JP2011211139A - 液体噴射ヘッド及びそれを用いた液体噴射装置並びに圧電素子 - Google Patents

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Abstract

【課題】耐久性に優れ且つ環境への負荷が小さい圧電素子を有する液体噴射ヘッド及びこれを用いた液体噴射装置並びに圧電素子を提供する。
【解決手段】液滴を噴射するノズル開口に連通した圧力発生室と、圧電体層および前記圧電体層に電圧を印加する電極を有する圧電素子と、を具備し、前記圧電体層は、ナトリウム、カリウム、リチウム、ニオブ及びタンタルを含有するペロブスカイト型酸化物及びマンガン酸ビスマスを含む固溶体からなる液体噴射ヘッドとする。
【選択図】なし

Description

本発明は液体噴射ヘッド及びそれを用いた液体噴射装置並びに圧電素子に関する。
液体噴射ヘッドの代表例としては、例えば、インク滴を吐出するノズル開口と連通する圧力発生室の一部を振動板で構成し、この振動板を圧電素子により変形させて圧力発生室のインクを加圧してノズル開口からインク滴として吐出させるインクジェット式記録ヘッドがある。インクジェット式記録ヘッドに用いられる圧電素子としては、電気的機械変換機能を呈する圧電材料、例えば、圧電セラミックスからなる圧電体層を、2つの電極で挟んで構成されたものがある。このような圧電素子は、撓み振動モードのアクチュエーター装置として液体噴射ヘッドに搭載される。
圧電セラミックスとして、高い変位特性を有するチタン酸ジルコン酸鉛(PZT)を用いた液体噴射ヘッドが知られている(特許文献1参照)。しかし、環境汚染の観点から、有害物質である鉛の含有量を抑えた圧電セラミックスを用いた液体噴射ヘッドが求められている。ここで、従来より、鉛を含有しない圧電セラミックスとして、例えばABOで示されるペロブスカイト構造を有する(K,Na)NbO(ニオブ酸カリウムナトリウム)等のカリウム、ナトリウム及びニオブを有するいわゆるKNN系材料が知られている(例えば、特許文献2参照)。
特開2001−223404号公報 特開2008−50206号公報
しかしながら、KNN系材料は、誘電損失(tanδ)が比較的高く、耐久性が不十分であるという問題がある。なお、このような問題はインクジェット式記録ヘッドに代表される液体噴射ヘッドに限定されず、他の装置に搭載される圧電素子等においても同様に存在する。
本発明はこのような事情に鑑み、耐久性に優れ且つ環境への負荷が小さい圧電素子を有する液体噴射ヘッド及びこれを用いた液体噴射装置並びに圧電素子を提供することを目的とする。
上記課題を解決する本発明の態様は、液滴を噴射するノズル開口に連通した圧力発生室と、圧電体層および前記圧電体層に電圧を印加する電極を有する圧電素子と、を具備し、前記圧電体層は、ナトリウム、カリウム、リチウム、ニオブ及びタンタルを含有するペロブスカイト型酸化物及びマンガン酸ビスマスを含む固溶体からなることを特徴とする液体噴射ヘッドにある。
かかる態様では、tanδが小さく耐久性に優れ、且つ、環境への負荷が小さい圧電素子を有する液体噴射ヘッドとなる。また、耐水性にも優れた圧電素子を有する液体噴射ヘッドとなる。
また、前記マンガン酸ビスマスは、前記ナトリウム、カリウム、リチウム、ニオブ及びタンタルを含有するペロブスカイト型酸化物に対して0.25mol%以上1mol%以下含まれることが好ましい。これによれば、より耐久性に優れた圧電素子を有する液体噴射ヘッドとなる。
そして、前記圧電体層は、ジルコン酸カルシウムをさらに含むことが好ましい。これによれば、耐久性に優れると共に、誘電率が高く且つ温度安定性に優れた圧電素子を有する液体噴射ヘッドとなる。
また、前記ジルコン酸カルシウムは、前記ナトリウム、カリウム、リチウム、ニオブ及びタンタルを含有するペロブスカイト型酸化物に対して1mol%以上4mol%以下含まれることが好ましい。これによれば、より耐久性に優れ、誘電率が高く且つ温度安定性に優れた圧電素子を有する液体噴射ヘッドとなる。
本発明の他の態様は、上記態様の液体噴射ヘッドを備えたことを特徴とする液体噴射装置にある。かかる態様では、耐久性に優れ、且つ、環境への負荷が小さい液体噴射装置となる。また、耐水性にも優れた圧電素子を有する液体噴射装置となる。
また、本発明の圧電素子は、圧電体層および前記圧電体層に電圧を印加する電極を有し、前記圧電体層は、ナトリウム、カリウム、リチウム、ニオブ及びタンタルを含有するペロブスカイト型酸化物及びマンガン酸ビスマスを含む固溶体からなることを特徴とする。これによれば、耐久性に優れ、且つ、環境への負荷が小さい圧電素子となる。また、耐水性にも優れた圧電素子となる。
そして、上記圧電素子において、前記圧電体層は、ジルコン酸カルシウムをさらに含有することが好ましい。これによれば、耐久性に優れると共に、誘電率が高く且つ温度安定性に優れた圧電素子となる。
実施形態1に係る記録ヘッドの分解斜視図である。 実施形態1に係る記録ヘッドの断面図である。 実施形態1に係る圧電材料の製造方法例を示すフローチャートである。 試料3及び試料7のX線回折パターンを示す図である。 試料15のd33の温度変化を示す図である。 試料3のSEM観察写真である。 試料7のSEM観察写真である。 試料15のSEM観察写真である。 他の実施形態に係る液体噴射装置の斜視図である。
(実施形態1)
図1は、本発明の実施形態1に係る液体噴射ヘッドの一例であるインクジェット式記録ヘッドの概略構成を示す分解斜視図であり、図2は、インクジェット式記録ヘッドの断面図である。
図示するように、インクジェット式記録ヘッド10は、アクチュエーターユニット20と、アクチュエーターユニット20が固定される1つの流路ユニット30と、アクチュエーターユニット20に接続される配線基板50とで構成されている。
アクチュエーターユニット20は、圧電素子40を具備するアクチュエーター装置であり、圧力発生室21が形成された流路形成基板22と、流路形成基板22の一方面側に設けられた振動板23と、流路形成基板22の他方面側に設けられた圧力発生室底板24とを有する。
流路形成基板22は、例えば、150μm程度の厚みを有するアルミナ(Al23)や、ジルコニア(ZrO2)などのセラミックス板からなり、本実施形態では、複数の圧力発生室21がその幅方向に沿って並設された列が2列形成されている。そして、この流路形成基板22の一方面に、例えば、厚さ10μmのジルコニアの薄板からなる振動板23が固定され、圧力発生室21の一方面はこの振動板23により封止されている。
圧力発生室底板24は、流路形成基板22の他方面側に固定されて圧力発生室21の他方面を封止すると共に、圧力発生室21の長手方向一方の端部近傍に設けられて圧力発生室21と後述するリザーバーとを連通する供給連通孔25と、圧力発生室21の長手方向他方の端部近傍に設けられて後述するノズル開口34に連通するノズル連通孔26とを有する。
そして、圧電素子40は、振動板23上の各圧力発生室21に対向する領域のそれぞれに設けられ、例えば、本実施形態では、圧力発生室21の列が2列設けられているため、圧電素子40の列も2列設けられている。
ここで、各圧電素子40は、振動板23上に設けられた第1電極(電極層)43と、各圧力発生室21毎に独立して設けられた圧電体層(圧電セラミックス層)44と、各圧電体層44上に設けられた第2電極(電極層)45とで構成されている。なお、本実施形態においては、圧電体層44は、一般的に膜厚が厚い(例えば10〜1000μm)圧電材料であり、例えば、金属酸化物や金属炭酸塩の粉末を物理的に混合・粉砕・成形を行った後に焼成する等の固相法等で作製するいわゆるバルクの圧電体層44である。また、第1電極43は、並設された圧電体層44に亘って設けられて各圧電素子40の共通電極となっており、振動板の一部として機能する。勿論、第1電極43を各圧電体層44毎に設けるようにしてもよい。
なお、アクチュエーターユニット20の各層である流路形成基板22、振動板23及び圧力発生室底板24は、粘土状のセラミックス材料、いわゆるグリーンシートを所定の厚さに成形して、例えば、圧力発生室21等を穿設後、積層して焼成することにより接着剤を必要とすることなく一体化される。そして、その後、振動板23上に圧電素子40が形成される。
そして、本実施形態においては、第1電極43上に形成される圧電体層44は、本発明においては、ナトリウム(Na)、カリウム(K)、リチウム(Li)、ニオブ(Nb)及びタンタル(Ta)を含有するペロブスカイト型酸化物とマンガン酸ビスマス(例えばBiMnO)とを含む固溶体からなる圧電材料を用いている。なお、ペロブスカイト型酸化物とは、ペロブスカイト構造を有する化合物である。このペロブスカイト構造、すなわち、ABO型構造のAサイトは、酸素が12配位しており、また、Bサイトは酸素が6配位して8面体(オクタヘドロン)を作っているものである。そして、AサイトにNa、K、Liや必要に応じて含有させるCaが、BサイトにNb、Taや必要に応じて含有させるZrが位置している。そして、圧電体層44を構成する圧電材料は、マンガン酸ビスマスを含有しているが、このマンガン酸ビスマスは、上記ペロブスカイト型酸化物のAサイトにBiが位置しBサイトにMnが位置することにより、AサイトがNa、K、Li、Biや必要に応じて含有させるCaで、BサイトがNb、Ta、Mnや必要に応じて含有させるZrであるペロブスカイト型酸化物となっていてもよい。
このように、Na、K、Li、Nb及びTaを含有するペロブスカイト型酸化物とマンガン酸ビスマスとを含む固溶体からなる圧電材料を圧電体層44とすることにより、後述する実施例に示すように、tanδが小さく(例えば、tanδが2.0%以下。)耐久性に優れた圧電体層44を有する圧電素子40となる。また、耐水性にも優れる。さらに、鉛やアンチモンの含有量を低くしたり実質的に含有しないようにできるため、環境への悪影響を低減することができる。
そして、圧電体層44は、さらに、ジルコン酸カルシウム(例えばCaZrO)を含むことが好ましい。さらにジルコン酸カルシウムを含むことにより、誘電率が高くなり、また、温度安定性に優れる。
なお、Na、K、Li、Nb及びTaを含むペロブスカイト型酸化物の各元素のモル比は特に限定されないが、例えば、Na、K、Liの総モル量に対して、Kが42モル%以上48モル%以下で、Naが47.5モル%以上52モル%以下とし、また、Nb、Taの総モル量に対してNbが80モル%以上85モル%以下とすればよい。
また、Na、K、Li、Nb及びTaを含むペロブスカイト型酸化物、マンガン酸ビスマス、必要に応じて含有させるジルコン酸カルシウムの割合も特に限定されず、Na、K、Li、Nb及びTaを含むペロブスカイト型酸化物に対して、マンガン酸ビスマスやジルコン酸カルシウムは微量添加でよい。例えば、Na、K、Li、Nb及びTaを含むペロブスカイト型酸化物に対して、マンガン酸ビスマスは0.25mol%以上1mol%以下とすればよい。また、Na、K、Li、Nb及びTaを含むペロブスカイト型酸化物に対して、ジルコン酸カルシウムは1mol%以上4mol%以下とすればよい。このような組成比の圧電材料は、例えば、下記式(1)で表される。勿論、CaZrOを含有しない場合は、下記式(1)において、nは零である。
(Kx,Nay,Li1-x-y)(Nbz,Ta1-z)O3-m[BiMnO3]-n[CaZrO3] (1)
(0.420≦x≦0.480、0.475≦y≦0.520、0.80≦z≦0.85、0.0025≦m≦0.01、0.01≦n≦0.04)
ここで、このような圧電素子40の製造方法は特に限定されず、例えば、ナトリウム、カリウム、リチウム、ニオブ及びタンタルの金属酸化物又は金属炭酸塩の粉末を混合して仮焼成することによりナトリウム、カリウム、リチウム、ニオブ及びタンタルを含有する複合酸化物を形成する工程と、ナトリウム、カリウム、リチウム、ニオブ及びタンタルを含有する複合酸化物にマンガン及びビスマスを含有する金属酸化物又は金属炭酸塩を添加して混合した後焼結する工程により、製造することができる。製造方法の一例について、図3を参照して説明する。図3は、圧電素子の製造方法を示すフローチャートである。
図3に示すように、まず、圧電体層44を得るための主成分の出発原料として、例えば、NaCO、KCO、LiCO、Nb、Taの粉末を用意し、これらの粉末を乾燥させた状態で所定比率となるように秤量した後、例えば、純水、エタノール等を添加してボールミルで混合・粉砕して原料混合物とする。さらに、この原料混合物を乾燥させた後、700〜1000℃で合成(仮焼成)することで、K、Na、Li、Nb及びTaを含有する複合酸化物の粉末が形成される。
次に、この粉末にBi粉末、MnO粉末、必要に応じてCaZrO粉末を添加してボールミルなどで混合し、混合物を乾燥させた後、その中に所定量のバインダを添加して造粒し、金型プレス等によって所定圧力(例えば1000〜2000kg/cm)で成形する。そして成形したものを600〜700℃程度の温度で脱脂し、1000〜1250℃程度の温度で焼結することで、上記式(1)で表されるいわゆるバルクの圧電材料が形成される。
その後、この圧電材料を研磨し、その両面にそれぞれ第1電極43及び第2電極45を形成し、さらにポーリングや各種測定を行うことで、上述の圧電素子40が形成される。形成された圧電素子40を流路形成基板22に搭載して、本実施形態のインクジェット式記録ヘッドとする。つまり、このような方法で圧電素子40を形成することで、上述したように環境に優しく且つ耐久性に優れたインクジェット式記録ヘッドを実現することができる。
特に、本実施形態では、NaCO、KCO、LiCO、Nb、Taの粉末から形成した粉末に、Bi、MnOやCaZrOの粉末を添加している。すなわち、圧電材料の製造途中に、Bi、MnOやCaZrOの粉末を添加している。これにより、より緻密で圧電特性に優れた圧電体層44とすることができる。ここで、(K,Na,Li1−x−y)(Nb,Ta1−z)O等のKNN系材料は結晶粒の成長速度が速いため製造される圧電材料は粒界上にある気孔が結晶粒中に入ることで比較的密度が低くなる。本実施形態においては、製造途中、すなわち、(K,Na,Li1−x−y)(Nb,Ta1−z)O等のKNN系材料を仮焼成した後に、BiとMnO等を同時添加することにより、緻密で圧電特性に優れた圧電体層44を製造することができる。
一方、流路ユニット30は、アクチュエーターユニット20の圧力発生室底板24に接合されるインク供給口形成基板31と、複数の圧力発生室21の共通インク室となるリザーバー32が形成されるリザーバー形成基板33と、ノズル開口34が形成されたノズルプレート35とからなる。
インク供給口形成基板31は、厚さ150μmのジルコニアの薄板からなり、ノズル開口34と圧力発生室21とを接続するノズル連通孔36と、前述の供給連通孔25と共にリザーバー32と圧力発生室21とを接続するインク供給口37を穿設して構成され、また、各リザーバー32と連通し、外部のインクタンクからのインクを供給するインク導入口38が設けられている。
リザーバー形成基板33は、インク流路を構成するに適した、例えば、150μmのステンレス鋼などの耐食性を備えた板材に、外部のインクタンク(図示なし)からインクの供給を受けて圧力発生室21にインクを供給するリザーバー32と、圧力発生室21とノズル開口34とを連通するノズル連通孔39とを有する。
ノズルプレート35は、例えば、ステンレス鋼からなる薄板に、圧力発生室21と同一の配列ピッチでノズル開口34が穿設されて形成されている。例えば、本実施形態では、流路ユニット30には、圧力発生室21の列が2列設けられているため、ノズルプレート35にも、ノズル開口34の列が2列形成されている。また、このノズルプレート35は、リザーバー形成基板33の流路形成基板22の反対面に接合されてリザーバー32の一方面を封止している。
このような流路ユニット30は、これらインク供給口形成基板31、リザーバー形成基板33及びノズルプレート35を、接着剤や熱溶着フィルム等によって固定することで形成される。なお、本実施形態では、リザーバー形成基板33及びノズルプレート35をステンレス鋼によって形成しているが、例えば、セラミックスを用いて形成し、アクチュエーターユニット20と同様に流路ユニット30を一体的に形成することもできる。
そして、このような流路ユニット30とアクチュエーターユニット20とは、接着剤や熱溶着フィルムを介して接合されて固定されている。
また、図2に示すように、各圧電素子40の長手方向一端部の圧力発生室21の周壁に相対向する領域には、圧電素子40に導通する端子部46が設けられている。端子部46は、圧電素子40毎に設けられて圧電素子40の第2電極45に導通する端子部46と、圧電素子の並設方向両端部側に引き出された第1電極43に導通する端子部(図示なし)とが、圧電素子40の並設方向に並設されている。本実施形態では、並設された圧電素子40の列と列の間に並設された端子部46の列を2列設けるようにした。
このような端子部46は、流路形成基板22(振動板23)からの高さ、すなわち上端面が、圧電素子40の流路形成基板22(振動板23)からの高さよりも高く形成されている。これは、端子部46と配線基板50の配線層51とを接続した際に、配線基板50が圧電素子40に当接して、圧電素子40の変位が低下するのを防止するためである。本実施形態では、端子部46の流路形成基板22(振動板23)からの高さを20μmで形成した。
なお、このような端子部46は、例えば、銀(Ag)等の導電性の高い金属材料を用いて、スクリーン印刷によって形成することができる。
そして、圧電素子40の各第2電極45及び第1電極43に導通する端子部には、配線基板50に設けられた配線層51が電気的に接続されており、この配線基板50を介して図示しない駆動回路からの駆動信号が各圧電素子40に供給される。なお、駆動回路は、特に図示していないが、配線基板50上に実装されていても、また、配線基板50以外に実装されていてもよい。
配線基板50は、2列の圧電素子40に亘って1つ設けられた、例えば、フレキシブルプリンティングサーキット(FPC)や、テープキャリアパッケージ(TCP)などからなる。詳しくは、配線基板50は、例えば、ポリイミド等のベースフィルム52の表面に銅薄をベースとして錫メッキ等を施した所定パターンの配線層51を形成し、配線層51の端子部46と接続される端部以外の領域をレジスト等の絶縁材料53で覆ったものである。
また、配線基板50には、並設された圧電素子40の列と列の間に対向する領域に貫通孔54が設けられており、配線層51は、貫通孔54側の端部で端子部46と接続されている。なお、配線基板50の貫通孔54は、貫通孔54が設けられていないベースフィルム52の表面に、一方の列の圧電素子40に接続される配線層51と、他方の列の圧電素子40に接続される配線層51とが連続するように形成後、2列の圧電素子40に接続される導通された配線層51を切断するようにベースフィルム52に設けることで形成される。
そして、配線基板50の配線層51と圧電素子40に導通する端子部とは、異方性導電材からなる接着層55を介して電気的及び機械的に接続されている。
このような構成のインクジェット式記録ヘッド10では、インクカートリッジ(貯留手段)からインク導入口38を介してリザーバー32内にインクを取り込み、リザーバー32からノズル開口34に至るまでの液体流路内をインクで満たした後、図示しない駆動回路からの記録信号を配線基板50を介して圧電素子40に供給することで、各圧力発生室21に対応する各圧電素子40に電圧を印加して圧電素子40と共に振動板23をたわみ変形させることにより、各圧力発生室21内の圧力が高まり各ノズル開口34からインク滴が噴射される。
上述した製造方法により得られた圧電体層44の耐久性等の特性について、以下の実験例でより詳細に説明する。
(試料1)
NaCO、KCO、LiCO、Nbの粉末を120℃で乾燥させた状態で秤量した後、エタノール等を添加してボールミルで混合・粉砕して原料混合物とした。さらに、この原料混合物を乾燥させた後、800℃で仮焼成することで、K、Na、Li及びNbを有する複合酸化物の粉末を形成した。
次いで、この粉末に7重量%のポリビニルアルコール(PVA)水溶液を添加して造粒し、金型プレスによって1500kg/cmで成形した。そして成形したものを、1060℃で2時間焼結し、表1の試料1に示すx、y、z、m及びnの上記式(1)で表される圧電体層を作製した。
このように形成した圧電体層の表面を研磨し、その研磨面に銀ペーストを印刷により塗布して700℃で20分間焼成することで、圧電体層の厚さ方向の両側に一対の電極層(第1電極43及び第2電極45)を形成して圧電素子を形成した。
そして形成した圧電素子を130〜160℃のシリコンオイルに浸漬した状態で、3〜5kV/mmの電界を5〜15分間印加することで、圧電素子の分極処理(ポーリング)を行って、試料1の圧電素子を得た。
(試料2〜3)
NaCO、KCO、LiCO、Nbの粉末にさらにTaの粉末を混合してK、Na、Li、Nb及びTaを有する複合酸化物の粉末を形成したこと、及び、焼結温度を1120℃2時間とした以外は、試料1と同様の操作を行って、表1の試料2及び試料3に示すx、y、z、m及びnの上記式(1)で表される圧電体層を作製し、試料2及び試料3の圧電素子を得た。
(試料4〜10)
NaCO、KCO、LiCO、Nb及びTaの粉末を120℃で乾燥させた状態で秤量した後、エタノール等を添加してボールミルで混合・粉砕して原料混合物とした。さらに、この原料混合物を乾燥させた後、850℃で仮焼成することで、K、Na、Li、Nb及びTaを有する複合酸化物の粉末を形成した。
次いで、この粉末にBi粉末及びMnO粉末を添加してボールミルで混合し、混合物を乾燥させた後、その粉末に、試料1と同様に7重量%のポリビニルアルコール(PVA)水溶液を添加して造粒し、金型プレスによって1500kg/cmで成形した。そして成形したものを、1160℃で2時間焼結し、表1の試料4〜10に示すx、y、z、m及びnの上記式(1)で表される圧電体層を作製した。
このように形成した圧電体層の表面を研磨し、その研磨面に銀ペーストを印刷により塗布して700℃で20分間焼成することで、圧電体層の厚さ方向の両側に一対の電極層(第1電極43及び第2電極45)を形成して圧電素子を形成した。
そして形成した圧電素子を25℃のシリコンオイルに浸漬した状態で、3〜4kV/mmの電界を5〜15分間印加することで、圧電素子の分極処理(ポーリング)を行って、試料4〜10の圧電素子を得た。
(試料11〜16)
Bi粉末及びMnO粉末を添加する際に、さらにCaZrO粉末を添加したこと、及び、焼結温度を試料11及び試料14では1130℃2時間とし、試料12及び試料13では1160℃2時間とし、試料15及び試料16では1150℃2時間とした以外は、試料4〜10と同様の操作を行って、表1の試料11〜16に示すx、y、z、m及びnの上記式(1)で表される圧電体層を作製し、試料11〜16の圧電素子を得た。
(試料17〜18)
NaCO、KCO、LiCO、Nb及びTaの粉末にさらにSbを混合してK、Na、Li、Nb、Ta及びSbを有する複合酸化物の粉末を形成したこと以外は、試料4〜10と同様の操作を行って、表1の試料17及び試料18に示すx、y、z及びmで、w=0.03の下記式(2)で表される圧電体層を作製し、試料17〜18の圧電素子を得た。なお、式(2)において、(K,Na,Li1−x−y)(Nb,SbTa1−z−w)O:BiMnO=1:m(モル比)の割合である。
(Kx,Nay,Li1-x-y)(Nbz,SbwTa1-z-w)O3-m[BiMnO3] (2)
(試験例1)
このようにして形成された試料1〜18の分極方向の圧電定数d33(変位特性)、誘電損失(tanδ)、密度、誘電率εを測定した。結果を表1に示す。なお、d33はUK PIEZOTEST製ピエゾd33メーターで測定し、tanδはヒューレット・パッカード製HP4294Aで測定し、密度はARCHIMIDES法で25℃で測定した。また、誘電率εはヒューレット・パッカード製HP4294Aで25℃で測定した。また、試料1〜10については、3日間水中に浸漬した後のd33も測定し、浸漬する前のd33に対する浸漬した後のd33の減少率を求めた。結果を表2に示す。
この結果、K、Na、Li、Nb、Taからなるペロブスカイト型酸化物に、マンガン酸ビスマス、さらにジルコン酸カルシウムを添加し、本発明の範囲内である試料4〜16では、tanδが小さく耐久性に優れることが確認された。そして、絶縁性が高く、容易にポーリング処理をすることができた。一方、マンガン酸ビスマスを含有しない試料2〜3や、K、Na、Li、Nbからなるペロブスカイト型酸化物である試料1は、試料4〜16と比較して、tanδが大きく、耐久性が悪かった。なお、各試料について、複数回同一の操作を行って、それぞれtanδを測定したところ、試料4〜16では、試料1〜3と比較して、値にばらつきが無く、再現性が良好だった。
また、K、Na、Li、Nb、Taからなるペロブスカイト型酸化物に、マンガン酸ビスマス、さらにジルコン酸カルシウムを添加し、本発明の範囲内である試料4〜7及び9〜16では、マンガン酸ビスマスやジルコン酸カルシウムを添加していない試料1〜3と比べて、圧電定数d33が高く、180以上であった。なお、m=0.01の試料8は、マンガン酸ビスマスの含有量が多めなためか圧電定数d33は試料1〜3と同程度であった。
K、Na、Li.Nb、Taからなるペロブスカイト型酸化物に、マンガン酸ビスマス、さらにジルコン酸カルシウムを添加し、本発明の範囲内である試料4〜16では、tanδが小さく耐久性に優れることが確認された。
そして、K、Na、Li、Nb、Taからなるペロブスカイト型酸化物にマンガン酸ビスマスを添加した試料4〜10は、誘電率が高かった。そして、さらにジルコン酸カルシウムを添加した試料11〜16では、試料4〜10と比較しても顕著に誘電率が高かった。
また、試料17及び試料18の結果から、本発明のNa、K、Li、Nb、Taを含むペロブスカイト型酸化物及びマンガン酸ビスマスを添加した系においては、アンチモンを添加させるとd33が大幅に減少してしまうことも分かった。
なお、Bruker AXS社製の「D8 Discover」を用い、X線源にCuKα線を使用し、室温で、試料1〜18の粉末X線回折パターンも求めた。結果の一例として、回折強度−回折角2θの相関関係を示す図であるX線回折パターンを、図4(試料3及び試料7)に示す。この結果、全ての試料1〜18において、ABO型構造を形成しており、その他の異相に起因するピークは観測されなかった。
(試験例2)
試料11〜16について、25℃、50℃、100℃、150℃、200℃、250℃、300℃、350℃、400℃、450℃の各温度で、5分間加熱した後のd33も測定し、d33の温度変化を調べた。結果の一例を、図5(試料15)に示す。この結果、試料11〜16のd33は、200℃に加熱しても、加熱前とほとんど変わらず、試料11〜16は温度安定性が優れていることが確認された。
(試験例3)
試料1〜18の表面等を5000倍の走査電子顕微鏡(SEM)により観察した。結果の一例を、図6(a)(試料3の表面)、図6(b)(試料3の断面)、図7(a)(試料7の表面)、図7(b)(試料7の断面)、図8(試料15)に示す。図6〜8に示すように、BiMnOを添加した試料7は、BiMnOを添加しない試料3よりも、粒径が小さく、気孔が減少しており、緻密であった。
(他の実施形態)
以上、本発明の実施形態例を説明したが、本発明の基本的構成は上述したものに限定されるものではない。例えば、実施形態1では、圧電体層44として、固相法等で作製するいわゆるバルクの圧電体層を例示したが、ゾル−ゲル法やMOD法等の圧電体前駆体溶液を塗布等して形成した圧電体前駆体膜を加熱して結晶化する化学溶液法や、スパッタリング法等の気相法で作製される、例えば厚さが0.3〜1.5μm程度の薄膜の圧電体層としてもよい。
また、上述した実施形態では、流路形成基板22として、セラミックス板を例示したが、特にこれに限定されず、例えば、シリコン単結晶基板、SOI基板、ガラス等の材料を用いるようにしてもよい。
さらに、上述した実施形態では、基板上に第1電極、圧電体層及び第2電極を順次積層した圧電素子を例示したが、特にこれに限定されず、例えば、圧電材料と電極形成材料とを交互に積層させて軸方向に伸縮させる縦振動型の圧電素子にも本発明を適用することができる。
また、これら実施形態のインクジェット式記録ヘッドは、インクカートリッジ等と連通するインク流路を具備する記録ヘッドユニットの一部を構成して、インクジェット式記録装置に搭載される。図9は、そのインクジェット式記録装置の一例を示す概略図である。
図9に示すインクジェット式記録装置IIにおいて、インクジェット式記録ヘッド10を有する記録ヘッドユニット1A及び1Bは、インク供給手段を構成するカートリッジ2A及び2Bが着脱可能に設けられ、この記録ヘッドユニット1A及び1Bを搭載したキャリッジ3は、装置本体4に取り付けられたキャリッジ軸5に軸方向移動自在に設けられている。この記録ヘッドユニット1A及び1Bは、例えば、それぞれブラックインク組成物及びカラーインク組成物を吐出するものとしている。
そして、駆動モーター6の駆動力が図示しない複数の歯車およびタイミングベルト7を介してキャリッジ3に伝達されることで、記録ヘッドユニット1A及び1Bを搭載したキャリッジ3はキャリッジ軸5に沿って移動される。一方、装置本体4にはキャリッジ軸5に沿ってプラテン8が設けられており、図示しない給紙ローラーなどにより給紙された紙等の記録媒体である記録シートSがプラテン8に巻き掛けられて搬送されるようになっている。
なお、上述した各実施形態では、液体噴射ヘッドの一例としてインクジェット式記録ヘッドを挙げて説明したが、本発明は広く液体噴射ヘッド全般を対象としたものであり、インク以外の液体を噴射する液体噴射ヘッドにも勿論適用することができる。その他の液体噴射ヘッドとしては、例えば、プリンター等の画像記録装置に用いられる各種の記録ヘッド、液晶ディスプレイ等のカラーフィルターの製造に用いられる色材噴射ヘッド、有機ELディスプレイ、FED(電界放出ディスプレイ)等の電極形成に用いられる電極材料噴射ヘッド、バイオchip製造に用いられる生体有機物噴射ヘッド等が挙げられる。
また、本発明は、インクジェット式記録ヘッドに代表される液体噴射ヘッドに限られず、超音波発信機等の超音波デバイス、圧力センサー、超音波モーター等他の装置に搭載される圧電素子にも適用することができる。
10 インクジェット式記録ヘッド(液体噴射ヘッド)、 21 圧力発生室、 22 流路形成基板、 23 振動板、 24 圧力発生室底板、 30 流路ユニット、 31 インク供給口形成基板、 32 リザーバー、 33 リザーバー形成基板、 34 ノズル開口、 35 ノズルプレート、 36 ノズル連通孔、 40 圧電素子、 43 第1電極(電極層)、 44 圧電体層、 45 第2電極(電極層)、 50 配線基板、 51 配線層、 52 ベースフィルム、 53 絶縁材料

Claims (7)

  1. 液滴を噴射するノズル開口に連通した圧力発生室と、
    圧電体層および前記圧電体層に電圧を印加する電極を有する圧電素子と、を具備し、
    前記圧電体層は、ナトリウム、カリウム、リチウム、ニオブ及びタンタルを含有するペロブスカイト型酸化物及びマンガン酸ビスマスを含む固溶体からなることを特徴とする液体噴射ヘッド。
  2. 前記マンガン酸ビスマスは、前記ナトリウム、カリウム、リチウム、ニオブ及びタンタルを含有するペロブスカイト型酸化物に対して0.25mol%以上1mol%以下含まれることを特徴とする請求項1に記載の液体噴射ヘッド。
  3. 前記圧電体層は、ジルコン酸カルシウムをさらに含むことを特徴とする請求項1または2に記載の液体噴射ヘッド。
  4. 前記ジルコン酸カルシウムは、前記ナトリウム、カリウム、リチウム、ニオブ及びタンタルを含有するペロブスカイト型酸化物に対して1mol%以上4mol%以下含まれることを特徴とする請求項3に記載の液体噴射ヘッド。
  5. 請求項1〜4のいずれか一項に記載の液体噴射ヘッドを備えたことを特徴とする液体噴射装置。
  6. 圧電体層および前記圧電体層に電圧を印加する電極を有し、前記圧電体層は、ナトリウム、カリウム、リチウム、ニオブ及びタンタルを含有するペロブスカイト型酸化物及びマンガン酸ビスマスを含む固溶体からなることを特徴とする圧電素子。
  7. 前記圧電体層は、ジルコン酸カルシウムをさらに含むことを特徴とする請求項6に記載の圧電素子。
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