JP2011253012A - 積層コアを有する光導波回路の作製方法およびこの光導波回路を含む光信号処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明による光導波回路の作製方法においては、基板上に、アンダークラッド、コア、中間クラッド、コアのように順次積み重なった2層以上のコア層を、フォトマスクを用いて露光し、それら多層コア層を含むガラス膜を一括してエッチングすることによって形成する。同一構造の光導波回路を3次元的に一括して加工形成することを特徴とする。さらに、上述の方法により作製した2つの積層型AWGをオーバークラッド層を向かい合わせにしてスタックさせる構造により、等価的により多くの層を積層可能となる。
【選択図】図1
Description
また、波長選択スイッチ(Wavelength selective switch : WSS)や可変分散補償器(Tunable optical dispersion compensator : TODC)などの光信号処理装置において、AWGを垂直方向に多段にスタックして高集積化を図り、空間光学系と組み合わせた構成のデバイス例も報告されている。これらの報告では、基板を含むチップ全体を、有機系の透明接着剤等によって張り合わせる方法でスタック構造を実現している(非特許文献1、特許文献3)。
12 アンダークラッド層
14、16、18、20 コア層
21、21a、21b オーバークラッド層
31、41、51、61、77、91 積層型AWG
34、94 LCOS
64 MEMS
95 ミラー
101 入出力導波路
102、102a、102b スラブ導波路
103、103a、103b アレイ導波路
321、322、323、324、621、622、623、624、781、782、783、784 光ファイバ
Claims (8)
- 基板上に、少なくとも一部に同一形状の光回路が前記基板面の垂直方向に2層以上積み重なって配置された構造を有する積層型光導波回路を作製する方法において、
前記基板上に、
第1のクラッド層と、
前記第1のクラッド層上に形成された第1のコア層と、
前記第1のコア層上に形成された第2のクラッド層と、
前記第2のクラッド層上に形成された第2のコア層とを含み、
少なくともコア層が2層以上含まれるようにコア層およびクラッド層を交互に積層したガラス膜を形成ステップと、
前記積層したガラス膜を前記第1のクラッド層の一部を含む深さまで、一括して加工して前記同一形状の光回路を形成するステップと、
前記同一形状の光回路を覆うオーバークラッド層を形成するステップと
を備えることを特徴とする方法。 - 前記請求項1に記載の方法による第1の積層型光集積回路と、
前記第1の積層型光集積回路と鏡面対称の形状の光回路を少なくとも一部に含む第2の積層型光集積回路とを備えた光導波回路において、
前記第1の積層型光集積回路と前記第2の積層型光集積回路とを、それぞれの前記オーバークラッド層同士を向かい合わせ、前記鏡面対称の形状の回路同士の位置が一致するように重ね合わせて固定するステップ
をさらに備えることを特徴とする方法。 - 前記積層型光導波回路において、前記各コア層の間で光結合が生じないように、前記コア層の中間にある前記クラッド層の厚さが調整されていることを特徴とする請求項1または2に記載の方法。
- 前記同一形状の光回路を形成する前記ステップにおいて、同一のフォトマスクを用いることによって、前記各コア層の形状を同一とすることを特徴とする請求項1乃至3いずれかに記載の方法。
- 前記各クラッド層および前記各コア層は、石英系ガラスからなることを特徴とする請求項1乃至4いずれかに記載の方法。
- 前記重ね合わせて固定する前記ステップは、前記オーバークラッド層同士を圧着しまたは真空チャックした状態で加熱融着するステップを含むことを特徴とする請求項2に記載の方法。
- 前記請求項1に記載された方法により作製された第1の積層型光集積回路と、
前記第1の積層型光集積回路と鏡面対称の形状の光回路を少なくとも一部に含む第2の積層型光集積回路とを備えた光導波回路において、
前記第1の積層型光集積回路と前記第2の積層型光集積回路とを、それぞれの前記オーバークラッド層同士を向かい合わせ、前記鏡面対称の形状の回路同士の位置が一致するように重ね合わせて固定されて作製されたことを特徴とする光集積回路。 - 前記請求項1乃至6のいずれかの方法により作製された積層型光導波回路と、LCOS、MEMSまたはバルク型分光素子の少なくとも1つ含む空間光学素子を組み合わせて構成されたことを特徴とする光信号処理装置。
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