CN101107381A - 磁控管溅射用磁电路装置及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
一种磁控管溅射用磁回路装置,具备:内侧永久磁铁列(3),其由以上表面具有规定极性的磁极的方式连设的多个永久磁铁(30)构成;外侧永久磁铁列(4),其包围内侧永久磁铁列(3),并由以上表面具有与内侧永久磁铁列(3)的磁极反极性的磁极的方式连设的多个永久磁铁(40)构成;磁轭板(2),其装拆自如地保持内侧永久磁铁列(3)及外侧永久磁铁列(4)的永久磁铁(30、40);和至少逐个覆盖永久磁铁(30、40)的大致截面コ字状的非磁性保护罩构件(31、41),各保护罩构件(31、41)由覆盖永久磁铁(30、40)的一侧面并且机械固定在磁轭板(2)上的第一侧板部(31a、41a)、覆盖永久磁铁(30、40)的另一侧面的第二侧板部(31b、41b)、一体地连结两侧板部(31a)及(31b)、(41a)及(41b)的上板部(31c、41c)构成,由各保护罩构件(31、41)的两侧板部(31a)及(31b)、(41a)及(41b)牢固地把持永久磁铁(30、40)。
Description
技术领域
本发明涉及在基板表面形成薄膜的磁控管溅射装置所搭载的磁电路装置及其制造方法。
背景技术
磁控管溅射装置具有:在真空腔室内与阳极侧的基板对置地配置的靶;在靶的背后配置的磁电路装置;为使靶成为阴极而与靶连接的高频电源。在真空腔室内,例如导入10-1~10-3Torr(13.33~0.13Pa)的惰性气体之后,在基板(阳极)和靶(阴极)之间施加电压,由此引起辉光放电而将惰性气体离子化,并且对从靶释放的二次电子以直角作用磁场,使其在靶表面进行摆线运动,通过与气体分子发生碰撞而促进离子化,使得靶材作为中性原子堆积(薄膜化)在基板上。磁控管溅射装置由于成膜速度快,不会引起电子向基板的碰撞,所以具有能够实现低温成膜,还能够再现性良好地形成各种合金薄膜的优点,所以被广泛使用在半导体IC的制造工艺等用途中。
在磁控管溅射装置中,由于在电场和磁场正交的靶中央部集中放电,该部分被显著溅射,所以在长期溅射后,靶表面不均匀化。因此,通常使靶背面配置的磁电路装置整体往复移动。
例如,特开平10-46334号公报公开了一种溅射成膜装置,其包括:安装有在基板被搬送到内部的真空容器的壁部配置的靶的磁控管阴极;为了在靶的表面形成闭环状的磁场而位于磁控管阴极的背面侧的磁控管磁电路装置;使磁电路装置与靶平行且沿基板搬送方向摆动的第一机构;使磁电路装置与靶平行且沿与基板搬送方向垂直的方向摆动的第二机构。特开平10-46334号所记载的磁控管磁电路装置具有:条状的中央磁铁;靶侧表面以与中央磁铁呈反极性的方式被磁化的长方形状的外周磁铁;支承这些磁铁的平坦的磁轭板。
特开2000-248360号公报公开了一种磁控管溅射装置,其包括:配置有基板和与其对置的靶的成膜室(第一真空室);配置有在靶的表面产生隧道状极向磁场的磁场产生机构的磁体室(第二真空室);使磁场产生机构与靶平行地往复移动的驱动装置。在磁场产生机构的附近,顺次配置有垫板及靶,垫板与用于施加负电位的电源连接。通过磁场产生机构、垫板及电源,在靶的表面生成高密度的等离子体。
为了提高朝向基板的成膜速度,需要缩短从磁电路装置的表面(永久磁铁的表面)到靶表面的距离,来提高靶表面产生的磁场强度。但是,若减小磁电路装置和靶的间隔,则有可能产生永久磁铁与位于靶背面的垫板(或阴极)干涉、接触等情况,造成永久磁铁脱落、或其边缘部破损。此外,还存在如下问题:在磁电路装置的组装作业中,在磁电路装置向磁控管溅射装置的搬送中或安装中,由于包装状况或搬运上的失误等,造成永久磁铁与其他构件碰撞,永久磁铁脱落,或一部分破损。
通常,如特开2000-248360号所记载,磁场产生机构中的永久磁铁利用粘接剂固定在轭上。但是,由于粘接剂的固化时或固化后产生除气(分子量300左右以下),所以磁电路装置的表面受到污染,成为产生次品的原因。在将脱落或破损的永久磁铁更换为完整的永久磁铁时,需要剥离粘接剂,因此,需要将磁电路装置整体加热到作为粘接剂的主成分的树脂的玻化温度(例如150~200℃)以上的温度。因而,无法仅拆装破损的永久磁铁,而是拆装了所有的永久磁铁。特别是由于大型的溅射装置具备具有多个(例如100个以上)永久磁铁的磁电路装置,所以如果考虑到作业工时,则永久磁铁的更换成本过高。
因此,如特开平10-317137号以及特开平11-36068号所记载,如果用螺栓等机械性机构来固定永久磁铁,则存在无法获得足够的组装精度的问题。
发明内容
本发明的目的在于,提供一种能够精确且装拆自如地搭载永久磁铁,并且使用中没有永久磁铁的脱落或破损的磁控管溅射用磁电路装置及其制造方法。
鉴于上述目的潜心研究的结果,发现:如果将至少一个永久磁铁安装在保护罩构件上,并将它们机械固定在磁控管溅射用磁电路装置中,则能够将永久磁铁精确且装拆自如地固定在磁电路装置中,并且使用中没有永久磁铁的脱落或损伤,另外由于不使用粘接剂,所以也不存在产生除气的可能性,鉴于以上情况,完成了本发明。
因而,本发明的第一磁控管溅射用磁回路装置,其特征在于,具备:内侧永久磁铁列,其由以上表面具有规定极性的磁极的方式连设的多个永久磁铁构成;外侧永久磁铁列,其包围所述内侧永久磁铁列,并由以上表面具有与所述内侧永久磁铁列的磁极反极性的磁极的方式连设的多个永久磁铁构成;磁轭板,其装拆自如地保持所述内侧永久磁铁列及所述外侧永久磁铁列的永久磁铁;和至少逐个覆盖所述永久磁铁的大致截面コ字状的非磁性保护罩构件,各保护罩构件由覆盖所述永久磁铁的一侧面并且机械固定在所述磁轭板上的第一侧板部、覆盖所述永久磁铁的另一侧面的第二侧板部、一体地连结两侧板部的上板部构成,由各保护罩构件的两侧板部牢固地把持所述永久磁铁。
在上述磁回路装置中,优选所述磁轭板在上表面具有承受长方体状的所述永久磁铁的凹部。优选承受构成所述内侧永久磁铁列的所述永久磁铁的凹部是中央槽,承受构成所述外侧永久磁铁列的所述永久磁铁的凹部是外周阶梯部。
在上述磁回路装置中,所述保护罩构件的所述第一侧板部具有至少具备一个开口部的外方凸缘部,在各永久磁铁的下端部配置于所述磁轭板的所述凹部的状态下,利用与所述开口部卡合的螺栓将所述凸缘部固定在所述磁轭板上。
本发明的第二磁控管溅射用磁回路装置,其特征在于,所述磁轭板在上表面具有承受所述内侧永久磁铁列的中央槽、和承受所述外侧永久磁铁列的外周阶梯部,并且在侧面具有水平槽,所述外侧永久磁铁列的各保护罩构件的所述第一侧板部,在与所述磁轭板的上表面相接的位置具有至少具备一个开口部的外方凸缘部,所述第二侧板部具有到达所述水平槽的长度并且在前端具有内方突起部,以此在所述内方突起部与所述水平槽卡合,并且所述永久磁铁配置于所述外周阶梯部的状态下,利用与所述开口部卡合的螺栓将所述第一侧板部的所述外方凸缘部固定在所述磁轭板上。
可以在所述保护罩构件的所述上板部的内表面设置与所述永久磁铁的上表面抵接的突起部。
本发明的第三磁控管溅射用磁回路装置,其特征在于,具备:内侧永久磁铁列,其由以上表面具有规定极性的磁极的方式连设的多个永久磁铁构成;外侧永久磁铁列,其包围所述内侧永久磁铁列,并由以上表面具有与所述内侧永久磁铁列的磁极反极性的磁极的方式连设的多个永久磁铁构成;磁轭板,其装拆自如地保持所述内侧永久磁铁列及所述外侧永久磁铁列的永久磁铁;衬垫,其设置在所述内侧永久磁铁列和所述外侧永久磁铁列之间;和至少逐个覆盖所述永久磁铁的大致截面コ字状的非磁性保护罩构件,所述内侧永久磁铁列的各保护罩构件由覆盖所述永久磁铁的一侧面并且机械固定在所述磁轭板上的第一侧板部、覆盖所述永久磁铁的另一侧面的第二侧板部、一体地连结两侧板部的上板部构成,所述外侧永久磁铁列的各保护罩构件由具有覆盖所述永久磁铁的一侧面及所述磁轭板的侧面的至少一部分的长度并且机械固定在所述磁轭板上的第一侧板部、覆盖所述永久磁铁的另一侧面的第二侧板部、一体地连结两侧板部的上板部构成,由各保护罩构件的两侧板部牢固地把持所述永久磁铁。
在第三磁控管溅射用磁回路装置中,优选所述磁轭板在上表面具有承受所述内侧永久磁铁列的长方体状的所述永久磁铁的中央槽,并且具有承受所述外侧永久磁铁列的长方体状的所述永久磁铁的外周阶梯部,所述内侧永久磁铁列的各保护罩构件的所述第一侧板部具有至少具备一个开口部的外方凸缘部,所述外侧永久磁铁列的各保护罩构件的所述第一侧板部在与所述磁轭板的侧面相接的前端部分至少具有一个开口部,在各永久磁铁的下端部配置于所述磁轭板的所述槽或阶梯部的状态下,利用与所述开口部卡合的螺栓将所述第一侧板部固定在所述磁轭板上。优选所述内侧永久磁铁列的各保护罩构件的所述第一侧板部具有承受所述衬垫的切口。
无论在任一磁控管溅射用磁回路装置中,均优选所述保护罩构件由能够弹性变形的非磁性金属板形成。另外,优选所述永久磁铁的宽度WP、所述保护罩构件的两侧板部的开口端的内壁宽度WO及所述上板部的内壁宽度WD满足WD>WP>WO的关系。
制造本发明的第一磁控管溅射用磁回路装置的方法,是通过将内侧永久磁铁列和外侧永久磁铁列装拆自如地组装到磁轭板上来制造磁控管溅射用磁回路装置的方法,其中,所述内侧永久磁铁列由以上表面具有规定极性的磁极的方式连设的多个永久磁铁构成;所述外侧永久磁铁列包围所述内侧永久磁铁列,并由以上表面具有与所述内侧永久磁铁列的磁极反极性的磁极的方式连设的多个永久磁铁构成,所述磁控管溅射用磁回路装置的制造方法的特征在于,包括:
(a)制作由具有与所述磁轭板卡合的卡合部的第一侧板部、与所述第一侧板部对置的第二侧板部、一体地连结两侧板部的上板部构成的大致截面コ字状的第一及第二非磁性保护罩构件,
(b)将高度方向上被磁化的至少一个永久磁铁以所述上板部侧为同极性的方式插入所述第一保护罩构件中,由此制作第一磁铁组装体,
(c)将高度方向上被磁化的至少一个永久磁铁以所述上板部侧与所述第一磁铁组装体反极性的方式插入所述第二保护罩构件中,由此制作第二磁铁组装体,
(d)将所述第一及所述第二磁铁组装体分别机械固定在所述磁轭板上。
在上述磁回路装置的制造方法中,优选所述磁轭板在上表面具有承受长方体状的所述永久磁铁的凹部。优选承受构成所述内侧永久磁铁列的所述永久磁铁的凹部是中央槽,承受构成所述外侧永久磁铁列的所述永久磁铁的凹部是外周阶梯部。
在上述磁回路装置的制造方法中,优选所述保护罩构件的所述第一侧板部具有至少具备一个开口部的外方凸缘部,在各永久磁铁的下端部配置于所述磁轭板的所述凹部的状态下,利用与所述开口部卡合的螺纹件将所述凸缘部固定在所述磁轭板上。
制造本发明的第二磁控管溅射用磁回路装置的方法,其特征在于,所述磁轭板在上表面具有中央槽及外周阶梯部且在侧面具有水平槽,所述第二非磁性保护罩构件具有大致截面コ字状,且由具有外方凸缘部的第一侧板部、与所述第一侧板部对置的第二侧板部(具有到达所述水平槽的长度并且在前端具有内方突起部)、一体地连结两侧板部的上板部构成,其中,所述外方凸缘部具有与所述磁轭板卡合的卡合部,在使所述第二磁铁组装体的所述第二侧板部的所述内方突起部与所述磁轭板的所述水平槽卡合并且将所述永久磁铁配置于所述外周阶梯部的状态下,将所述第一侧板部的所述外方凸缘部机械固定在所述磁轭板上。
制造本发明的第三磁控管溅射用磁回路装置的方法,其特征在于,是将内侧永久磁铁列和外侧永久磁铁列经由衬垫装拆自如地组装到磁轭板上从而制造磁控管溅射用磁回路装置的方法,其中,所述内侧永久磁铁列由以上表面具有规定极性的磁极的方式连设的多个永久磁铁构成;所述外侧永久磁铁列包围所述内侧永久磁铁列,并由以上表面具有与所述内侧永久磁铁列的磁极反极性的磁极的方式连设的多个永久磁铁构成,所述磁控管溅射用磁回路装置的制造方法的特征在于,包括:
(a)制作由具有与所述磁轭板卡合的卡合部的第一侧板部、与所述第一侧板部对置的第二侧板部、一体地连结两侧板部的上板部构成的大致截面コ字状的第一非磁性保护罩构件,并制作由具有到达所述水平槽的长度并且在前端部至少具有一个与所述磁轭板卡合的卡合部的第一侧板部、与所述第一侧板部对置的第二侧板部、一体地连结两侧板部的上板部构成的大致截面コ字状的第二非磁性保护罩构件,
(b)将高度方向上被磁化的至少一个永久磁铁以所述上板部侧为同极性的方式插入所述第一保护罩构件中,由此制作第一磁铁组装体,
(c)将高度方向上被磁化的至少一个永久磁铁以所述上板部侧与所述第一磁铁组装体反极性的方式插入所述第二保护罩构件中,由此制作第二磁铁组装体,
(d)将衬垫机械固定在所述磁轭板上,
(e)经由所述第一侧板部将所述第一磁铁组装体机械固定在所述磁轭板上,
(f)经由所述第一侧板部将所述第二磁铁组装体机械固定在所述磁轭板上。
制造第三磁控管溅射用磁回路装置的优选方法,其特征在于,是将内侧永久磁铁列和外侧永久磁铁列经由衬垫装拆自如地组装到上表面具有沿规定方向延伸的中央槽及外周阶梯部的磁轭板上从而制造磁控管溅射用磁回路装置的方法,其中,所述内侧永久磁铁列由以上表面具有规定极性的磁极的方式连设的多个永久磁铁构成;所述外侧永久磁铁列包围所述内侧永久磁铁列,并由以上表面具有与所述内侧永久磁铁列的磁极反极性的磁极的方式连设的多个永久磁铁构成,所述磁控管溅射用磁回路装置的制造方法的特征在于,包括:
(a)制作由具有至少具备一个开口部的外方凸缘部的第一侧板部、与所述第一侧板部对置的第二侧板部、一体地连结两侧板部的上板部构成的大致截面コ字状的第一非磁性保护罩构件,并制作由具有到达所述水平槽的长度并且在前端部至少具有一个开口部的第一侧板部、与所述第一侧板部对置的第二侧板部、一体地连结两侧板部的上板部构成的大致截面コ字状的第二非磁性保护罩构件,
(b)将高度方向上被磁化的至少一个永久磁铁以所述上板部侧为同极性的方式插入所述第一保护罩构件中,由此制作第一磁铁组装体,
(c)将高度方向上被磁化的至少一个永久磁铁以所述上板部侧与所述第一磁铁组装体反极性的方式插入所述第二保护罩构件中,由此制作第二磁铁组装体,
(d)将衬垫机械固定在所述磁轭板上,
(e)在将所述第一磁铁组装体的永久磁铁配置于所述中央槽的状态下,利用与所述外方凸缘部的开口部卡合的螺栓将所述第一磁铁组装体固定在所述磁轭板上,
(f)在将所述第二磁铁组装体的永久磁铁配置于所述外周阶梯部的状态下,利用与所述第一侧板部的开口部卡合的螺栓将所述第二磁铁组装体固定在所述磁轭板上。
在第三磁控管溅射用磁回路装置的制造方法中,优选所述第一保护罩构件的至少所述第一侧板部具有承受所述衬垫的切口,以所述衬垫进入所述切口的方式将所述第一磁铁组装体固定在所述磁轭板上。
在本发明的磁控管溅射用磁回路装置中,至少一个永久磁铁由保护罩构件覆盖,且保护罩构件机械固定在磁轭板上,所以不必使用粘接剂,完全不会产生除气。另外,不局限于邻接的同极性的磁极产生的磁性斥力,可容易地将永久磁铁精确固定在磁轭板上。另外,即使为了精确定位而使用夹具,也由于夹具与保护罩构件接触,所以不会给永久磁铁自身带来损伤。除此之外,即使在使用中与其他构件等碰撞,也由于永久磁铁被保护罩构件所保护,所以不会脱落或损伤。
在组装时或操作中因与其他构件碰撞等造成几个永久磁铁脱落或损伤的情况下,只要仅将把持这些永久磁铁的保护罩构件拆装,在把持新的永久磁铁之后,再次安装在磁轭板上即可。由于在这种情况下也不必使用粘接剂,所以不必对磁回路装置整体进行加热,能够迅速进行永久磁铁的拆装。另外,在无保护罩构件而将永久磁铁固定在磁轭板上的情况下,若拆装几个永久磁铁,则在磁性斥力作用下有可能磁轭板上的永久磁铁的位置偏离,但如本发明那样经由保护罩构件而固定永久磁铁的情况下,不会因几个永久磁铁的拆装而造成磁轭板上的永久磁铁产生位置偏离。
本发明的磁控管溅射用磁回路装置,可通过将安装了永久磁铁的保护罩构件机械固定在磁轭板上来制造,所以不仅永久磁铁的精确定位容易,而且还能够极其缩短组装时间。除此之外,由于不必使用粘接剂,所以能够良好地维持制造环境。
附图说明
图1是表示本发明的磁控管溅射用磁电路装置的一例的俯视图;
图2是图1的A-A部视图;
图3是表示第一及第二磁铁组装体从磁轭板隔离的状态的图2的分解图;
图4是图1的B-B剖视图;
图5是表示第一保护罩构件的一例的剖视图;
图6是图3所示的第一保护罩构件的俯视图;
图7是表示外侧永久磁铁列用的第二保护罩构件的另一例的剖视图;
图8是表示外侧永久磁铁列用的第二保护罩构件的又一例的剖视图;
图9是表示本发明的磁控管溅射用磁电路装置的另一例的俯视图;
图10是表示图9的内侧永久磁铁列用的第一保护罩构件的立体图;
图11是表示图9的外侧永久磁铁列用的第二保护罩构件的立体图;
图12是表示图2所示的外侧永久磁铁列用的第二保护罩构件中插入永久磁铁的状态的立体图;
图13是表示一个保护罩构件中插入两个永久磁铁的状态的立体图;
图14是表示图9的磁电路装置的制造工序的剖视图;
图15是表示具备本发明的磁电路装置的磁控管溅射装置的一例的剖视图。
图中:1-磁电路装置;2-磁轭板;21-中央槽;22-外周阶梯部;23-水平槽;3-内侧永久磁铁列;4-外侧永久磁铁列;30、40-永久磁铁;31、331、431-内侧永久磁铁列用的保护罩构件;31a、331a、431a-第一侧板部;31b、331b、431b-第二侧板部;31c、331c、431c-上板部;31d、331d、431d-螺纹用开口部;31e、331e、431e-外方凸缘部;331f、431f、431g-衬垫承受用切口;41、141、241、341、441-外侧永久磁铁列用的保护罩构件;141a、241a、341a、441a-第一侧板部;141b、241b、341b、441b-第二侧板部;141c、241c、341c、441c-上板部;141d、241d、341d、441d-螺纹用开口部;141e、241e-外方凸缘部;141f、241g-内方突起部;441f-衬垫承受用切口;5、51、52-螺栓;6-衬垫;8-夹具;100-磁控管溅射装置;101-真空腔室;102-阴极;103-靶;104-基板;105-阳极;106-直流电压源。
具体实施方式
下面,参照附图对本发明的磁控管溅射用磁电路装置进行详细说明。此外,在各图中,对于具有相同功能的构件,标注相同参照符号(或后两位为相同参照符号)。
[1]磁控管溅射用磁电路装置
(1)第一方式
如图1所示,磁电路装置1具备:长度方向两端部大致半圆状的平坦的磁轭板2;机械地固定在磁轭板2的上表面的内侧永久磁铁列3以及外侧永久磁铁列4。如图2~图4所示,内侧永久磁铁列3通过以上表面具有规定极性的磁极(例如S极)的方式直线状连设高度方向上被预先磁化的多个例如长方体状的永久磁铁30而构成。各永久磁铁30的下端部保持在磁轭板2的长度方向上形成的中央槽21内。至少一个永久磁铁30被非磁性保护罩构件31覆盖,各保护罩构件31利用拧入螺栓(以下简称为“螺栓”)5等机械固定在磁轭板2的上表面。
如图5所示,各保护罩构件31由覆盖永久磁铁30的一个侧面并且机械固定在磁轭板2上的第一侧板部31a、覆盖永久磁铁30的另一个侧面的第二侧板部31b、将两侧板部31a、31b一体连结的上板部31c构成,第一侧板部31a具有外方凸缘部31e,该外方凸缘部31e至少具有一个开口部31d,利用与开口部31d卡合的螺栓5将凸缘部31e固定在磁轭板2上。该开口部31d是能够插通螺栓5的螺纹部的大小的贯通孔。
为了通过各保护罩构件31的两侧板部31a、31b牢固地把持永久磁铁30,优选上板部31c的内壁宽度WD大于保护罩构件31的两侧板部31a、31b的开口端的内壁宽度WO。具体而言,使宽度WD比永久磁铁30的宽度WP稍大,例如设为0<WD-WP≤0.05mm,使宽度WO比永久磁铁30的宽度WP稍小,例如设为0<WP-WO≤0.1mm。因而,WD>WP>WO,且WD-WO最大为0.15mm。通过这样设定WD及WO,能够无不良影响地牢固把持永久磁铁30。另外,为了在永久磁铁30的插入时防止开口边缘受到损伤,如图5(c)所示,可以将第二侧板部31b的前端部31g稍微扩展。
从外方凸缘部31e的底面到上板部31c的内表面的高度H,优选与永久磁铁30的地上部(从磁轭板2向上突出的部分)的高度HP相同或比其稍大,例如设定为H-HP=0~0.1mm。另外,如图2所示,第二侧板部31b优选具有如下长度:在将永久磁铁30嵌入中央槽21内时,可靠地使其下端位于比磁轭板2的上表面稍高的位置。
保护罩构件31的长度L(参照图6),在收容一个永久磁铁30时,优选设定为与永久磁铁30的长度LP相同或比其稍短(参照图12),另外,在收容两个永久磁铁30时,优选设定为2LP或比其稍短(参照图13)。尽管保护罩构件31的角部带有圆角,但为了增大保护罩构件31的内表面和永久磁铁30的外表面的接触面积,优选保护罩构件31的内周角部的曲率设定为例如0.5mm以下。
如图2~4所示,外侧永久磁铁列4通过将与永久磁铁30反方向被磁化(图示的例中上表面侧为N极)的多个永久磁铁40以包围内侧永久磁铁列3的方式连设而构成,各永久磁铁40的下端部保持在磁轭板2上形成的外周阶梯部22。至少一个永久磁铁40由非磁性保护罩构件41牢固地把持,各保护罩构件41的外方凸缘部41e被螺栓5机械固定在磁轭板2上。把持永久磁铁40的保护罩构件41的形状,除了因永久磁铁40比永久磁铁30厚而内壁宽度大之外,其他与保护罩构件31相同,所以省略其说明。但是,如图1所示,安装在磁轭板2的两端部附近的保护罩构件41,优选具有覆盖各永久磁铁40的大体整个表面的形状。当然,为了牢固地把持永久磁铁40,优选满足与保护罩构件31相同的WD、WP及WO的关系。
永久磁铁30、40本身为公知的磁铁即可,在低价格装置的情况下优选使用铁素体烧结磁铁,另外,在靶表面产生强力磁场的高价格装置的情况下,优选使用稀土类磁铁,进而优选使用以R2T14B(R为含有Y的稀土类元素的一种以上,必须为从由Nd、Pr、Dy及Tb构成的组中选择出的至少一种,T为Fe或Fe和Co。)为主相的各向异性R-T-B系烧结磁铁。由于成膜时基板温度上升,设置有磁回路装置的真空室的温度也上升,所以特别优选使用具有1193kA·m-1以上的顽磁力Hcj的耐热型的各向异性R-T-B系烧结磁铁。
磁轭板2为了形成磁路而由铁、钢等强磁性金属构成,不过优选例如普通结构用轧制钢材(SS40等)或马氏体系不锈钢(SUS403等)。
保护罩构件31、41为了防止从永久磁铁30、40产生的磁通的短路,需要是非磁性体。保护罩构件31、41可以由FRP等塑料材料形成,不过优选通过对能够弹性变形且高耐久性的奥氏体系不锈钢(例如SUS304)或铝合金(例如A6063)之类的金属板进行压力加工或挤压加工而形成。保护罩构件31、41的厚度可根据永久磁铁30、40的材质及尺寸适当设定。例如,在由金属制的保护罩构件覆盖各向异性R-T-B系烧结磁铁的情况下,为了容易地弹性变形,板厚优选为3mm以下,特别优选为0.5~2mm。
(2)第二方式
保护罩构件的形状并不限定于上述情况,也可以为图7所示的形状。图7中,对于与图1~6相同作用的部分标注相同(或后两位相同)参照符号。图7所示的例中,磁轭板2在上表面具有承受内侧永久磁铁列30的中央槽21和承受外侧永久磁铁列40的外周阶梯部22,并且在侧面外周阶梯部22下方的位置具有水平槽23,保护罩构件141具有第一侧板部141a、第二侧板部141b和一体地连结两侧板部141a、141b的上板部141c,其中,所述第一侧板部141a在与磁轭板2的上表面相接的位置具有至少包括一个开口部141d的外方凸缘部141e,所述第二侧板部141b越过永久磁铁40的下端到达水平槽23并且在前端具有内方突起部141f。内方突起部141f可通过将第二侧板部141b的前端部向内侧弯折成直角而形成。在将内方突起部141f卡合于水平槽23,将永久磁铁40配置于外周阶梯部22的状态下,利用与开口部141d卡合的螺纹件5将第一侧板部141a的外方凸缘部141e固定在磁轭板2上。通过形成为内方突起部141f与水平槽23卡合的形状,能够将永久磁铁40更加牢固地固定在磁轭板2上,所以能够减薄保护罩构件141。
(3)第三方式
图8所示的例中,在保护罩构件241的上板部241c的内表面设置有与永久磁铁40的上表面抵接的突起部241g。如图8的(b)所示,突起部241g在保护罩构件241的长度方向上延伸。突起部241g可通过压花等方法形成。根据该形状,在将插入保护罩构件241的永久磁铁40安装于磁轭板2的外周阶梯部22,使保护罩构件241与磁轭板2螺合时,永久磁铁40被保护罩构件4向下按压,所以能够将永久磁铁40更加牢固地固定在磁轭板2上。
(4)第四方式
在磁控管溅射装置中,磁回路装置的宽度例如设定为170~200mm,但为了尽量均匀地溅射靶表面来提高靶的利用效率,优选形成为宽度窄到例如100~120mm左右的磁回路装置多个(例如12个或14个)排列的结构。在该宽度狭窄的磁回路装置中,根据靶的材质(例如非磁性金属),需要在靶的表面产生高磁通密度,所以对如图9所示将宽度较宽的永久磁铁30、40固定在磁轭板2上的情况进行了研究。
在图9所示的第四方式的磁控管溅射用磁回路装置中,由于具有以狭窄间隔设置了壁厚的永久磁铁的结构,所以在永久磁铁30和永久磁铁40之间产生强磁吸引力,从而需要在内侧永久磁铁列30和外侧永久磁铁列40之间设置由非磁性体构成的衬垫6。为了确保衬垫6的设置空间,需要缩短保护罩构件331、441的第二侧板部,使保护罩构件331、341作为整体形成为接近L字的コ字状。
如图9及图10(a)所示,内侧永久磁铁列3的保护罩构件331具有大致コ字截面,由覆盖永久磁铁30的一侧面的第一侧板部331a、覆盖永久磁铁30的另一侧面的第二侧板部331b、一体地连结两侧板部331a、331b的上板部331c构成。第一侧板部331a在前端具有外方凸缘部331e,在第一侧板部331a及外方凸缘部331e上设有承受衬垫6的切口331f,另外,在外方凸缘部331e上设有螺栓用开口部331d。第二侧板部331b短到承受衬垫6的高度。保护罩构件331利用切口331f及短的第二侧板部331b防止与衬垫6的干涉,所以能够以狭窄间隔设置内侧永久磁铁列3和外侧永久磁铁列4。
如图9及图10(a)所示,外侧永久磁铁列4的保护罩构件341具有接近L字形的大致コ字截面,由覆盖永久磁铁40的一侧面的第一侧板部341a、覆盖永久磁铁40的另一侧面的第二侧板部341b、一体地连结两侧板部341a、341b的上板部341c构成。第一侧板部341a具有覆盖磁轭板2的侧面的至少一部分的长度,前端部具有螺栓52用的开口部341d。第二侧板部341b短到承受衬垫6的高度。保护罩构件341由于第一侧板部341a的下端部紧固在磁轭板2的侧面,所以能够将永久磁铁40牢固地固定在磁轭板2上。
另外,在第四实施方式中,由于永久磁铁30、40的至少上部被保护罩构件331、341覆盖,所以永久磁铁30、40因与其他构件干涉(碰撞)而破损的概率大幅度降低,另外,永久磁铁30、40和磁轭板2所成的角度维持为直角,从而能够防止永久磁铁30、40的倾倒。另外,由于安装在磁轭板2的外周侧的保护罩构件341不具有外方凸缘部,所以能够缩短永久磁铁30和永久磁铁40的间隔(例如5~15mm)。
图10(b)表示内侧永久磁铁列3的保护罩构件的另一例。该保护罩构件431,不仅在第一侧板部431a上,在第二侧板部431b上也设有承受衬垫6、6的切口431f、431g,第二侧板部431b延伸到磁轭板2的上表面附近。根据该结构,由于永久磁铁30的露出部分减少,所以能够大幅度减少永久磁铁30的损伤。另外,通过使衬垫6、6与切口431f、431g卡合,即使在由一个螺栓51固定各衬垫6、6的情况下,也能够确保各衬垫6、6和内侧永久磁铁列3的高平行度。
图11(b)表示外侧永久磁铁列4的保护罩构件的另一例。在该保护罩构件441中,第二侧板部441b具有承受衬垫6的切口441f,且延伸到磁轭板2的上表面附近。根据该结构,由于永久磁铁40的露出部分减少,所以能够大幅度减少永久磁铁40的损伤。另外,通过使衬垫6与切口441f卡合,即使在由一个螺栓51固定衬垫6的情况下,也能够确保衬垫6和外侧永久磁铁列4的高平行度。
[2]制造方法
(1)第一及第三方式
在图1~6及8所示的方式中,向各保护罩构件31、41、231、241插入永久磁铁30、40的操作基本上相同,所以参照图12(a)~(c)说明向各保护罩构件41插入永久磁铁40的情况。两侧板部41a、41b的开口端的内壁宽度WO及上板部41c的内壁宽度WD相对于永久磁铁40的宽度WP,满足WD>WP>WO的关系,所以在由夹具8扩开第二侧板部41b的状态下,将永久磁铁40插入保护罩构件41内。如图12(c)所示,插入永久磁铁40后,卸下夹具8。
通过插入永久磁铁40,两侧板部41a、41b稍微扩开而弹性变形,所以在弹性复原力作用下与永久磁铁40的外表面压接。因而,连粘接剂也不用使用,就能够将永久磁铁40牢固地固定在保护罩构件41上。而且,在保护罩构件的使用中还得到下述优点。即,在使同极彼此邻接而配置磁化后的永久磁铁时,因磁性斥力而难以更精确地定位,即便使用夹具也必须增大把持永久磁铁的力,所以有可能会损伤永久磁铁自身。但是,由于将各永久磁铁容易地插入各保护罩构件,且即使用夹具充分地把持保护罩构件也不会损伤永久磁铁,所以通过使用保护罩构件使得永久磁铁向磁轭板的安装变得极为容易。这样,通过使用保护罩构件,能够容易地将永久磁铁精确(直角且直线地)地安装到磁轭板上,所以能够提高磁回路装置的精度及实现制造成本的减少化。
图13表示一个保护罩构件41中插入两个永久磁铁40、40的情况。该情况下,保护罩构件41的长度L优选设定为永久磁铁40的长度LP的2倍以上。若在一个保护罩构件41中插入两个以上的永久磁铁40、40,则具有保护罩构件向磁轭板2的安装作业缩短的优点。尽管邻接的永久磁铁40、40相互排斥,但由于薄形的永久磁铁其排斥力比较小,所以能够在保护罩构件41中比较容易地插入两个永久磁铁40、40。但是,若永久磁铁厚,则不仅在插入时需要使用适当的夹具(未图示),而且还必须使WD及WO相对于WP的大小最佳化,以使两侧板部41a、41b相对于永久磁铁40具有足够的把持力。
在第一磁回路装置中,内侧永久磁铁列3和外侧永久磁铁列4处于一定隔离,所以将任一个先安装到磁轭板2上均可。例如,首先在保护罩构件31中插入永久磁铁30制作第一磁铁组装体,并且在保护罩构件41中插入永久磁铁40制作第二磁铁组装体。将各永久磁铁30的下端磁性吸附到磁轭板2的中央槽21中,沿着中央槽21整齐排列第一磁铁组装体。通过用螺栓将所有的保护罩构件31固定在磁轭板2上,来组装内侧永久磁铁列3。同样,将永久磁铁40磁性吸附到磁轭板2的外周阶梯部22,沿着外周阶梯部22整齐排列第二磁铁组装体。通过用螺栓将所有的保护罩构件41固定在磁轭板2上,来组装外侧永久磁铁列4。当然也可以先组装外侧永久磁铁列4。
(2)第二方式
图7所示的第二方式,除了第二磁铁组装体向磁轭板的固定方法不同以外,其他与第一方式相同,所以参照图7(b)仅说明第二磁铁组装体向磁轭板的固定方法。使内方突起部141f与水平槽23卡合,并且将永久磁铁40配置在外周阶梯部22。该状态下,由于外方凸缘部141e的开口部141d与磁轭板2的螺纹孔25匹配,所以利用螺纹件5将保护罩构件141的外方凸缘部141e机械固定在磁轭板2上。
(3)第四方式
图14表示图9所示的第四方式的磁回路装置的制造方法的一例。首先,使螺栓51与螺纹孔26螺合,由此将各衬垫6、6固定在磁轭板2上[工序(a)]。在两衬垫6、6之间的中央槽21内,载置将永久磁铁30插入保护罩构件31而成的第一磁铁组装体,利用螺栓5将保护罩构件31的外方凸缘部31e固定在磁轭板2上[工序(b)]。在外周阶梯部22载置将永久磁铁40插入保护罩构件41而成的第二磁铁组装体,利用螺栓52将第二侧板部41b固定在磁轭板2的侧面[工序(c)]。最后,将剩余的第二磁铁组装体载置于另一侧的外周阶梯部22,利用螺栓52将第二侧板部41b固定在磁轭板2的侧面[工序(d)]。通过形成为各衬垫6、6与永久磁铁30、40及/或保护罩构件31、41相接的结构,能够精确地进行各永久磁铁30、40的定位。
[3]磁控管溅射装置
图15表示具备图1所示的磁回路装置1的磁控管溅射装置100。尽管未图示,但磁回路装置1在与纸面垂直的方向上设有多个(例如6个)。溅射装置100在真空腔室101内具有:磁回路装置1、在靠近磁回路装置1的位置配置的阴极102、与阴极102相接的靶103、在夹着基板104与靶103对置的位置配置的阳极105。真空腔室101具有与工作气体的供给机构(未图示)连接的工作气体流入口101a、及与真空泵(未图示)连接的排气口101b。真空腔室101是接地电位,磁回路装置1和阴极102是同电位。阴极102和阳极105分别与直流电压源106连接。基板104被搬送到靶103与阳极105之间。
若从磁回路装置1的表面到靶103的表面的距离过长,则在靶103表面出现的磁场的水平成分变得过小。另外,若该距离过短,则难以在真空腔室101内设置磁回路装置1。因而,两者的距离根据基板104的大小等适当设定。例如,第7~8代的基板的情况下,该距离通常设定在50~60mm的范围。另外,即使磁回路装置1的上表面与阴极102的底面的间隔窄到数mm,永久磁铁也由保护罩构件所覆盖,所以在组装时能够防止永久磁铁的破损。
在磁控管溅射装置100中,例如可如下那样在基板104的表面成膜。对真空腔室101内进行真空排气,并且导入含有惰性气体的工作气体(例如Ar、Ar+N2或Ar+O2),并保持在10-1~10-3Torr的压力。然后,对阴极102施加负电压(例如-300V~-800V),形成朝向靶103表面的电场,并使其辉光放电。由此,等离子体中的离子与靶103表面碰撞,此时释放的二次电子被磁场捕捉,形成沿着磁场的细长环状的高密度等离子体。高密度等离子体中的离子与靶103碰撞,其中的物质飞散,且其粒子附着于基板104表面,由此形成薄膜。
上述磁控管溅射装置100优选如下构成。即,进行成膜时,高密度等离子体中与靶103表面垂直的磁场成分在零位置密度升高,所以在靶103表面形成沿着高密度等离子体的形状的侵蚀区域。因此,通过在磁回路装置1的背侧设置驱动装置(未图示),并使磁回路装置1在与靶103平行的面内平行移动,且使其移动间距与高密度等离子体相同或为其以下的间距,由此提高靶103的利用效率。根据该结构,靶103的表面暴露于高密度等离子体的时间被平均化,所以在靶103的表面形成均匀的侵蚀区域。
Claims (18)
1.一种磁控管溅射用磁回路装置,其特征在于,具备:
内侧永久磁铁列,其由以上表面具有规定极性的磁极的方式连设的多个永久磁铁构成;外侧永久磁铁列,其包围所述内侧永久磁铁列,并由以上表面具有与所述内侧永久磁铁列的磁极反极性的磁极的方式连设的多个永久磁铁构成;磁轭板,其装拆自如地保持所述内侧永久磁铁列及所述外侧永久磁铁列的永久磁铁;和至少逐个覆盖所述永久磁铁的大致截面コ字状的非磁性保护罩构件,各保护罩构件由覆盖所述永久磁铁的一侧面并且机械固定在所述磁轭板上的第一侧板部、覆盖所述永久磁铁的另一侧面的第二侧板部、一体地连结两侧板部的上板部构成,由各保护罩构件的两侧板部牢固地把持所述永久磁铁。
2.根据权利要求1所述的磁控管溅射用磁回路装置,其特征在于,
所述磁轭板在上表面具有承受长方体状的所述永久磁铁的凹部。
3.根据权利要求2所述的磁控管溅射用磁回路装置,其特征在于,
承受构成所述内侧永久磁铁列的所述永久磁铁的凹部是中央槽,承受构成所述外侧永久磁铁列的所述永久磁铁的凹部是外周阶梯部。
4.根据权利要求2或3所述的磁控管溅射用磁回路装置,其特征在于,
所述保护罩构件的所述第一侧板部具有至少具备一个开口部的外方凸缘部,在各永久磁铁的下端部配置于所述磁轭板的所述凹部的状态下,利用与所述开口部卡合的螺栓将所述凸缘部固定在所述磁轭板上。
5.根据权利要求1所述的磁控管溅射用磁回路装置,其特征在于,
所述磁轭板在上表面具有承受所述内侧永久磁铁列的中央槽、和承受所述外侧永久磁铁列的外周阶梯部,并且在侧面具有水平槽,所述外侧永久磁铁列的各保护罩构件的所述第一侧板部,在与所述磁轭板的上表面相接的位置具有至少具备一个开口部的外方凸缘部,所述第二侧板部具有到达所述水平槽的长度并且在前端具有内方突起部,以此在所述内方突起部与所述水平槽卡合,并且所述永久磁铁配置于所述外周阶梯部的状态下,利用与所述开口部卡合的螺栓将所述第一侧板部的所述外方凸缘部固定在所述磁轭板上。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的磁控管溅射用磁回路装置,其特征在于,
所述保护罩构件的所述上板部的内表面具有与所述永久磁铁的上表面抵接的突起部。
7.一种磁控管溅射用磁回路装置,其特征在于,具备:
内侧永久磁铁列,其由以上表面具有规定极性的磁极的方式连设的多个永久磁铁构成;外侧永久磁铁列,其包围所述内侧永久磁铁列,并由以上表面具有与所述内侧永久磁铁列的磁极反极性的磁极的方式连设的多个永久磁铁构成;磁轭板,其装拆自如地保持所述内侧永久磁铁列及所述外侧永久磁铁列的永久磁铁;衬垫,其设置在所述内侧永久磁铁列和所述外侧永久磁铁列之间;和至少逐个覆盖所述永久磁铁的大致截面コ字状的非磁性保护罩构件,所述内侧永久磁铁列的各保护罩构件由覆盖所述永久磁铁的一侧面并且机械固定在所述磁轭板上的第一侧板部、覆盖所述永久磁铁的另一侧面的第二侧板部、一体地连结两侧板部的上板部构成,所述外侧永久磁铁列的各保护罩构件由具有覆盖所述永久磁铁的一侧面及所述磁轭板的侧面的至少一部分的长度并且机械固定在所述磁轭板上的第一侧板部、覆盖所述永久磁铁的另一侧面的第二侧板部、一体地连结两侧板部的上板部构成,由各保护罩构件的两侧板部牢固地把持所述永久磁铁。
8.根据权利要求7所述的磁控管溅射用磁回路装置,其特征在于,
所述磁轭板在上表面具有承受所述内侧永久磁铁列的长方体状的所述永久磁铁的中央槽,并且具有承受所述外侧永久磁铁列的长方体状的所述永久磁铁的外周阶梯部,所述内侧永久磁铁列的各保护罩构件的所述第一侧板部具有至少具备一个开口部的外方凸缘部,所述外侧永久磁铁列的各保护罩构件的所述第一侧板部在与所述磁轭板的侧面相接的前端部分至少具有一个开口部,在各永久磁铁的下端部配置于所述磁轭板的所述槽或阶梯部的状态下,利用与所述开口部卡合的螺栓将所述第一侧板部固定在所述磁轭板上。
9.根据权利要求7或8所述的磁控管溅射用磁回路装置,其特征在于,
所述内侧永久磁铁列的各保护罩构件的所述第一侧板部具有承受所述衬垫的切口。
10.根据权利要求1~9中任一项所述的磁控管溅射用磁回路装置,其特征在于,
所述保护罩构件由能够弹性变形的非磁性金属板形成。
11.根据权利要求10所述的磁控管溅射用磁回路装置,其特征在于,
所述永久磁铁的宽度WP、所述保护罩构件的两侧板部的开口端的内壁宽度WO及所述上板部的内壁宽度WD满足WD>WP>WO的关系。
12.一种磁控管溅射用磁回路装置的制造方法,其是通过将内侧永久磁铁列和外侧永久磁铁列装拆自如地组装到磁轭板上来制造磁控管溅射用磁回路装置的方法,其中,所述内侧永久磁铁列由以上表面具有规定极性的磁极的方式连设的多个永久磁铁构成;所述外侧永久磁铁列包围所述内侧永久磁铁列,并由以上表面具有与所述内侧永久磁铁列的磁极反极性的磁极的方式连设的多个永久磁铁构成,所述磁控管溅射用磁回路装置的制造方法的特征在于,包括:
(a)制作由具有与所述磁轭板卡合的卡合部的第一侧板部、与所述第一侧板部对置的第二侧板部、一体地连结两侧板部的上板部构成的大致截面コ字状的第一及第二非磁性保护罩构件,
(b)将高度方向上被磁化的至少一个永久磁铁以所述上板部侧为同极性的方式插入所述第一保护罩构件中,由此制作第一磁铁组装体,
(c)将高度方向上被磁化的至少一个永久磁铁以所述上板部侧与所述第一磁铁组装体反极性的方式插入所述第二保护罩构件中,由此制作第二磁铁组装体,
(d)经由所述第一侧板部将所述第一及第二磁铁组装体分别机械固定在所述磁轭板上。
13.根据权利要求12所述的磁控管溅射用磁回路装置的制造方法,其特征在于,
所述磁轭板在上表面具有沿规定方向延伸的凹部,在所述凹部内配置所述第一及第二磁铁组装体的永久磁铁。
14.根据权利要求12或13所述的磁控管溅射用磁回路装置的制造方法,其特征在于,
所述第一及第二保护罩构件在所述第一侧板部的前端具有外方凸缘部,经由所述外方凸缘部将所述第一及第二保护罩构件机械固定在所述磁轭板上。
15.根据权利要求12所述的磁控管溅射用磁回路装置的制造方法,其特征在于,
所述磁轭板在上表面具有中央槽及外周阶梯部且在侧面具有水平槽,所述第二非磁性保护罩构件具有大致截面コ字状,且由具有外方凸缘部的第一侧板部、与所述第一侧板部对置的第二侧板部(具有到达所述水平槽的长度并且在前端具有内方突起部)、一体地连结两侧板部的上板部构成,其中,所述外方凸缘部具有与所述磁轭板卡合的卡合部,在使所述第二磁铁组装体的所述第二侧板部的所述内方突起部与所述磁轭板的所述水平槽卡合并且将所述永久磁铁配置于所述外周阶梯部的状态下,将所述第一侧板部的所述外方凸缘部机械固定在所述磁轭板上。
16.一种磁控管溅射用磁回路装置的制造方法,其是通过将内侧永久磁铁列和外侧永久磁铁列经由衬垫装拆自如地组装到磁轭板上来制造磁控管溅射用磁回路装置的方法,其中,所述内侧永久磁铁列由以上表面具有规定极性的磁极的方式连设的多个永久磁铁构成;所述外侧永久磁铁列包围所述内侧永久磁铁列,并由以上表面具有与所述内侧永久磁铁列的磁极反极性的磁极的方式连设的多个永久磁铁构成,所述磁控管溅射用磁回路装置的制造方法的特征在于,包括:
(a)制作由具有与所述磁轭板卡合的卡合部的第一侧板部、与所述第一侧板部对置的第二侧板部、一体地连结两侧板部的上板部构成的大致截面コ字状的第一非磁性保护罩构件,并制作由具有到达所述水平槽的长度并且在前端部至少具有一个与所述磁轭板卡合的卡合部的第一侧板部、与所述第一侧板部对置的第二侧板部、一体地连结两侧板部的上板部构成的大致截面コ字状的第二非磁性保护罩构件,
(b)将高度方向上被磁化的至少一个永久磁铁以所述上板部侧为同极性的方式插入所述第一保护罩构件中,由此制作第一磁铁组装体,
(c)将高度方向上被磁化的至少一个永久磁铁以所述上板部侧与所述第一磁铁组装体反极性的方式插入所述第二保护罩构件中,由此制作第二磁铁组装体,
(d)将衬垫机械固定在所述磁轭板上,
(e)经由所述第一侧板部将所述第一磁铁组装体机械固定在所述磁轭板上,
(f)经由所述第一侧板部将所述第二磁铁组装体机械固定在所述磁轭板上。
17.一种磁控管溅射用磁回路装置的制造方法,其是通过将内侧永久磁铁列和外侧永久磁铁列经由衬垫装拆自如地组装到上表面具有沿规定方向延伸的中央槽及外周阶梯部的磁轭板上来制造磁控管溅射用磁回路装置的方法,其中,所述内侧永久磁铁列由以上表面具有规定极性的磁极的方式连设的多个永久磁铁构成;所述外侧永久磁铁列包围所述内侧永久磁铁列,并由以上表面具有与所述内侧永久磁铁列的磁极反极性的磁极的方式连设的多个永久磁铁构成,所述磁控管溅射用磁回路装置的制造方法的特征在于,包括:
(a)制作由具有至少具备一个开口部的外方凸缘部的第一侧板部、与所述第一侧板部对置的第二侧板部、一体地连结两侧板部的上板部构成的大致截面コ字状的第一非磁性保护罩构件,并制作由具有到达所述水平槽的长度并且在前端部至少具有一个开口部的第一侧板部、与所述第一侧板部对置的第二侧板部、一体地连结两侧板部的上板部构成的大致截面コ字状的第二非磁性保护罩构件,
(b)将高度方向上被磁化的至少一个永久磁铁以所述上板部侧为同极性的方式插入所述第一保护罩构件中,由此制作第一磁铁组装体,
(c)将高度方向上被磁化的至少一个永久磁铁以所述上板部侧与所述第一磁铁组装体反极性的方式插入所述第二保护罩构件中,由此制作第二磁铁组装体,
(d)将衬垫机械固定在所述磁轭板上,
(e)在将所述第一磁铁组装体的永久磁铁配置于所述中央槽的状态下,利用与所述外方凸缘部的开口部卡合的螺栓将所述第一磁铁组装体固定在所述磁轭板上,
(f)在将所述第二磁铁组装体的永久磁铁配置于所述外周阶梯部的状态下,利用与所述第一侧板部的开口部卡合的螺栓将所述第二磁铁组装体固定在所述磁轭板上。
18.根据权利要求16或17所述的磁控管溅射用磁回路装置的制造方法,其特征在于,
所述第一保护罩构件至少在所述第一侧板部具有承受所述衬垫的切口,以所述衬垫进入所述切口的方式将所述第一磁铁组装体固定在所述磁轭板上。
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C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Open date: 20080116 |