JP2011501438A - 半導体基板におけるイオン注入損傷のトラップ方法 - Google Patents
半導体基板におけるイオン注入損傷のトラップ方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011501438A JP2011501438A JP2010529995A JP2010529995A JP2011501438A JP 2011501438 A JP2011501438 A JP 2011501438A JP 2010529995 A JP2010529995 A JP 2010529995A JP 2010529995 A JP2010529995 A JP 2010529995A JP 2011501438 A JP2011501438 A JP 2011501438A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- atoms
- trap
- lattice
- interstitial
- region
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 22
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 15
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 14
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 title description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims abstract description 59
- 238000002513 implantation Methods 0.000 claims abstract description 23
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims description 17
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 12
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 238000005280 amorphization Methods 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007943 implant Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/26—Bombardment with radiation
- H01L21/263—Bombardment with radiation with high-energy radiation
- H01L21/265—Bombardment with radiation with high-energy radiation producing ion implantation
- H01L21/26506—Bombardment with radiation with high-energy radiation producing ion implantation in group IV semiconductors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/26—Bombardment with radiation
- H01L21/263—Bombardment with radiation with high-energy radiation
- H01L21/265—Bombardment with radiation with high-energy radiation producing ion implantation
- H01L21/26506—Bombardment with radiation with high-energy radiation producing ion implantation in group IV semiconductors
- H01L21/26513—Bombardment with radiation with high-energy radiation producing ion implantation in group IV semiconductors of electrically active species
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/322—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to modify their internal properties, e.g. to produce internal imperfections
- H01L21/3221—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to modify their internal properties, e.g. to produce internal imperfections of silicon bodies, e.g. for gettering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/324—Thermal treatment for modifying the properties of semiconductor bodies, e.g. annealing, sintering
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Insulated Gate Type Field-Effect Transistor (AREA)
Abstract
結晶格子内へのドーパント注入時に、前記格子の注入領域に生じる欠陥の影響を最小化する方法。前記方法は、前記格子を構成する原子よりもサイズの小さいトラップ原子をトラップ層に注入する工程から始まる。注入後、前記格子は、格子間欠陥原子が欠陥領域から放出されるのに十分な時間アニールされる。そうすることで、トラップ原子と放出された格子間原子のエネルギー的に安定したペアが形成される。
Description
本発明は、半導体製造の分野に関する。特に、電界効果トランジスタ(FET)の製造に関し、選択された導電性を有する半導体材料の形成をドーパントを注入することにより行う。
金属酸化膜半導体(MOS)FETの製造には、通常は純粋なシリコン(Si)からなる基板にソース領域及びドレイン領域を形成することが必要である。Siは単結晶として成長し、ウェハの形で提供される。Si格子の区域は、ヒ素等のドナー型ドーパントを加えた場合は、N型の導電性の領域に変換され、ボロン等のアクセプタ型ドーパントを加えた場合は、P型の導電性の領域に変換される。これらのドーパントは、一般にイオン衝撃によって導入される。このイオン衝撃では、イオン化したドーパント原子が、格子で活性化されて加速し、主として衝突エネルギーとイオンの質量によって決まる深さまで結晶構造に浸透する。
衝突によって、格子を構成する原子が格子部位から外れる結晶損傷が生じ、それと同時に、一定数の原子が新しく導入されて格子位置の外側の位置で同様に停止することが直に推測される。このように原子が格子位置から外れる現象は、欠陥と呼ばれる。空の格子部位は空孔欠陥と呼ばれ、格子部位でない場所に位置する原子は、格子間欠陥と呼ばれる。従来技術で一般に用いられている回復方法では、格子に熱処理を施して結晶をアニールし、原子を穏やかに活性化して格子構造に復帰させる。これにより、全体のエネルギーレベルが最も低い構成となる。
本発明の一態様は、結晶格子内へのドーパント注入時に前記格子の注入領域に生じる欠陥の影響を最小化する方法である。前記方法は、格子を構成する原子よりもサイズが小さいトラップ原子をトラップ層に注入するステップで始まる。注入後、格子間欠陥原子が欠陥領域から放出されるのに十分な時間、格子をアニールする。このようにして、トラップ原子と放出された格子間原子とで、エネルギー的に安定したペアが形成される。
以下、図を参照して詳細な説明を行う。好ましい実施形態は、本発明を説明するためのものであり、請求項によって定義された本発明の範囲を限定するために記載されるのではない。当業者は、以下の記載に関して様々な等価な変形例を想起すると思われる。
本開示の課題は、イオン注入が実施された後の典型的なMOSFET100を示した図1に示されている。トランジスタはシリコン基板101上に形成され、ソース102、ドレイン104、ゲート106を備える。各電極に隣接する空乏層108は、当該分野では公知である。
図1には、装置の主なリークモードが示されている。これらのリークパスは、トランジスタアレイが数百万ある場合を考えると、かなりの電力が消費されるため、設計者にとっては重大な関心事である。リークモードには、空乏層にまたがる接合リーク、チャネルからゲート電極までのゲート誘電体にまたがるゲートリーク、ドレイン誘起障壁低下(DIBL)がある。DIBLは、その名が示すとおり、チャネルのドレイン側の端部の近傍の空乏層が広がり、ソース‐チャネル間の障壁が低下する現象である。
イオン注入の副作用は、基板中に散乱する欠陥110として現れる。図には次のような重要な特徴が示されている。空乏層の外側にある欠陥は、トランジスタの性能又はリークに対する影響という点では、無害である。欠陥は導電経路を形成するが、基板内で独立していて空乏層から分離している場合には完全に無害である。しかし、空乏層内の欠陥は低抵抗ブリッジを形成し、空乏層に短絡回路が容易に形成されてしまう。また、欠陥はバンドギャップ内にエネルギーレベルを導入する傾向があり、それによって電子‐ホールのペアの発生が急激に増加して、接合間に電流が流れることからもリークは発生する。
欠陥は、通常、エネルギーが最も低い状態となる位置へ原子が移動して当該環境下で所定の構造が実現されるのに十分な時間、ウェハを継続して熱に曝してアニールすることによって対処される。図2は、イオン注入後の典型的な基板を示しており、3秒後、10秒後、30秒後、60秒後の4回における欠陥レベルを示している。図の左上部分は、注入してから3秒経過した後の状況を示しており、主にドーパント原子を注入した深さに相当する深さにおいて多数の欠陥が現れている。ドーパント原子注入後のアニール処理における、アモルファス化したシリコンのエピタキシャル再結晶により、欠陥の上にはきれいなシリコン層が形成されている。格子部位の外にある原子は熱によって十分に活性化され、格子部位又は上記シリコン層の表面に移動するか、或いは、他の欠陥と結合する。この結果、単一の欠陥よりも低いエネルギー状態が生じる。これによる影響は、10秒間のアニール処理後の状況を示した図の右上部分に見ることができる。図から分かるように、欠陥の総数は減少し、サイズが大きくなっている。図の左下部分に示されているように、30秒後では、欠陥の数は急激に減少し、大きな欠陥が幾つかと小さな欠陥が僅かに残っている。最後に、60秒後では、極僅かな欠陥が残っており、30秒後にあった大きな欠陥はサイズが小さくなっている。図1に示すように、たとえ僅かな欠陥でも空乏区域に残っていれば、そうした欠陥は、小さなリーク電流を引き起こすだけでなく、短絡回路が形成されるといった深刻な問題を引き起こす可能性がある。
これまで当該分野では、欠陥の対処法として、図3a及び図3bに示されるメカニズムが利用されてきた。図3aに見られるように、注入工程によって、欠陥110によって占められる損傷領域が形成される。その下には主に、損傷のない基板101が存在する。アモルファスシリコン(a‐Si)103の区域は、損傷区域とシリコン表面105の間にある。a‐Siは、注入工程の更なる副作用であり、格子を通過する高エネルギーの原子が格子構造を大きく破壊するために形成される。図のように、アニールにより、格子間欠陥は表面へ移動する傾向があり、注入によって置き換わった格子間Si原子を含めて、a‐Siは格子構造を再度構成し、表面105に新しい格子部位を形成する。アニールの結果、図3bに示すように、大部分の欠陥が除去されて格子構造が修復されるが、残存する欠陥は、注入直後に現れた個々の空孔や格子間欠陥よりもずっと大きい傾向がある。上述の通り、個々の欠陥は融合して線欠陥、領域欠陥、格子間ループを形成する。
図3a及び図3bのメカニズムは、欠陥110から表面105までの距離が空乏層の深さよりも大きいと想定した場合、完全に機能する。現代のディープサブミクロンの半導体デザインでは、当該想定が疑問視されており、図1に見られるように、空乏層に欠陥が残って問題を引き起こすことが強く懸念される。例えば、図3bにおいて、表面105付近に線欠陥が示されている。このような欠陥は、トランジスタの形成時に、問題を引き起こす可能性が非常に高い。
これに対する解決策を図4a及び図4bに示す。図4a及び図4bではトラップ層103が追加されている。このトラップ層103は、ドーパント注入後に、注入エネルギーを調節して、ドーパントを注入した深さよりも僅かに浅いところにイオン注入を行うことよって形成される。トラップ層に注入される原子は、格子を構成する原子よりも小さいものが選択される。そうすることで、トラップ層によって格子全体に伸張応力が生じる。更に、欠陥110からの格子間原子がトラップ層を貫通する時、格子間原子によって生じた応力と近隣のトラップ原子によって生じた応力を組合わせた応力は、トラップ原子のみによる応力、或いは、格子間原子のみによる応力よりも小さい。したがって、格子間原子は、表面に移動する、或いは、欠陥領域に戻るためにエネルギーコストを必要とするため、トラップ層は格子間原子にとってエネルギー的に好ましい場所となる。トラップ層は、効果的に格子間原子を保持し、それらの基板表面への移動をブロックする。
アニール後の結果を図4bに示す。図4bでは、大きな欠陥が基板内の深いところに幾つか残っており、多数の小さい個々の欠陥はトラップ層内に捕獲されている。トラップ層と基板表面の間の領域には欠陥が全くなく、これにより、設計者は、半導体におけるリソグラフィー時のサイズが如何に小さくなっても、トラップ層の基板内における位置を十分に深くすることができ、それによって空乏層内の欠陥を確実に無くすことができる。
上述したとおり、トラップ層に注入する原子を選択する際の第1の原則は、原子のサイズである。トラップ機能を発揮するためには、トラップ層注入によって、格子に対して伸張応力を与えなければならない。したがって、シリコン格子に対しては、周期表においてシリコンよりも前に表れる原子が十分にその条件を満たすと思われる。しかし、設計図には他に考慮すべき点を幾つか加える必要がある。1つは、ドーパント原子と組み合わせた時のトラップ原子の安定性である。一実施形態では、n型MOSFETの形成には高投与量のヒ素原子を用い、p型MOSFETの形成にはゲルマニウムのプレアモルファス化注入(PAI)を用いる。こうした状況では、炭素、窒素、フッ素の何れをトラップ層原子として用いても良い結果が得られる。もう1つ考慮しなければならないのは、格子構造におけるトラップ原子の安定性である。例えば、ナトリウムはトラップ原子として良好な特性を示すと思われるが、電荷を運搬するので、電荷が室温で格子内を移動するため、不適当である。後者の点については、更に、トラップ注入物が、トラップされた格子間原子と電気的に中性なペアを形成することが必要となる。
更に、トラップ層の場所についても考慮する必要がある。トラップ層の効果を高めるには、トラップ層を注入損傷領域の直ぐ隣に配置しなければならないことが分かっている。したがって、設計者は、リソグラフィー時のサイズ、空乏層と共に、この点を考慮に入れると思われる。
本発明は、上述の好ましい実施形態、及び、実施例を参照することによって開示されるが、これらの例は、限定するためではなく、説明のために記載されていると理解される。変形及び組合せは、本発明の精神及び以下の特許請求の範囲を逸脱しない限りにおいて、当業者によって容易に想起されると考えられる。
Claims (18)
- 結晶格子内へのドーパント注入時に、前記格子の注入領域に生じる欠陥の影響を最小化する方法であって、
前記格子を構成する原子とエネルギー的に安定したペアを容易に形成するように選択されたトラップ原子をトラップ層に注入する工程と、
格子間欠陥原子が前記注入に起因する欠陥領域から放出されるのに十分な時間、前記格子をアニールする工程と、を備え、
前記トラップ原子と放出された格子間原子のエネルギー的に安定したペアが形成されることを特徴とする方法。 - 前記トラップ原子が電気的に中性であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記トラップ原子と放出された前記格子間原子によって形成される前記ペアが、電気的に中性であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記格子を構成する原子がシリコンであり、前記トラップ原子が炭素、窒素、フッ素からなるグループから選択されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記トラップ原子がシリコン原子よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記アニール工程において、アモルファス化されたシリコンのエピタキシャル再結晶化が行われ、
前記結晶格子の表面と、前記アニール工程の後に注入損傷が残存していると予測される場所との間の選択された場所に、前記トラップ原子が注入されることを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 半導体の製造方法であって、
前記半導体は、結晶格子基板上に形成され、N型領域及びP型領域を有し、前記領域間にチャネル、前記チャネルの上にゲート、前記各領域に隣接して空乏層を備え、前記格子内へのドーパント注入時に前記格子の注入領域に生じる欠陥の影響が最小化され、
前記方法は、
前記格子を構成する原子とエネルギー的に安定したペアを容易に形成するように選択されたトラップ原子をトラップ層に注入する工程と、
格子間欠陥原子が前記注入に起因する欠陥領域から放出されるのに十分な時間、前記格子をアニールする工程と、を備え、
前記トラップ原子と放出された格子間原子のエネルギー的に安定したペアが形成されることを特徴とする製造方法。 - 前記トラップ原子が電気的に中性であることを特徴とする請求項7に記載の製造方法。
- 前記トラップ原子と放出された前記格子間原子によって形成される前記ペアが、電気的に中性であることを特徴とする請求項7に記載の製造方法。
- 前記格子を構成する原子がシリコンであり、前記トラップ原子が炭素、窒素、フッ素からなるグループから選択されることを特徴とする請求項7に記載の製造方法。
- 前記トラップ原子がシリコン原子よりも小さいことを特徴とする請求項7に記載の製造方法。
- 前記アニール工程において、アモルファス化されたシリコンのエピタキシャル再結晶化が行われ、
前記結晶格子の表面と、前記アニール工程の後に注入損傷が残存していると予測される場所との間の選択された場所に、前記トラップ原子が注入されることを特徴とする請求項7に記載の製造方法。 - 前記アニール工程において、アモルファス化されたシリコンのエピタキシャル再結晶化が行われ、
前記空乏層と、前記アニール工程の後に注入損傷が残存していると予測される場所との間の選択された場所に、前記トラップ原子が注入されることを特徴とする請求項7に記載の製造方法。 - 前記空乏層に少なくとも一部が重なる場所に、前記トラップ原子が導入され、前記ペアの内どちらもエネルギーレベルをバンドギャップに導入しないことを特徴とする請求項7に記載の製造方法。
- 結晶格子基板上に形成され、N型領域及びP型領域を有し、前記領域間にチャネル、前記チャネルの上にゲート、前記各領域に隣接して空乏層を備える半導体であって、
前記半導体は、前記格子を構成する原子よりも小さいサイズのトラップ原子が注入されたトラップ層を備え、
前記トラップ層は、前記空乏層の外側に位置し、トラップ原子と格子間欠陥原子からなるエネルギー的に安定したペアを備え、
前記欠陥原子は、ドーパント注入処理の間に前記ドーパント注入処理によって損傷した基板の領域から放出された原子であることを特徴とする半導体。 - 前記トラップ原子が電気的に中性であることを特徴とする請求項15に記載の半導体。
- 前記トラップ原子と放出された前記格子間原子によって形成される前記ペアが、電気的に中性であることを特徴とする請求項15に記載の半導体。
- 前記格子を構成する原子がシリコンであり、前記トラップ原子が炭素、窒素、フッ素からなるグループから選択されることを特徴とする請求項15に記載の半導体。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/926,485 US20090108408A1 (en) | 2007-10-29 | 2007-10-29 | Method for Trapping Implant Damage in a Semiconductor Substrate |
PCT/US2008/071579 WO2009058450A1 (en) | 2007-10-29 | 2008-07-30 | Method for trapping implant damage in a semiconductor substrate |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011501438A true JP2011501438A (ja) | 2011-01-06 |
Family
ID=40581774
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010529995A Withdrawn JP2011501438A (ja) | 2007-10-29 | 2008-07-30 | 半導体基板におけるイオン注入損傷のトラップ方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20090108408A1 (ja) |
EP (1) | EP2208220A1 (ja) |
JP (1) | JP2011501438A (ja) |
CN (1) | CN101681819A (ja) |
TW (1) | TW200921767A (ja) |
WO (1) | WO2009058450A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102487009B (zh) * | 2010-12-02 | 2014-06-04 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种nmos器件源极和漏极的制作方法 |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR910006249B1 (ko) * | 1983-04-01 | 1991-08-17 | 가부시기가이샤 히다찌세이사꾸쇼 | 반도체 장치 |
JPH0338044A (ja) * | 1989-07-05 | 1991-02-19 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造方法 |
US5592012A (en) * | 1993-04-06 | 1997-01-07 | Sharp Kabushiki Kaisha | Multivalued semiconductor read only storage device and method of driving the device and method of manufacturing the device |
US6590230B1 (en) * | 1996-10-15 | 2003-07-08 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
US5966622A (en) * | 1997-10-08 | 1999-10-12 | Lucent Technologies Inc. | Process for bonding crystalline substrates with different crystal lattices |
CN1155074C (zh) * | 1998-09-02 | 2004-06-23 | Memc电子材料有限公司 | 从低缺陷密度的单晶硅上制备硅-绝缘体结构 |
US6180476B1 (en) * | 1998-11-06 | 2001-01-30 | Advanced Micro Devices, Inc. | Dual amorphization implant process for ultra-shallow drain and source extensions |
JP2001144170A (ja) * | 1999-11-11 | 2001-05-25 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
US6437406B1 (en) * | 2000-10-19 | 2002-08-20 | International Business Machines Corporation | Super-halo formation in FETs |
US6685772B2 (en) * | 2001-03-28 | 2004-02-03 | California Institute Of Technology | De novo processing of electronic materials |
ITTO20011129A1 (it) * | 2001-12-04 | 2003-06-04 | Infm Istituto Naz Per La Fisi | Metodo per la soppressione della diffusione anomala transiente di droganti in silicio. |
JP2004014856A (ja) * | 2002-06-07 | 2004-01-15 | Sharp Corp | 半導体基板の製造方法及び半導体装置の製造方法 |
JP4408653B2 (ja) * | 2003-05-30 | 2010-02-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理方法および半導体装置の製造方法 |
US6982207B2 (en) * | 2003-07-11 | 2006-01-03 | Micron Technology, Inc. | Methods for filling high aspect ratio trenches in semiconductor layers |
US6998666B2 (en) * | 2004-01-09 | 2006-02-14 | International Business Machines Corporation | Nitrided STI liner oxide for reduced corner device impact on vertical device performance |
US7169675B2 (en) * | 2004-07-07 | 2007-01-30 | Chartered Semiconductor Manufacturing, Ltd | Material architecture for the fabrication of low temperature transistor |
US7316960B2 (en) * | 2004-07-13 | 2008-01-08 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Strain enhanced ultra shallow junction formation |
US7271464B2 (en) * | 2004-08-24 | 2007-09-18 | Micron Technology, Inc. | Liner for shallow trench isolation |
US7482255B2 (en) * | 2004-12-17 | 2009-01-27 | Houda Graoui | Method of ion implantation to reduce transient enhanced diffusion |
US7538351B2 (en) * | 2005-03-23 | 2009-05-26 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Method for forming an SOI structure with improved carrier mobility and ESD protection |
JP5155536B2 (ja) * | 2006-07-28 | 2013-03-06 | 一般財団法人電力中央研究所 | SiC結晶の質を向上させる方法およびSiC半導体素子の製造方法 |
US7605407B2 (en) * | 2006-09-06 | 2009-10-20 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Composite stressors with variable element atomic concentrations in MOS devices |
US7521763B2 (en) * | 2007-01-03 | 2009-04-21 | International Business Machines Corporation | Dual stress STI |
-
2007
- 2007-10-29 US US11/926,485 patent/US20090108408A1/en not_active Abandoned
-
2008
- 2008-07-30 WO PCT/US2008/071579 patent/WO2009058450A1/en active Application Filing
- 2008-07-30 JP JP2010529995A patent/JP2011501438A/ja not_active Withdrawn
- 2008-07-30 EP EP08782523A patent/EP2208220A1/en not_active Withdrawn
- 2008-07-30 CN CN200880014157A patent/CN101681819A/zh active Pending
- 2008-07-30 TW TW097128818A patent/TW200921767A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2009058450A1 (en) | 2009-05-07 |
CN101681819A (zh) | 2010-03-24 |
TW200921767A (en) | 2009-05-16 |
EP2208220A1 (en) | 2010-07-21 |
US20090108408A1 (en) | 2009-04-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101605150B1 (ko) | 스트레인 유도 합금 및 그레이드형 도펀트 프로파일을 포함하는 인 시츄 형성되는 드레인 및 소스 영역들 | |
JP5204762B2 (ja) | ボディポテンシャルが低減したsoiトランジスタの製造方法 | |
US6682980B2 (en) | Fabrication of abrupt ultra-shallow junctions using angled PAI and fluorine implant | |
US7855118B2 (en) | Drive current increase in transistors by asymmetric amorphization implantation | |
KR100305623B1 (ko) | 이온주입을이용한반도체장치의제조방법 | |
US20060273391A1 (en) | CMOS devices for low power integrated circuits | |
CN1679169A (zh) | 半导体器件及其制造方法 | |
JP2010135800A (ja) | 半導体素子及びその製造方法 | |
JP2012516556A (ja) | 減少させられたゲート電極ピッチを有する非対称トランジスタのための段階的なウエル注入 | |
CN103187297B (zh) | 鳍式场效应晶体管的制作方法 | |
US7071069B2 (en) | Shallow amorphizing implant for gettering of deep secondary end of range defects | |
TWI556320B (zh) | 半導體設備製造中低的熱預算方案 | |
CN102938375B (zh) | 一种场效应晶体管及形成方法 | |
CN102468165B (zh) | 晶体管及其制造方法 | |
US20110097868A1 (en) | Method for fabricating p-channel field-effect transistor (fet) | |
JP2009010379A (ja) | 半導体素子及びその製造方法 | |
KR20070000330A (ko) | 반도체장치의 제조방법 | |
JP2011501438A (ja) | 半導体基板におけるイオン注入損傷のトラップ方法 | |
KR20060136300A (ko) | 반도체장치의 제조방법 | |
JP5227412B2 (ja) | 半導体基板における格子欠陥の抑制方法 | |
CN102403226B (zh) | 晶体管及其制造方法 | |
US8664073B2 (en) | Method for fabricating field-effect transistor | |
KR19990059071A (ko) | 반도체 소자의 제조 방법 | |
JP2011187491A (ja) | 半導体装置および半導体装置の製造方法 | |
KR100540885B1 (ko) | 박막 트랜지스터 및 그 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20110513 |