JP2011237356A - ガスセンサ素子、及び、これを内蔵したガスセンサ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】少なくとも、有底筒状の酸素イオン伝導性の固体電解質体100と、基準電極110と、測定電極120と、貴金属触媒を担持する電極保護層130、140、150と、ヒータ20とを有するガスセンサ素子10であって、電極保護層130、140、150に含まれる貴金属触媒の量をヒータ20により加熱される昇温速度の速い位置(底部)ほど少なくし、ヒータ20により加熱される昇温速度の遅い位置(基部)ほど多くする。
【選択図】図1
Description
このため、始動時には、底部に設けた触媒のみが活性化するため、測定電極に到達する水素を十分抑制することができず、λ点ズレの解消が不十分となる虞がある。
先端側には、このガスセンサ素子の軸方向に平行な断面である軸断面における輪郭線が直線である脚部と、上記輪郭線が曲線である底部とが形成されており、
上記測定電極が上記脚部の表面と上記底部の表面とを覆う全面電極、又は、上記測定電極が上記脚部の表面のみを覆い、上記底部の表面を覆わない部分電極のいずれかからなり、上記ヒータにより加熱されたときの昇温速度の速い部位ほど上記電極保護層に含まれる上記貴金属触媒の量を多くし、上記ヒータにより加熱されたときの昇温速度の遅い部位ほど上記電極保護層に含まれる上記貴金属触媒の量を少なくする(請求項1)。
一方、内燃機関の燃焼排気を被測定ガスとしたとき、始動時には、被測定ガス中の成分として、上記電極保護層内の拡散速度が速い水素をより多く含む。
このため、始動時には、ガスセンサの出力がリーン側にλ点が移動するλ点ズレ現象を生じ易くなる。
第1の発明によれば、昇温速度の速い部位において活性化される貴金属触媒の量が多いので、始動時等の被測定ガス中の水素濃度が高い条件下においても、水素との反応が十分行われ、測定電極に到達する水素の影響を抑制できる。
また、ガスセンサ素子全体の温度が上昇し、安定化した状態では、上記脚部に設けられた電極保護層中の上記貴金属触媒の量が少ないので、触媒に吸着される被測定ガスが少なく、拡散速度が低下せず、高い応答性を維持できる。
また、第2の発明、及び/又は、第3の発明によれば、ガスセンサ素子全体の温度が上昇し、安定化した状態では、上記脚部に設けられた電極保護層中の上記貴金属触媒の量が少ないので、触媒に吸着される被測定ガスが少なく、拡散速度が低下せず、高い応答性を維持できる。
したがって、始動時のλ点ずれが少なく、定常運転時の応答性に優れたガスセンサ素子が実現できる。
図1を参照して、本発明の第1の実施形態におけるガスセンサ素子10について説明する。本図(a)は、ガスセンサ素子10の要部全体を示す断面図、(b)は、境界部103における拡大断面図である。
ガスセンサ素子10は、固体電解質体100と、基準電極110と、測定電極120と、コーティング層130と、触媒層140と、被毒層150とによって構成されている。
固体電解質体100は、例えばジルコニア等の酸素イオン伝導性のある固体電解質材料を略有底筒状に形成してあり、その先端側には、ガスセンサ素子10の軸方向に平行な断面である軸断面における輪郭線が直線である脚部101と輪郭線が曲線である底部102とが形成されている。
固体電解質体100の内側面と外側面とには、Pt等の導電性材料を用いて基準電極110と、測定電極120とが形成されている。
本実施形態において、測定電極120は脚部101の表面と底部102の表面とを覆う全面電極によって構成されている。
固体電解質体100の外側面を測定電極120ごと覆いつつ被測定ガスを透過させるとともに貴金属触媒を担持する電極保護層として、アルミナ、アルミナマグネシアスピネル、チタニアの少なくともいずれか一種を主成分とする金属酸化物を用いて測定電極110の表面を覆うようにコーティング層130が形成され、さらにその外表面を覆うとともに、アルミナ、アルミナマグネシアスピネル、ジルコニアの少なくともいずれか一種を主成分とする金属酸化物と、Pt、Pd、Rh、Ruの少なくともいずれか一種を主成分とする貴金属触媒とによって触媒層140が形成され、さらにその外表面を覆うように、アルミナ、アルミナマグネシアスピネル、チタニアの少なくともいずれか一種を主成分とする金属酸化物を用いて被毒層150が設けられている。
固体電解質体100の内側には、通電により発熱するヒータ200が挿通される。
具体的には、電極保護層130、140、150は、底部102における膜厚を底部膜厚TAとし、脚部101における膜厚を脚部膜厚TBとし、底部膜厚TAに対する脚部膜厚TBの比を膜厚比TA/TBと定義したとき、本実施形態においては、測定電極120が全面電極であるので、膜厚比TA/TBを1.5以上2.5以下に設定してある。
本実施形態においては、固体電解質体100の内側に挿入されたヒータ200により加熱されたときに、固体電解質体100の底部102と脚部101との境界部103、及び/又は、底部102が昇温速度の速い部位となる。
固体電解質体100は、イットリアを所定量点火したジルコニア造粒粉末を用いて、押出成形、加圧成型、CIP、HIP等の公知の方法により、一端が閉塞し、他端が開放する略有底筒状に形成した後、これを1400〜1600℃で焼成することによって形成できる。
基準電極110及び測定電極120は、Ptを用いて、その内外に蒸着や化学メッキ等の公知の方法により形成できる。
次いで、測定電極120の表面に、アルミナ、アルミナマグネシアスピネル、チタニアの少なくともいずれか一種を主成分とする金属酸化物を用いて、スラリー若しくはペーストの塗布、グリーンシートの貼り付け、焼成、プラズマ溶射等の公知の方法により測定電極120に直接接触する最下層部としてコーティング層130を形成することができる。
さらに、アルミナ、アルミナマグネシアスピネル、ジルコニアの少なくともいずれか一種を主成分とする金属酸化物と、Pt、Pd、Rh、Ruの少なくともいずれか一種を主成分とする貴金属触媒とを用いて、触媒層形成用スラリーを作成し、これにコーティング層130を形成した固体電解質体100を浸漬、乾燥、焼成することによって触媒層140を形成することができる。
このとき、脚部101と底部102との境界部103、及び/又は、底部102を触媒層形成用スラリーに浸漬する回数を多くしたり、スラリーからの引上げ速度を調整したりすることによって、触媒層140の膜厚を調整することが可能となり、脚部101と底部102との境界部103、及び/又は、底部102における触媒層140中に含まれる貴金属触媒の量を脚部101における触媒層140中に含まれる貴金属触媒の量よりも多くすることができる。
触媒層140を形成した後、アルミナ、アルミナマグネシアスピネル、ジルコニアの少なくともいずれか一種を主成分とする金属酸化物を用いて、スラリーを作成し、これに触媒層140を形成した固体電解質体100を浸漬し、乾燥し、焼成する等の公知の方法により、被毒層150を形成すれば、ガスセンサ素子10を得ることができる。
さらに、被毒層150を形成するに際して、アルミナゾル、シリカゾル等の無機バインダーを含むものを用いても良い。
本実施形態においては、脚部101に設けた触媒層140の貴金属触媒の担持率PBと、底部102に設けた触媒層140の貴金属触媒担持率PAとが、等しく設定してあり、膜厚の調整によって、触媒量に差を設けてある。
また、本実施形態に示すように、電極保護層を、コーティング層130と触媒層140と、被毒層150との三層によって構成しても良いし、後述するように、貴金属触媒を直接担持するコーティング層130aと被毒層150との二層によって構成しても良い。
図2に示すように、ガスセンサ1は、ガスセンサ素子10の内側にヒータ20が挿入保持され、ガスセンサ素子10を内側に挿通保持するハウジング30と、ハウジング30の基端側に配設され、ガスセンサ素子10の基端側を覆う大気側カバー31と、ハウジング30の先端側に配設されガスセンサ素子10の先端側を覆う素子カバー40とを有する。
ハウジング30は、被測定ガス500が流れる被測定ガス流路50の壁面に固定され、ガスセンサ素子10の先端を被測定ガス中に保持固定している。
ガスセンサ素子10は略筒状に形成された金属製のハウジング30の内面側に封止部材301等を介して固定されている。
ハウジング30の基端側開口部には、大気側カバー31が固定されている。
ハウジング30の先端側開口部には、素子カバー40が固定されている。
素子カバー40は、内側カバー41と外側カバー42とによって構成された二重筒構造となっており、それぞれの側面と底面とに開口411、412、421、422が設けられており、ガスセンサ素子10への被水を防止しつつ、被測定ガス500をガスセンサ素子10の先端側に導入する構造となっている。
ヒータ保持金具111は、固体電解質体100の内側に設けた基準電極110と電気的に接続された基準電極端子を兼ねており、さらに、端子金具112、信号線113を介して外部に設けた図略の検出手段に接続されている。
ガスセンサ素子10の基端外周には、略環状の測定電極端子121が嵌着されており、さらに、端子金具122、信号線123を介して外部に設けた図略の検出手段に接続されている。
ヒータ200の基端側には、導通端子210、220が設けられており、端子金具211、221が電気的に接続され、さらに、接続金具212、222、通電線213、223を介して外部に設けた図略の通電制御装置に接続されている。
大気側カバー31内には絶縁碍子32が弾性的に保持されており、絶縁碍子32は、端子金具112、122、212、222を絶縁固定している。
大気カバー31の基端側は、弾性部材33を介して、信号線113、123、通電線213、223を固定しつつ、封止されている。
大気カバー31及び弾性部材33には、大気導入孔330が設けられており、撥水フィルタ34を介して、ガスセンサ素子10の内側に設けた基準電極110の表面に基準ガスとして大気を導入する構造となっている。
このとき、本発明のガスセンサ1では、ヒータ200によって加熱されたときの昇温速度の速い部位である底部102に設けられた電極保護層130、140、150に含まれる貴金属触媒の量が、昇温速度の遅い部位である脚部101に設けられた電極保護層130、140、150に含まれる貴金属触媒の量より多いので、始動時には、底部102に設けた貴金属触媒による水素の浄化が支配的となり、λ点のズレが抑制され、ガスセンサ素子10全体の温度が上昇し、安定化した状態では、脚部101に設けられた電極保護層130、140、150中の貴金属触媒の量が少ないので、触媒に吸着される被測定ガス50が少なくなり、拡散速度が低下せず、高い応答性を維持できる。
いずれの場合も、固体電解質体100、100Pの表面の温度は、本図(c)に示すように、先端部が最も高くなり、基端側に向かって徐々に温度が低くなっている。
特に、始動時には、固体電解質体100の表面の温度は、先端側の底部102付近では400℃以上となり、固体電解質体100の酸素イオン伝導性が発揮され、触媒層140に含まれる貴金属触媒も活性を示すが、脚部101付近は、温度が低く、酸素イオン導電性を発揮せず、被測定ガス中の酸素イオン濃度の検出に寄与しない。
図4は、水素濃度を一定とし、酸素濃度を変化させたガスを被測定ガスとして用いて、λを0.9995から1.0005まで連続的に変化させたときの出力応答について、触媒担持量を変えた従来構造のガスセンサを用いた場合の特性を示す。
図4に示すように、触媒担持量が多くなると、応答時間の遅れが大きくなる。これは、触媒粒子に被測定ガス中の酸素が吸着され、拡散速度が低下するためと推察される。
触媒担持量を少なくすれば、応答性は向上すると推察されるが、始動時等水素の存在量が多い場合には、触媒による水素の浄化が不十分となり、水素の影響によりλ点ズレが大きくなると推察される。
本発明は、このような二律背反する課題を解決すべくなされたものである。
第1の実施形態では、コーティング層130を形成した後、触媒層140をその外表面に形成したが、図5に示すように、本実施形態においては、コーティング層130aに直接貴金属触媒140aを担持させている。
具体的には、アルミナ等を用いてプラズマ溶射等の公知の方法によりコーティング層130aを形成した後、例えば、H2PtCl6等の触媒金属塩水溶液に浸漬し、減圧下でコーティング層130a内に触媒金属塩を浸透させ、これを乾燥、焼成したり、予め、耐熱性金属酸化物の表面に貴金属粒子を析出、粒成長させたものを用いてコーティング層130aを形成したりしても良い。
このような構成においても、電極保護層130a、140a、150の底部膜厚TAを脚部膜厚TBよりも厚くすることによって、ヒータ200によって昇温されやすい底部102における電極保護層130a、140a、150中の貴金属触媒の量を多くすることができ、第1の実施形態と同様の効果を発揮できる。
具体的には、 底部102と脚部102との境界部103、及び/又は、底部102に設けた電極保護層130、140b、150の貴金属触媒の担持率PAを、脚部102に設け電極保護層の貴金属触媒の担持率PBよりも大きく設定してある。
より具体的には、底部102における触媒担持率を底部担持率PAとし、脚部101における触媒担持率を脚部担持率PBとし、底部担持率PAに対する脚部担持率PBの比を担持率比PA/PBと定義したとき、本実施形態においては、測定電極120が全面電極であるので、担持率比PA/PBを1.6以上、2.3以下となるように設定してある。
なお、触媒担持率は、ガスセンサ素子10bを切断し、破断面におけるSEM分析観察等によって算出できる。
具体的には、反射電子像によって、1万〜数万倍の画像を利用し、のべ面積で10μm2以上の領域を観察し、白色粒子として観察される貴金属触媒の粒子について円相当径を画像処理等により算出し、これを球状粒子とみなして、重量換算し、単位面積当たりの重さを触媒担持率とした。
また、底部担持率PAは、境界部103の4カ所と底部102bの膜厚TA2bの2カ所を観察し、その平均担持率を算出し、脚部担持率PBは、境界部103から5mmの位置で4カ所を観察し、その平均担持率を算出した。
或いは、コーティング層130bに直接貴金属触媒を担持させる場合には、底部102に設けたコーティング層130bと脚部101と設けたコーティング層130とを触媒金属塩水溶液に浸漬した後、底部102に設けたコーティング層130のみ、複数回触媒金属塩水溶液に浸漬することにより、底部102の貴金属触媒の担持量を増やすこともできる。
このため、膜厚比TA/TBを1.5以上、2.0以下に設定してある。
又は、担持率比PA/PBを1.7以上、2.0以下に設定しても良い。
さらに、これらを組み合わせて、膜厚比TA/TBを1.5以上、2.0以下以下とし、かつ、担持率比PA/PBを1.7以上、2.0以下に設定しても良い。
図8(a)に示すように、水素濃度を一定とし、酸素濃度を変化させたガスを被測定ガスとして用いて、λを0.9995から1.0005まで連続的に変化させ、そのときのセンサ出力について、本図(b)に示すように、λ=1.000からのλ点のズレについて、電極保護層の膜厚を変化させて、試験調査を行った。
また、図9(a)に示すように、被測定ガスとして、空燃比が0.9995となるように、一酸化炭素CO、メタンCH4、プロパンC3H8を混合したリッチガスと、空燃比が1.0005となるように酸素O2、窒素酸化物NOとを混合したリーンガスとを所定の周期で入れ換え、本図(b)に示すように、センサ出力が63%応答を示すときの、リッチリーン反転応答時間TRLとリーンリッチ反転応答時間TLRとの平均値を計測して、電極保護層の膜厚を変化させて、ステップ応答性について試験調査を行った。
表1は、測定電極120として、全面電極を用いた場合、表2は、測定電極120Pとして部分電極を用いた場合を示す。
比較例1として用いた、脚部101の脚部膜厚TBと底部102の底部膜厚TAとが等しい場合において、出力電圧が0.5vのときのλ点ズレ量が0.0009であったので、λ点が1.001より大きい場合は効果なしと評価し、判定結果を△印で示し、λ点が1.001以下で、1.0005より大きい場合は、効果ありと評価し、判定結果を○印で示し、λ点が1.005以下となった場合を効果大と評価し、判定結果を◎印で示した。
比較例1として用いた、脚部101の脚部膜厚TBと底部102の底部膜厚TAとが等しい場合のステップ応答時間が15秒であったので、ステップ応答時間が15秒より長い場合は効果なしと評価し、判定結果を△印で示し、ステップ応答時間が15秒以下の場合は効果ありと評価し、判定結果を○印で示した。
比較例1として用いた、脚部101の脚部触媒担持率PBと底部102の底部触媒担持率PAとが等しい場合において、出力電圧が0.5vのときのλ点ズレ量が0.0009であったので、λ点が1.001より大きい場合は効果なしと評価し、判定結果を△印で示し、λ点が1.001以下で、1.0005より大きい場合は、効果ありと評価し、判定結果を○印で示し、λ点が1.005以下となった場合を効果大と評価し、判定結果を◎印で示した。
比較例1として用いた、脚部101の脚部触媒担持率PBと底部102の底部触媒担持率PAとが等しい場合のステップ応答時間が15秒であったので、ステップ応答時間が15秒より長い場合は効果なしと評価し、判定結果を△印で示し、ステップ応答時間が15秒以下の場合は効果ありと評価し、判定結果を○印で示した。
10 ガスセンサ素子100 固体電解質体
101 底部
102 脚部
110 基準電極
120 測定電極
130 コーティング層(電極保護層)
140 触媒層(電極保護層)
150 被毒層(電極保護層)
200 ヒータ
TA 底部膜厚((TA1+TA2+TA2)/3)
TB 脚部膜厚((TB1+TB2)/2)
PA 底部担持率
PB 脚部担持率
Claims (7)
- 少なくとも、有底筒状の酸素イオン伝導性の固体電解質体と、該固体電解質体の内側面に配される基準電極と、上記固体電解質体の外側面に配される測定電極と、上記固体電解質体の外側面を上記測定電極ごと覆いつつ被測定ガスを透過させるとともに貴金属触媒を担持する電極保護層と、上記固体電解質体の内側に挿通され通電により発熱するヒータとを有するガスセンサ素子であって、
先端側には、このガスセンサ素子の軸方向に平行な断面である軸断面における輪郭線が直線である脚部と、上記輪郭線が曲線である底部とが形成されており、
上記測定電極が上記脚部の表面と上記底部の表面とを覆う全面電極、又は、上記測定電極が上記脚部の表面のみを覆い、上記底部の表面を覆わない部分電極のいずれかからなり、上記ヒータにより加熱されたときの昇温速度の速い部位ほど上記電極保護層に含まれる上記貴金属触媒の量を多くし、上記ヒータにより加熱されたときの昇温速度の遅い部位ほど上記電極保護層に含まれる上記貴金属触媒の量を少なくしたことを特徴とするガスセンサ素子。 - 上記底部と上記脚部との境界部、及び/又は、上記底部に設けた上記保護層の膜厚、即ち底部膜厚を、上記脚部に設けた上記保護層の膜厚、即ち、脚部膜厚よりも大きく形成した請求項1に記載のガスセンサ素子。
- 上記底部と上記脚部との境界部、及び/又は、上記電極保護層の上記底部に設けた上記保護層の上記貴金属触媒の担持率、即ち、底部担持率を、上記脚部に設けた上記保護層の上記貴金属触媒の担持率、即ち、脚部担持率よりも大きく設定した請求項1、又は、2に記載のガスセンサ素子。
- 上記電極保護層は、上記底部における膜厚を底部膜厚TAとし、上記脚部における膜厚を脚部膜厚TBとし、上記底部膜厚TAに対する上記脚部膜厚TBの比を膜厚比TA/TBと定義したとき、上記測定電極が全面電極であるときには、上記膜厚比TA/TBが1.5以上2.5以下であり、上記測定電極が上記部分電極であるときには、上記膜厚比TA/TBが1.5以上、2.0以下である請求項1ないし3のいずれか1項に記載のガスセンサ素子。
- 上記電極保護層は、上記底部における触媒担持率を底部担持率PAとし、上記脚部における触媒担持率を脚部担持率PBとし、上記底部担持率PAに対する上記脚部担持率PBの比を担持率比PA/PBと定義したとき、上記測定電極が全面電極であるときには、上記担持率比PA/PBが1.6以上、2.3以下であり、上記測定電極が上記部分電極であるときには、上記担持率比PA/PBが1.7以上、2.0以下である請求項1ないし4のいずれか1項に記載のガスセンサ素子。
- 上記電極保護層は、少なくとも二層で形成し、上記電極保護層のうち上記測定電極と直接接触する最下層部は、アルミナ、アルミナマグネシアスピネル、チタニアの少なくともいずれか一種を主成分とする金属酸化物によって形成し、
上記電極保護層の最下層部の外表面を覆うとともに、
アルミナ、アルミナマグネシアスピネル、ジルコニアの少なくともいずれか一種を主成分とする金属酸化物と、
Pt、Pd、Rh、Ruの少なくともいずれか一種を主成分とする貴金属触媒とによって触媒層を形成した請求項1ないし5のいずれか1項に記載のガスセンサ素子。 - 被測定ガス中の特定ガス成分の濃度を検出するガスセンサであって、請求項1ないし6のいずれか1項に記載のガスセンサ素子と、
このガスセンサ素子を内側に挿通保持するハウジングと、このハウジングの基端側に配設され上記ガスセンサ素子の基端側を覆う大気側カバーと、上記ハウジングの先端側に配設され上記ガスセンサ素子の先端側を覆う素子カバーとを有するガスセンサ。
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