JP2011202217A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011202217A5 JP2011202217A5 JP2010069394A JP2010069394A JP2011202217A5 JP 2011202217 A5 JP2011202217 A5 JP 2011202217A5 JP 2010069394 A JP2010069394 A JP 2010069394A JP 2010069394 A JP2010069394 A JP 2010069394A JP 2011202217 A5 JP2011202217 A5 JP 2011202217A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnet
- magnetron sputtering
- yoke
- inner magnet
- sputtering apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Description
本願発明は、ターゲットが取り付けられるカソードの裏面側に沿うように往復移動可能な磁石ユニットを配置したマグネトロンスパッタリング装置であって、前記磁石ユニットは、一つの極性の磁極面を前記カソード側に向けた永久磁石からなる内側磁石と、前記内側磁石を取り囲むように配列され、前記内側磁石と反対の極性の磁極面を前記カソード側に向けた外側磁石と、強磁性体材料からなり前記内側磁石および前記外側磁石の前記カソードに対して反対側に位置し、前記内側磁石と前記外側磁石の磁極を接続する板状のヨークと、を有しており、前記ヨークは、前記磁石ユニットの移動方向に沿って長手方向が配置された前記外側磁石と前記内側磁石の間の部分の厚さがその他の部分に比べて薄く形成されている部分を有することを特徴とする。
具体的には、上述のマグネトロンスパッタリング装置は、前記内側磁石と前記外側磁石とを固定する非磁性体を更に有することを特徴とする。或いは、上述のマグネトロンスパッタリング装置は、前記ヨークは、前記薄く形成されている部分が分離可能に構成されていることを特徴とする。
Claims (4)
- ターゲットが取り付けられるカソードの裏面側に沿うように往復移動可能な磁石ユニットを配置したマグネトロンスパッタリング装置であって、
前記磁石ユニットは、
一つの極性の磁極面を前記カソード側に向けた永久磁石からなる内側磁石と、
前記内側磁石を取り囲むように配列され、前記内側磁石と反対の極性の磁極面を前記カソード側に向けた外側磁石と、
強磁性体材料からなり前記内側磁石および前記外側磁石の前記カソードに対して反対側に位置し、前記内側磁石と前記外側磁石の磁極を接続する板状のヨークと、を有しており、
前記ヨークは、前記磁石ユニットの移動方向に沿って長手方向が配置された前記外側磁石と前記内側磁石の間の部分の厚さがその他の部分に比べて薄く形成されている部分を有することを特徴とするマグネトロンスパッタリング装置。 - 前記内側磁石と前記外側磁石とを固定する非磁性体を更に有することを特徴とする請求項1に記載のマグネトロンスパッタリング装置。
- 前記ヨークは、前記薄く形成されている部分が分離可能に構成されていることを特徴とする請求項1または2に記載のマグネトロンスパッタリング装置。
- 前記ヨークは、前記その他の部分が、前記移動方向に対して交差する方向に複数個に分割されていることを特徴とする請求項1または2に記載のマグネトロンスパッタリング装置。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010069394A JP5461264B2 (ja) | 2010-03-25 | 2010-03-25 | マグネトロンスパッタリング装置、及び、スパッタリング方法 |
TW100108997A TWI425108B (zh) | 2010-03-25 | 2011-03-16 | Magnetron sputtering device and sputtering method |
KR1020110026222A KR101264991B1 (ko) | 2010-03-25 | 2011-03-24 | 마그네트론 스퍼터링 장치 및 스퍼터링 방법 |
CN201310024399.2A CN103103489B (zh) | 2010-03-25 | 2011-03-25 | 磁控溅射装置 |
CN2011100727525A CN102199754A (zh) | 2010-03-25 | 2011-03-25 | 磁控溅射装置以及溅射方法 |
KR1020130000245A KR101290915B1 (ko) | 2010-03-25 | 2013-01-02 | 마그네트론 스퍼터링 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010069394A JP5461264B2 (ja) | 2010-03-25 | 2010-03-25 | マグネトロンスパッタリング装置、及び、スパッタリング方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011202217A JP2011202217A (ja) | 2011-10-13 |
JP2011202217A5 true JP2011202217A5 (ja) | 2013-05-02 |
JP5461264B2 JP5461264B2 (ja) | 2014-04-02 |
Family
ID=44660733
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010069394A Active JP5461264B2 (ja) | 2010-03-25 | 2010-03-25 | マグネトロンスパッタリング装置、及び、スパッタリング方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5461264B2 (ja) |
KR (2) | KR101264991B1 (ja) |
CN (2) | CN103103489B (ja) |
TW (1) | TWI425108B (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104487607B (zh) * | 2012-07-11 | 2017-02-22 | 佳能安内华股份有限公司 | 溅射设备和磁体单元 |
CN109881166B (zh) * | 2016-03-30 | 2021-04-20 | 京浜乐梦金属科技株式会社 | 溅射阴极、溅射装置和成膜体的制造方法 |
CN108172396B (zh) * | 2016-12-07 | 2021-11-16 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 磁性薄膜沉积腔室及薄膜沉积设备 |
JP6580113B2 (ja) * | 2017-12-05 | 2019-09-25 | キヤノントッキ株式会社 | スパッタ装置及びその制御方法 |
KR102420329B1 (ko) * | 2018-02-13 | 2022-07-14 | 한국알박(주) | 마그네트론 스퍼터링 장치의 자석 집합체 |
CN108559964A (zh) * | 2018-07-25 | 2018-09-21 | 衡阳舜达精工科技有限公司 | 一种磁控溅射阴极磁场布置结构及用于制备纳米碳薄膜的方法 |
KR102672094B1 (ko) * | 2018-09-27 | 2024-06-05 | 가부시키가이샤 알박 | 마그네트론 스퍼터링 장치용 자석 유닛 |
KR20220108049A (ko) * | 2019-12-03 | 2022-08-02 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 마그네트론 스퍼터링 성막 장치 |
CN113667951B (zh) * | 2021-08-23 | 2023-03-21 | 杭州朗为科技有限公司 | 一种端头绝缘磁场可调的旋转阴极 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0462909A (ja) * | 1990-06-30 | 1992-02-27 | Mitsubishi Kasei Corp | 磁場発生用構造体における磁石の固定方法 |
JPH0525625A (ja) * | 1991-02-17 | 1993-02-02 | Ulvac Japan Ltd | マグネトロンスパツタカソード |
JPH06136528A (ja) * | 1992-10-23 | 1994-05-17 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | マグネトロンスパッタ装置 |
DE19836125C2 (de) * | 1998-08-10 | 2001-12-06 | Leybold Systems Gmbh | Zerstäubungsvorrichtung mit einer Kathode mit Permanentmagnetanordnung |
JP3649933B2 (ja) * | 1999-03-01 | 2005-05-18 | シャープ株式会社 | マグネトロンスパッタ装置 |
JP4592852B2 (ja) | 1999-11-12 | 2010-12-08 | キヤノンアネルバ株式会社 | スパッタリング装置のマグネトロンカソード |
KR100345924B1 (ko) * | 2000-01-24 | 2002-07-27 | 한전건 | 평판 마그네트론 스퍼터링 장치 |
JP2004124171A (ja) | 2002-10-02 | 2004-04-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマ処理装置及び方法 |
KR100585578B1 (ko) | 2003-09-30 | 2006-06-07 | 닛뽕빅터 가부시키가이샤 | 마그네트론 스퍼터링 장치 |
CN101107381A (zh) * | 2005-02-02 | 2008-01-16 | 日立金属株式会社 | 磁控管溅射用磁电路装置及其制造方法 |
CN101126152B (zh) * | 2006-08-18 | 2010-04-21 | 深圳豪威真空光电子股份有限公司 | 柱状磁控溅射器 |
JP2008121077A (ja) * | 2006-11-14 | 2008-05-29 | Hitachi Metals Ltd | マグネトロンスパッタリング用磁気回路 |
CN101280420B (zh) * | 2008-05-28 | 2010-09-29 | 东北大学 | 一种具有磁场增强和调节功能的磁控溅射靶 |
-
2010
- 2010-03-25 JP JP2010069394A patent/JP5461264B2/ja active Active
-
2011
- 2011-03-16 TW TW100108997A patent/TWI425108B/zh active
- 2011-03-24 KR KR1020110026222A patent/KR101264991B1/ko active IP Right Grant
- 2011-03-25 CN CN201310024399.2A patent/CN103103489B/zh active Active
- 2011-03-25 CN CN2011100727525A patent/CN102199754A/zh active Pending
-
2013
- 2013-01-02 KR KR1020130000245A patent/KR101290915B1/ko active IP Right Grant
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2011202217A5 (ja) | ||
JP2013530672A5 (ja) | ||
WO2014172401A3 (en) | Permanent magnet linear motors | |
JP2014523323A5 (ja) | ||
EP2566021A3 (en) | Electric machine with linear mover | |
JP2011513979A5 (ja) | ||
JP2015072465A5 (ja) | ||
JP2013525713A5 (ja) | ||
JP2014527685A5 (ja) | 磁気的閉じ込め及びファラデーシールド付き誘導結合型プラズマシステム並びに磁気的閉じ込め及びファラデーシールドを提供する方法 | |
JP2013510450A5 (ja) | ||
WO2008050045A3 (fr) | Dispositif magnetique a aimantation perpendiculaire et a couche intercalaire compensatrice d'interactions | |
BR112012028103A2 (pt) | dispositivo de comutação eletromagneticamente operados e métodos de atuação dos mesmos. | |
JP2017509403A5 (ja) | ||
ATE525782T1 (de) | Lineare antriebseinrichtung mit einem einen magnetträger aufweisenden ankerkörper | |
EP2712172A3 (en) | Imaging apparatus and interchangeable lens | |
JP2008156735A5 (ja) | ||
JP2011530431A5 (ja) | ||
EP2587646A3 (en) | Electric machine with linear mover | |
JP2010152182A5 (ja) | ||
WO2015135814A3 (de) | Bistabiler elektromagnetischer aktuator und chirurgisches instrument | |
JP2016509829A5 (ja) | ||
JP2013541282A5 (ja) | ||
JP2014528228A5 (ja) | ||
EP2450937A3 (en) | Magnetic circuit for sputtering apparatus | |
JP2012149338A5 (ja) |