じようにして有機ＥＬ素子を製作した。

前記で製造された有機発光素子に４．５Ｖの順方向電界を加えた結果、５０ｍＡ／ｃｍ２の電流密度において色座標が（０．３２、０．６５）である緑色光が３１ｃｄ／Ａで観察され、９０％輝度までの寿命は２７０時間であった。

＜実験例８＞
実験例１において、化学式４の化合物の代わりに化学式１１の化合物を用いたことを除いては同じようにして有機ＥＬ素子を製作した。

前記で製造された有機発光素子に４．４Ｖの順方向電界を加えた結果、５０ｍＡ／ｃｍ２の電流密度において色座標が（０．３２、０．６６）である緑色光が３１ｃｄ／Ａで観察され、９０％輝度までの寿命は２７０時間であった。

＜実験例９＞
実験例１において、化学式４の化合物の代わりに化学式１２の化合物を用いたことを除いては同じようにして有機ＥＬ素子を製作した。

前記で製造された有機発光素子に４．４Ｖの順方向電界を加えた結果、５０ｍＡ／ｃｍ２の電流密度において色座標が（０．３３、０．６５）である緑色光が３２ｃｄ／Ａで観察され、９０％輝度までの寿命は２８０時間であった。

＜比較例１＞
実験例１において、化学式４の化合物の代わりに下記化学式の４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル（ＮＰＢ）を用いたことを除いては同じようにして有機ＥＬ素子を製作した。

前記で製造された有機発光素子に４．６Ｖの順方向電界を加えた結果、５０ｍＡ／ｃｍ２の電流密度において色座標が（０．３２、０．６４）である緑色光が２６ｃｄ／Ａで観察され、９０％輝度までの寿命は１４０時間であった。

本発明の化合物を有機発光素子において有機物層物質、特に正孔注入物質および／または正孔輸送物質として用いることができ、有機発光素子に用いる場合、素子の駆動電圧を下げ、光効率を向上させ、化合物の熱的安定性によって素子の寿命特性を向上させることができる。

Claims (15)

1. 下記化学式１の化合物。
   

   

   [前記化学式１において、
   Ｘは−（Ａ）_ｍ−（Ｂ）_ｎであり、
   Ｙは−（Ｂ）_ｐであり、
   Ａｒは、ニトロ、ニトリル、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基およびアミノ基からなる群から選択された１つ以上の置換基で置換もしくは非置換された炭素数６〜４０のアリーレン基；またはニトロ、ニトリル、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基およびアミノ基からなる群から選択された１つ以上の置換基で置換もしくは非置換された２価の複素環基であり、
   Ａは、ハロゲン基、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、置換もしくは非置換のアリールアミン基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換のアリールアルキル基、置換もしくは非置換のアリールアルケニル基、置換もしくは非置換の複素環基、ニトリル基およびアセチレン基からなる群から選択された１つ以上の置換基で置換もしくは非置換されたアリール基であり、
   Ｂは、ハロゲン基、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、置換もしくは非置換のアリールアミン基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換のアリールアルキル基、置換もしくは非置換のアリールアルケニル基、置換もしくは非置換の複素環基、ニトリル基およびアセチレン基からなる群から選択された１つ以上の置換基で置換もしくは非置換されたアリールアミン基；またはハロゲン基、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、置換もしくは非置換のアリールアミン基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換のアリールアルキル基、置換もしくは非置換のアリールアルケニル基、置換もしくは非置換の複素環基、ニトリル基およびアセチレン基からなる群から選択された１つ以上の置換基で置換もしくは非置換され、ヘテロ原子としてＯ、ＮまたはＳを含む複素環基であり、
   ｍおよびｎは各々１〜１０の範囲の整数および０〜１０の範囲の整数であり、ｐは１〜１０の範囲の整数であり、
   Ｒ１〜Ｒ７は、各々独立に、水素；ハロゲン基、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換のアリールアルキル基、置換もしくは非置換のアリールアルケニル基、置換もしくは非置換の複素環基、ニトリル基およびアセチレン基からなる群から選択された１つ以上の置換基で置換もしくは非置換されたアルキル基；ハロゲン基、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換のアリールアルキル基、置換もしくは非置換のアリールアルケニル基、置換もしくは非置換の複素環基、ニトリル基およびアセチレン基からなる群から選択された１つ以上の置換基で置換もしくは非置換されたアルコキシ基；ハロゲン基、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換のアリールアルキル基、置換もしくは非置換のアリールアルケニル基、置換もしくは非置換の複素環基、ニトリル基およびアセチレン基からなる群から選択された１つ以上の置換基で置換もしくは非置換されたアリール基；アルキル基、アルケニル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換のアリールアルキル基、置換もしくは非置換のアリールアルケニル基からなる群から選択された１つ以上の置換基で置換されたアミノ基；ニトロ基；およびハロゲン基からなる群から選択され、ここで、前記Ｒ１〜Ｒ７は互いに隣接基とともに脂肪族またはヘテロの縮合環を形成してもよい]
2. 化学式１のＡは、フェニル基、ビフェニル基、テルフェニル基、スチルベン基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントレン基、ピレニル基およびペリレニル基からなる群から選択される、請求項１に記載の化学式１の化合物。
3. 化学式１のＢが複素環である場合、チオフェン基、フラン基、ピロリル基、イミダゾリル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、オキサジアゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピラダジン基、キノリニル基、イソキノリン基およびアクリジル基からなる群から選択される、請求項１に記載の化学式１の化合物。
4. 化学式１で示される化合物は、下記化学式２および化学式３のいずれか１つで示される、請求項１に記載の化学式１の化合物。
   

   

   [前記化学式において、Ａｒ’は、各々独立に、フェニル基、ビフェニル基、テルフェニル基、スチルベン基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントレン基、ピレニル基およびペリレニル基からなる群から選択され、Ａｒ、ＹおよびＲ１〜Ｒ８は、各々、前記化学式１のＡｒ、ＹおよびＲ１〜Ｒ７に対する定義と同様である]
5. 化学式１で示される化合物は、下記化学式２−１および化学式３−１のいずれか１つで示される、請求項１に記載の化学式１の化合物。
   

   

   [ここで、Ａｒ、ＹおよびＲ１〜Ｒ８は、各々、前記化学式１のＡｒ、ＹおよびＲ１〜Ｒ７に対する定義と同様である]
6. 化学式１で示される化合物は、下記化学式２−２および化学式３−２のいずれか１つで示される、請求項１に記載の化学式１の化合物。
   

   

   [ここで、Ａｒ、ＹおよびＲ１〜Ｒ８は、各々、前記化学式１のＡｒ、ＹおよびＲ１〜Ｒ７に対する定義と同様である]
7. 化学式１のＢがアリールアミンである場合、下記の基のいずれか１つである、請求項１に記載の化学式１の化合物。
   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   

   
8. 化学式１のＡｒはフェニレンである、請求項１に記載の化学式１の化合物。
9. 化学式１の化合物は、下記化学式４〜化学式１５のいずれか１つの化合物である、請求項１に記載の化学式１の化合物。
   

   

   

   

   
10. 順次積層された、第１電極、発光層を有する１つ以上の層を含む有機物層および第２電極を含む有機発光素子であって、請求項１の化学式１の化合物、または化学式１の化合物に熱硬化性基あるいは光硬化性官能基が導入された化合物を含む有機物層を１層以上含む、有機発光素子。
11. 前記有機物層は正孔輸送層を含み、正孔輸送層が化学式１の化合物または化学式１の化合物に熱硬化性基あるいは光硬化性官能基が導入された化合物を含む、請求項１０に記載の有機発光素子。
12. 前記有機物層は正孔注入層を含み、正孔注入層が化学式１の化合物または化学式１の化合物に熱硬化性基あるいは光硬化性官能基が導入された化合物を含む、請求項１０に記載の有機発光素子。
13. 前記有機物層は正孔の注入および輸送をともにする層を含み、その層が化学式１の化合物である、または化学式１の化合物に熱硬化性基あるいは光硬化性官能基が導入された化合物を含む、請求項１０に記載の有機発光素子。
14. 前記有機物層は電子注入および電子輸送層を含み、電子注入または電子輸送層が化学式１の化合物、または化学式１の化合物に熱硬化性基あるいは光硬化性官能基が導入された化合物を含む、請求項１０に記載の有機発光素子。
15. 前記発光層が化学式１の化合物、または化学式１の化合物に熱硬化性基あるいは光硬化性官能基が導入された化合物を含む、請求項１０に記載の有機発光素子。

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