JP2011215517A - リペア装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明のリペア装置は処理対象パネルのリペア処理を行う。処理対象パネルを搬送してリペア処理を行う処理コンベアを備え、当該処理コンベアが、ローラコンベア部と、搬入部と、リペア部と、搬出部と、パネル搬送ステージとを備えた。前記ローラコンベア部は、フリーローラを備えて前記パネル搬送ステージによる前記パネルの搬送を補助する。前記リペア部のXY軸ステージは、レーザ装置の搬送方向と直行する方向の位置調整を行うY軸移動機構と、前記パネル搬送ステージで前記パネルの位置決めがされた後に前記レーザ装置を搬送方向に移動させて補助的に微調整を行うX軸移動機構とを備えた。
【選択図】図2
Description
前記実施形態では、処理コンベア2と搬送コンベア3とを、別部材として構成したが、図14に示すように、一体的に構成してもよい。図14のリペア装置130の全体的構成は、前記実施形態のリペア装置1とほぼ同様であるため、ここでは、同一部材には同一符号を付して、その説明を省略する。
Claims (4)
- 処理対象パネルのリペア処理を行うリペア装置であって、
処理対象パネルを搬送してリペア処理を行う処理コンベアを備え、
当該処理コンベアが、
前記処理対象パネルをスライド可能に支持するローラコンベア部と、
当該ローラコンベア部の上流側に設けられて処理対象パネルを外部から搬入する搬入部と、
前記ローラコンベア部の中央部に設けられて前記搬入部から受け取った前記パネルにリペア処理を施すリペア部と、
前記ローラコンベア部の下流側に設けられて前記リペア部でリペア処理が施された前記パネルを外部に搬出する搬出部と、
前記搬入部に搬入された前記パネルの搬送方向に直行する方向の位置決めをして当該パネルを搬送方向の前記リペア部及び前記搬出部に搬送すると共に搬送方向の位置決めをするパネル搬送ステージとを備え、
前記ローラコンベア部が、駆動源を持たず前記パネルをスライド可能に支持するフリーローラを備えて構成されて前記パネル搬送ステージによる前記パネルの搬送を補助し、
前記リペア部が、前記ローラコンベア部の下側から前記パネルの欠陥部にレーザ光を照射してリペアを施すレーザ装置と、当該レーザ装置を搬送方向とそれに直行する方向とに移動させてレーザ光の照射位置と前記パネルの欠陥位置とを合わせるXY軸ステージとを備え、
当該XY軸ステージが、前記レーザ装置の搬送方向と直行する方向の位置調整を行うY軸移動機構と、前記パネル搬送ステージで前記パネルの位置決めがされた後に前記レーザ装置を搬送方向に移動させて補助的にレーザ光の照射位置と欠陥位置との微調整を行うX軸移動機構とを備えたことを特徴とするリペア装置。 - 請求項1に記載のリペア装置において、
前記処理コンベアで処理が済んだ前記パネルを受け取って外部へ搬送する搬送コンベアを、前記処理コンベアと縦又は横に並べて配設されたことを特徴とするリペア装置。 - 請求項1又は2に記載のリペア装置において、
レーザ装置が前記パネルにその下側から向けた対物レンズを備え、当該対物レンズにゴミの付着を防止するシャッタを備えたことを特徴とするリペア装置。 - 請求項1乃至3のいずれか1項に記載のリペア装置において、
前記パネルの欠陥部を照明する照明部と、前記レーザ装置のレンズのゴミを除去するごみ除去部とを有する照明ごみ除去装置を備え、
当該照明ごみ除去装置を支持して前記照明部が、その透過照明の光軸と、前記レーザ装置からのレーザ光の光軸とが同一軸上に合わされるように、当該レーザ装置の移動と同期して追従、移動されて、常時照明状態を確保するXYZ軸ステージを備えたことを特徴とするリペア装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010085805A JP5432804B2 (ja) | 2010-04-02 | 2010-04-02 | リペア装置 |
| TW100106704A TWI457638B (zh) | 2010-04-02 | 2011-03-01 | 修理裝置 |
| KR1020110024484A KR20110111237A (ko) | 2010-04-02 | 2011-03-18 | 리페어 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2010085805A JP5432804B2 (ja) | 2010-04-02 | 2010-04-02 | リペア装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011215517A true JP2011215517A (ja) | 2011-10-27 |
| JP5432804B2 JP5432804B2 (ja) | 2014-03-05 |
Family
ID=44945268
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010085805A Expired - Fee Related JP5432804B2 (ja) | 2010-04-02 | 2010-04-02 | リペア装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5432804B2 (ja) |
| KR (1) | KR20110111237A (ja) |
| TW (1) | TWI457638B (ja) |
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| JP2005227652A (ja) * | 2004-02-16 | 2005-08-25 | Micronics Japan Co Ltd | 表示用パネルの処理装置 |
-
2010
- 2010-04-02 JP JP2010085805A patent/JP5432804B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-03-01 TW TW100106704A patent/TWI457638B/zh active
- 2011-03-18 KR KR1020110024484A patent/KR20110111237A/ko not_active Ceased
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| TWI457638B (zh) | 2014-10-21 |
| JP5432804B2 (ja) | 2014-03-05 |
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