JP2011218820A - ノズルプレートの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】液体が吐出するノズルを有するノズルプレートにおいて、前記ノズルの内面は、前記液体が吐出する吐出口から順に、親液性を有する第1親液面、撥液性を有する撥液面、親液性を有する第2親液面が形成されていること、を特徴とする。
【選択図】図1
Description
図1は、第1実施形態のノズルプレート11のノズル近傍の拡大図である。図1に示すように、第1実施形態のノズルプレート11は、支持層21、Box層22(酸化膜層)、活性層23からなるSOI基板について、活性層23側に吐出口を設けたノズル24が形成されるものである。そして、本発明の特徴点として、ノズル24内のBox層22の部分に内面24Aの一周に亘って帯状の撥液膜26が形成されている。これにより、ノズル24の内面は、吐出口から順に親液性を有する活性層23の面(第1親液面)、撥液性を有する帯状の撥液膜26の面(撥液面)、親液性を有する支持層21の面(第2親液面)により形成されている。
図5は、第2実施形態のノズルプレート14のノズル近傍の拡大図である。図5に示すように、第2実施形態のノズルプレート14は、ノズル24内において内面24Aの一周に亘って帯状の撥液膜(26A、26B)が2つ形成されている点が、第1実施形態のノズルプレート11と異なる。そして、2つの帯状の撥液膜(26A、26B)の面の表面エネルギーはそれぞれ異なり、インクの吐出面14Aから遠い帯状の第2撥液膜26Bに対してインクの吐出面14Aから近い帯状の第1撥液膜26Aの表面エネルギーは低い。
次に、本発明のノズルプレートを有するヘッドの構造について説明する。色別の各ヘッドの構造は共通しているので、以下、これらを代表して符号50によってヘッドを示すものとする。
次に、上述したヘッドを備えた画像記録装置の具体的な適用例としてのインクジェット記録装置について説明する。
図12は、インクジェット記録装置110のシステム構成を示すブロック図である。同図に示したように、インクジェット記録装置110は、通信インターフェース70、システムコントローラ72、画像メモリ74、モータドライバ76、ヒータドライバ78、プリント制御部80、画像バッファメモリ82、ヘッドドライバ84等を備えている。
Claims (12)
- 液体が吐出するノズルを有し、支持層と活性層と前記支持層および前記活性層に挟まれる酸化膜層とを備えるSOI基板を用いるノズルプレートの製造方法において、
前記SOI基板に前記液体が吐出する吐出口を前記活性層側に設けるノズルを形成するノズル形成工程と、
前記ノズルが形成された前記SOI基板の全面に撥液膜を形成する撥液膜形成工程と、
前記酸化膜層に形成する前記撥液膜を残留しつつ、前記支持層と前記活性層に形成する前記撥液膜を除去する撥液膜除去工程と、
を有することを特徴とするノズルプレートの製造方法。 - 請求項1に記載のノズルプレートの製造方法において、
前記撥液膜除去工程では、全面に撥液膜を形成する前記SOI基板を、前記酸化膜層に形成される前記撥液膜を残しつつ前記支持層と前記活性層に形成される前記撥液膜を除去する条件下で洗浄すること、
を特徴とするノズルプレートの製造方法。 - 請求項1又は2に記載のノズルプレートの製造方法において、
前記活性層の面の表面エネルギーをEs1、前記支持層の面の表面エネルギーをEs2、前記酸化膜層に形成する撥液膜の面の表面エネルギーをEhとするときに、Es2≧Es1>Ehの条件を満たすこと、
を特徴とするノズルプレートの製造方法。 - 請求項3に記載のノズルプレートの製造方法において、
前記支持層の表面に親液処理を行うことにより、Es2>Es1とすることを特徴とするノズルプレートの製造方法。 - 請求項1乃至4のいずれか1つに記載のノズルプレートの製造方法において、
前記液体の吐出面に撥液膜を形成する工程を更に有することを特徴とするノズルプレートの製造方法。 - 請求項5に記載のノズルプレートの製造方法において、
前記液体の吐出面に撥液膜を形成する工程は、前記ノズル内を塞いだ状態で前記液体の吐出面側のみに撥液処理を行って、前記液体の吐出面に撥液膜を形成することを特徴とするノズルプレートの製造方法。 - 請求項5又は6に記載のノズルプレートの製造方法において、
前記液体の吐出面に形成する撥液膜の面の表面エネルギーをEoとするとき、Es2≧Es1>Eh≧Eoの条件を満たすことを特徴とするノズルプレートの製造方法。 - 液体が吐出するノズルを有し、第1活性層と第2活性層と支持層と前記第1活性層および第2活性層に挟まれる第1酸化膜層と前記第2活性層および前記支持層に挟まれる第2酸化膜層とを備えるSOI基板を用いるノズルプレートの製造方法において、
前記第1活性層と前記第1酸化膜層と前記第2活性層をエッチングし第1開口部を形成する第1開口部形成工程と、
前記第1開口部と前記第1活性層の表面に撥液膜を形成する第1開口部側撥液膜形成工程と、
前記支持層および前記第2酸化膜層をエッチングし前記第1開口部と貫通する第2開口部を形成して前記ノズルを形成する第2開口部形成工程と、
前記第2開口部と前記支持層の表面に撥液膜を形成する第2開口部側撥液膜形成工程と、
前記第1開口部側撥液膜形成工程により前記第1開口部に形成される撥液膜のうち前記第1酸化膜層の部分に形成される第1撥液膜、および、前記第2開口部側撥液膜形成工程により前記第2開口部に形成される撥液膜のうち前記第2酸化膜層の部分に形成される第2撥液膜が残留するように前記第1撥液膜の部分および前記第2撥液膜の部分以外の撥液膜を除去する撥液膜除去工程と、を有し、
前記第1撥液膜の表面エネルギーは前記第2撥液膜の表面エネルギーよりも低いこと、を特徴とするノズルプレートの製造方法。 - 請求項8に記載のノズルプレートの製造方法において、
前記液体の吐出面に撥液膜を形成する工程を更に有することを特徴とするノズルプレートの製造方法。 - 請求項9に記載のノズルプレートの製造方法において、
前記液体の吐出面に撥液膜を形成する工程は、前記ノズル内を塞いだ状態で前記液体の吐出面側のみに撥液処理を行って、前記液体の吐出面に撥液膜を形成することを特徴とするノズルプレートの製造方法。 - 液体が吐出するノズルを有し、支持層と活性層と前記支持層および前記活性層に挟まれる酸化膜層とを備えるSOI基板を用いるノズルプレートの製造方法において、
前記SOI基板に前記液体が吐出する吐出口を前記活性層側に設けるノズルを形成するノズル形成工程と、
前記液体の吐出面に酸化膜層を形成する工程と、
前記ノズルが形成されるとともに、前記液体の吐出面に酸化膜層が形成された前記SOI基板の全面に撥液膜を形成する撥液膜形成工程と、
前記ノズル内の酸化膜層と前記液体の吐出面に形成される酸化膜層とに形成する前記撥液膜を残留しつつ、前記支持層と前記活性層に形成する前記撥液膜を除去する撥液膜除去工程と、
を有することを特徴とするノズルプレートの製造方法。 - 請求項11に記載のノズルプレートの製造方法において、
前記活性層の面の表面エネルギーをEs1、前記支持層の面の表面エネルギーをEs2、前記ノズル内の酸化膜層に形成する撥液膜の面の表面エネルギーをEh、前記液体の吐出面に形成する撥液膜の面の表面エネルギーをEoとするとき、Es2≧Es1>Eh≧Eoの条件を満たすことを特徴とするノズルプレートの製造方法。
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JP2005040979A (ja) * | 2003-07-22 | 2005-02-17 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置、及び機能性膜 |
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