JP2011199305A - リソグラフィ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ガスがメンブレンの第1の側に供給され、液体が同メンブレンの第2の側に供給される加湿装置が開示される。このメンブレンは液体に対して非浸透性であるが、液体の蒸気に対しては浸透性があり、前記液体に対しては液親性である。
【選択図】図7b
Description
−放射ビームB(例えばUV放射またはDUV放射)を調整するように構成されたイルミネーションシステム(イルミネータ)ILと、
−パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
−基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
−パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wの(例えば1つまたは複数のダイを備える)ターゲット部分Cに投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSと、を備える。
Claims (30)
- メンブレンと、
前記メンブレンの一方の側にガスを誘導するための第1の導管と、
前記メンブレンの他方の側に液体を誘導するための第2の導管と
を備え、
前記メンブレンが前記液体に対して液親性である表面を有する加湿装置。 - 前記表面が親水性である請求項1に記載の加湿装置。
- 前記液体が、前記表面に対して、90°未満、または70°未満、または60°未満、好ましくは50°未満、さらに好ましくは30°未満の接触角を有する請求項1に記載の加湿装置。
- 前記メンブレンが、使用中、前記液体に対しては非浸透的に機能し、前記液体の蒸気に対しては浸透的に機能する請求項1に記載の加湿装置。
- 前記第2の導管に液体を供給する液体供給器をさらに備える請求項1に記載の加湿装置。
- 前記第1の導管にガスを供給するガス供給器をさらに備える請求項1に記載の加湿装置。
- 前記一方の側から離れる方にガスを誘導する第3の導管をさらに備える請求項1に記載の加湿装置。
- 前記他方の側から離れる方に液体を誘導する第4の導管をさらに備える請求項1に記載の加湿装置。
- 前記メンブレンがチューブの形態であり、好ましくは前記メンブレンの前記一方の側が前記チューブの内部である請求項1に記載の加湿装置。
- 前記メンブレンがフッ素化スルホン酸共重合体からなる請求項1に記載の加湿装置。
- 前記第2の導管の上流側の前記液体の温度を調節するためかつ/または前記メンブレンの上流側および/または下流側の前記ガスの温度を調節するための液体温度調節器をさらに備える請求項1に記載の加湿装置。
- 前記液体またはガスが調節される温度および/または前記液体またはガスの流速を変化させるために前記液体温度調節器を制御する制御器をさらに備える請求項11に記載の加湿装置。
- 前記制御器が、前記メンブレンの前記一方の側に入るガス温度または前記メンブレンの前記一方の側から出て行くガス温度に基づいて制御を行う請求項12に記載の加湿装置。
- 前記第1に導管の上流側で前記ガスを事前加湿する事前加湿装置をさらに備える請求項1に記載の加湿装置。
- 請求項1に記載の加湿装置を備える液浸リソグラフィ装置。
- 加湿されたガスを前記第3の導管から吹き込むためのパージシステムをさらに備え、好ましくは、前記パージシステムが、液体閉じ込めシステム、乾燥ステーション、蒸発低減システムのうちの少なくとも1つである請求項15に記載の液浸リソグラフィ装置。
- メンブレンと、液体の温度を調節する液体温度調節器と、前記液体温度調節器から前記メンブレンの一方の側に液体を誘導する液体導管と、前記メンブレンの他方の側にガスを誘導するガス導管とを備え、前記メンブレンの前記他方の側の前記ガスの温度が、前記メンブレンの前記一方の側の液体の温度によって支配される、加湿装置。
- 前記液体温度調節器が、前記ガスの実際の温度および/または所望の温度に基づいて、前記液体の所望の温度を表す制御信号を受け取る請求項17に記載の加湿装置。
- 前記ガスの前記実際の温度が、前記メンブレンの前記他方の側を出て行くガスの温度である請求項18に記載の加湿装置。
- 液体に対して液親性であるメンブレンの一方の側に前記液体を供給すること、および
前記メンブレンの他方の側に加湿されるべきガスを供給すること
を含む、ガスを加湿する方法。 - 前記メンブレンの前記他方の側に供給された前記ガスが、前記メンブレンの前記他方の側に供給される前に事前加湿される請求項20に記載の方法。
- 前記メンブレンの一方の側に供給された前記液体が、その温度を調整されることによって前記ガスの温度を調節する請求項20に記載の方法。
- 前記液体が、前記メンブレンに対して、90°未満、または70°未満、または60°未満、好ましくは50°未満、さらに好ましくは30°未満の接触角を有する請求項20に記載の方法。
- 前記メンブレンが、前記ガスまたは前記液体がその中に供給される少なくとも1つの細長いパイプを含む請求項20に記載の方法。
- 前記液体を供給することが、液体の流れを供給することを含む請求項20に記載の方法。
- 前記メンブレンがフッ素化スルホン酸共重合体から製造される請求項20に記載の方法。
- 請求項20の方法によって加湿されたガスを用いて、液浸リソグラフィ装置に液体を含ませる方法。
- 前記ガスを供給することが、ガスの流れを供給することを含む請求項20に記載の方法。
- 前記液体が水、好ましくは超純水である請求項20に記載の方法。
- 液体の温度を制御し、該液体をメンブレンの一方の側に供給すること、
加湿されるべきガスを前記メンブレンの他方の側に供給すること
を含み、
前記メンブレンの前記他方の側のガスの温度が、前記メンブレンの前記一方の側の液体
の温度によって支配される、ガスを加湿する方法。
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---|---|---|---|---|
US8926731B2 (en) | 2005-09-13 | 2015-01-06 | Rasirc | Methods and devices for producing high purity steam |
US8282708B2 (en) * | 2005-09-13 | 2012-10-09 | Rasirc | Method of producing high purity steam |
US7866637B2 (en) * | 2007-01-26 | 2011-01-11 | Asml Netherlands B.V. | Humidifying apparatus, lithographic apparatus and humidifying method |
KR101278398B1 (ko) * | 2007-08-01 | 2013-06-24 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 중공사막 및 그 제조방법 |
JP5574799B2 (ja) * | 2010-04-23 | 2014-08-20 | キヤノン株式会社 | 露光装置、それを用いたデバイスの製造方法、並びに気体供給装置 |
EP2515170B1 (en) * | 2011-04-20 | 2020-02-19 | ASML Netherlands BV | Thermal conditioning system for thermal conditioning a part of a lithographic apparatus and a thermal conditioning method |
USD718490S1 (en) | 2013-03-15 | 2014-11-25 | Cree, Inc. | LED lens |
US10247432B1 (en) * | 2015-02-06 | 2019-04-02 | Elemental Scientific, Inc. | System for humidifying gas streams |
KR101791056B1 (ko) * | 2015-07-21 | 2017-10-27 | 삼성전자주식회사 | 공기조화기 및 그 제어 방법 |
CN113457318B (zh) * | 2020-03-31 | 2022-08-30 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种超洁净湿空气制备装置及光刻设备 |
US11846446B1 (en) * | 2021-04-26 | 2023-12-19 | Amazon Technologies, Inc. | Modular evaporative cooling units |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07217952A (ja) * | 1994-02-01 | 1995-08-18 | Nitto Denko Corp | 加湿器 |
JPH07225039A (ja) * | 1994-02-10 | 1995-08-22 | Nitto Denko Corp | 加湿器 |
JPH07243675A (ja) * | 1994-03-08 | 1995-09-19 | Nitto Denko Corp | 加湿器およびその運転方法 |
JPH07243674A (ja) * | 1994-03-08 | 1995-09-19 | Nitto Denko Corp | 加湿器 |
JPH08128682A (ja) * | 1994-09-08 | 1996-05-21 | Japan Gore Tex Inc | 加湿ユニット |
JPH08178376A (ja) * | 1994-12-28 | 1996-07-12 | Japan Gore Tex Inc | 加湿装置 |
JPH10197016A (ja) * | 1997-01-08 | 1998-07-31 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 中空糸膜型加湿器 |
JP2002075423A (ja) * | 2000-09-01 | 2002-03-15 | Honda Motor Co Ltd | 燃料電池用加湿装置 |
JP2003269754A (ja) * | 2002-03-15 | 2003-09-25 | Taiyo Toyo Sanso Co Ltd | ガス加湿装置 |
JP2005337640A (ja) * | 2004-05-28 | 2005-12-08 | Taiyo Nippon Sanso Corp | ガス加湿装置 |
JP2006528431A (ja) * | 2003-07-21 | 2006-12-14 | インテグリス・インコーポレーテッド | リソグラフ投影装置、パージガス供給システムおよびガスパージ |
JP2007005795A (ja) * | 2005-06-21 | 2007-01-11 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4098852A (en) * | 1972-07-04 | 1978-07-04 | Rhone-Poulenc, S.A. | Process for carring out a gas/liquid heat-exchange |
US4101294A (en) * | 1977-08-15 | 1978-07-18 | General Electric Company | Production of hot, saturated fuel gas |
EP0009543B1 (en) * | 1978-07-12 | 1982-12-08 | Richard R. Dr. Jackson | Nested hollow fiber humidifier |
DE2929706C2 (de) * | 1979-07-21 | 1982-09-30 | Drägerwerk AG, 2400 Lübeck | Atemluftanfeuchter und -erwärmer für Beatmungseinrichtungen |
DE3032438C2 (de) * | 1980-08-28 | 1982-12-16 | Drägerwerk AG, 2400 Lübeck | Y-Stück im Patientensystem von Beatmungsvorrichtungen |
US4509852A (en) * | 1980-10-06 | 1985-04-09 | Werner Tabarelli | Apparatus for the photolithographic manufacture of integrated circuit elements |
JP2688662B2 (ja) * | 1991-07-05 | 1997-12-10 | ジャパンゴアテックス株式会社 | 加湿器における加湿水流路 |
US5368786A (en) * | 1992-09-30 | 1994-11-29 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Apparatus and methods for humidity control |
US5348691A (en) * | 1993-06-11 | 1994-09-20 | United Technologies Corporation | Atmosphere membrane humidifier and method and system for producing humidified air |
CA2163955A1 (en) * | 1995-03-09 | 1996-09-10 | Nicholas F. Didomenico | Humidification device |
JPH08266631A (ja) * | 1995-03-31 | 1996-10-15 | Asahi Glass Co Ltd | 呼吸用気体の加湿装置 |
JPH10324502A (ja) * | 1997-05-21 | 1998-12-08 | Dainippon Ink & Chem Inc | 超純水の炭酸ガス付加装置及び付加方法 |
CA2621113C (en) * | 1997-06-17 | 2011-10-11 | Fisher & Paykel Healthcare Limited | Respiratory humidification system |
AU2747999A (en) | 1998-03-26 | 1999-10-18 | Nikon Corporation | Projection exposure method and system |
US20020124431A1 (en) * | 1999-08-27 | 2002-09-12 | Patrick Duhaut | Method for drying substances and/or preserving dryness by means of a semipermeable membrane |
US7708013B2 (en) * | 2000-12-08 | 2010-05-04 | Vapotherm, Inc. | Apparatus and method for delivering water vapor to a gas |
US6896247B2 (en) * | 2002-07-18 | 2005-05-24 | Bruker Axs Gmbh | X-ray analysis system with humidified sample |
EP1420300B1 (en) | 2002-11-12 | 2015-07-29 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
EP2495613B1 (en) | 2002-11-12 | 2013-07-31 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
EP1610361B1 (en) | 2003-03-25 | 2014-05-21 | Nikon Corporation | Exposure system and device production method |
KR101886027B1 (ko) | 2003-04-10 | 2018-09-06 | 가부시키가이샤 니콘 | 액침 리소그래피 장치용 진공 배출을 포함하는 환경 시스템 |
US20060285091A1 (en) | 2003-07-21 | 2006-12-21 | Parekh Bipin S | Lithographic projection apparatus, gas purging method, device manufacturing method and purge gas supply system related application |
US7585355B2 (en) * | 2004-02-10 | 2009-09-08 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Temperature/humidity exchanger |
US20060001851A1 (en) | 2004-07-01 | 2006-01-05 | Grant Robert B | Immersion photolithography system |
US7304715B2 (en) * | 2004-08-13 | 2007-12-04 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
EP1681597B1 (en) * | 2005-01-14 | 2010-03-10 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP4262252B2 (ja) | 2005-03-02 | 2009-05-13 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
US20060205301A1 (en) * | 2005-03-11 | 2006-09-14 | Bha Technologies, Inc. | Composite membrane having hydrophilic properties and method of manufacture |
JP4708860B2 (ja) | 2005-05-23 | 2011-06-22 | キヤノン株式会社 | 液浸露光装置 |
US7866637B2 (en) * | 2007-01-26 | 2011-01-11 | Asml Netherlands B.V. | Humidifying apparatus, lithographic apparatus and humidifying method |
-
2007
- 2007-02-26 US US11/710,428 patent/US7866637B2/en active Active
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2011
- 2011-06-01 JP JP2011123361A patent/JP5300920B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07217952A (ja) * | 1994-02-01 | 1995-08-18 | Nitto Denko Corp | 加湿器 |
JPH07225039A (ja) * | 1994-02-10 | 1995-08-22 | Nitto Denko Corp | 加湿器 |
JPH07243675A (ja) * | 1994-03-08 | 1995-09-19 | Nitto Denko Corp | 加湿器およびその運転方法 |
JPH07243674A (ja) * | 1994-03-08 | 1995-09-19 | Nitto Denko Corp | 加湿器 |
JPH08128682A (ja) * | 1994-09-08 | 1996-05-21 | Japan Gore Tex Inc | 加湿ユニット |
JPH08178376A (ja) * | 1994-12-28 | 1996-07-12 | Japan Gore Tex Inc | 加湿装置 |
JPH10197016A (ja) * | 1997-01-08 | 1998-07-31 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 中空糸膜型加湿器 |
JP2002075423A (ja) * | 2000-09-01 | 2002-03-15 | Honda Motor Co Ltd | 燃料電池用加湿装置 |
JP2003269754A (ja) * | 2002-03-15 | 2003-09-25 | Taiyo Toyo Sanso Co Ltd | ガス加湿装置 |
JP2006528431A (ja) * | 2003-07-21 | 2006-12-14 | インテグリス・インコーポレーテッド | リソグラフ投影装置、パージガス供給システムおよびガスパージ |
JP2005337640A (ja) * | 2004-05-28 | 2005-12-08 | Taiyo Nippon Sanso Corp | ガス加湿装置 |
JP2007005795A (ja) * | 2005-06-21 | 2007-01-11 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
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