JP2011184595A - 硬質表面用アルカリ洗浄剤組成物 - Google Patents

Abstract

【課題】本発明は、高い洗浄性と高い消泡性とが両立され、且つ、高濃度状態での保存安定性が良好な硬質表面用アルカリ洗浄剤組成物等を提供する。
【解決手段】アルカリ剤（成分Ａ）と、特定のアニオン性界面活性剤(成分Ｂ)と、水（成分Ｃ）と、テトラメチル-6-ドデシン-5,8-ジオール（成分Ｄ）と、特定のポリオキシアルキレンアルキルエーテル（成分Ｅ）と、前記特定のポリオキシアルキレンアルキルエーテル（成分Ｅ）以外の非イオン界面活性剤（成分Ｆ）と、特定の可溶化剤（成分Ｇ）を含有してなり、含有量比[成分Ｂ（重量％）／〔成分Ｄ（重量％）＋成分Ｅ（重量％）〕]が３／１〜１／３であり、含有量比[成分Ｆ（重量％）／〔成分Ｄ（重量％）＋成分Ｅ（重量％）〕]が５／１〜１／２である硬質表面用アルカリ洗浄剤組成物。
【選択図】なし

Description

本発明は、硬質表面用アルカリ洗浄剤組成物、及びそれを用いて行うガラス表面の洗浄方法に関する。

近年のメモリーハードディスクドライブには、高容量と小径化を目的として、記録密度を上げるために磁気ヘッドの浮上量を低下させて、単位記録面積を小さくすることが求められている。それに伴い、ハードディスクの製造工程においても、研磨対象物を研磨して得られる研磨面に要求される清浄度等の表面品質が高くなってきている。

ハードディスクの製造過程には、サブストレート形成工程とメディア工程とが含まれる。サブストレート形成工程では、被研磨基板に対して少なくとも研磨処理と洗浄処理とがこの順で複数回行われることにより、ハードディスク用基板が作製される。前記メディア工程では、必要に応じて研磨によりハードディスク用基板の少なくとも一方の主面に浅い凸凹をつけた後（テクスチャー工程）、洗浄がなされ（洗浄工程）、次いで、前記基板の少なくとも一方の主面側に磁性層が形成される（磁性層形成工程）。

ところで、前記洗浄処理に使用される洗浄剤組成物には、洗浄性および消泡性が優れていることが望まれる。前記洗浄剤組成物では、洗浄性の向上の観点から、アニオン界面活性剤が好ましく使用され、消泡剤として、非イオン性界面活性剤又はシリコン系消泡剤が好ましく使用されることがある（特許文献１〜２参照）。

特開平４−３４５６９４号公報 特開平２０００−１６０１９０号公報

しかし、前記消泡剤を用いると、前記洗浄剤組成物の洗浄性が低下するという問題があった。

また、非イオン性界面活性剤を含む高アルカリ性の洗浄剤組成物では、通常、曇点が発現する。この曇点が低いと、輸送中などの温度変化により製品性状が損なわれる。製品性状が損なわれると、使用時に希釈する際、正常な配合量と比率での使用を保障できず、製品性状の劣化は洗浄不良等を引き起こす原因となる。特に、近年、高い洗浄性への要求とともに、コスト低減化が厳しく要求されるため、予め洗浄剤組成物の濃縮液を作成しておき、使用目的に応じて濃縮液を希釈して使用することが求められているため、高濃度状態で洗浄剤組成物の製品安定性（保存安定性）は必要不可欠な特性となっている。

しかし、従来の洗浄剤組成物では、消泡性を高めると保存安定性が劣るという問題が生じる。

そこで、本発明は、高い洗浄性と高い消泡性とが両立され、且つ、高濃度状態での保存安定性が良好な硬質表面用アルカリ洗浄剤組成物、及びそれを用いて行うガラス表面の洗浄方法を提供する。

本発明の硬質表面用アルカリ洗浄剤組成物は、
アルカリ剤（成分Ａ）と、
下記一般式（１）で示される化合物およびその塩から選ばれる少なくとも１種のアニオン性界面活性剤(成分Ｂ)と
水（成分Ｃ）と、
テトラメチル-6-ドデシン-5,8-ジオール（成分Ｄ）と、
下記一般式（２）で示されるポリオキシアルキレンアルキルエーテル（成分Ｅ）と、
前記ポリオキシアルキレンアルキルエーテル（成分Ｅ）以外の非イオン界面活性剤（成分Ｆ）と、
p-トルエンスルホン酸、ジメチルベンゼンスルホン酸、2-エチルヘキサン酸、およびこれらの塩からなる群より選ばれる１種以上の可溶化剤（成分Ｇ）を含有してなり、
含有量比[成分Ｂ（重量％）／〔成分Ｄ（重量％）＋成分Ｅ（重量％）〕]が３／１〜１／３であり、
含有量比[成分Ｆ（重量％）／〔成分Ｄ（重量％）＋成分Ｅ（重量％）〕]が５／１〜１／２である。

ただし、一般式（１）中、Ｒ¹は炭素数８〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキル基である。
Ｒ²−Ｏ−（ＡＯ）_n−Ｈ （２）
ただし、一般式（２）中、Ｒ²は炭素数３〜８の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、ＡＯは、オキシエチレン基（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）およびオキシプロピレン基（ＣＨ₂（ＣＨ₃）ＣＨＯ）からなる群から選ばれる少なくとも１種のオキシアルキレン基であり、ｎは、平均付加モル数で、１〜２０の数である。

本発明のガラス表面の洗浄方法は、水（成分Ｃ）以外の成分の含有量が１０〜６０重量％である本発明の硬質表面用アルカリ洗浄剤組成物の一例を１０〜５００倍に希釈して得た希釈液で、ガラス表面を有する被洗浄基板を洗浄する洗浄工程を含む。

本発明の硬質表面用アルカリ洗浄剤組成物では、高い洗浄性と高い消泡性とが両立され、且つ、高濃度状態での保存安定性が良好である。故に、本発明の硬質表面用アルカリ洗浄剤組成物を用いたガラス表面の洗浄方法によれば、高度に清浄化されたガラス表面を得ることができる。

本発明の硬質表面用アルカリ洗浄剤組成物（以下、「本発明の洗浄剤組成物」と略称する場合もある。）は、洗浄性の向上に有効ではあるが発泡性が高い、前記一般式（１）で示される化合物およびその塩から選ばれる少なくとも１種のアニオン性界面活性剤(成分Ｂ)を含有する組成において、特定のアセチレンジオール（成分Ｄ）と、特定のポリオキシアルキレンアルキルエーテル（成分Ｅ）と、前記特定のポリオキシアルキレンアルキルエーテル以外の非イオン性界面活性剤（成分Ｆ）と、特定の可溶化剤（成分Ｇ）とを含有し、前記成分Ｂの含有量と前記成分Ｄおよび前記成分Ｅの含有量の総和との比と、前記成分Ｆの含有量と前記成分Ｄおよび前記成分Ｅの含有量の総和との比とを、各々特定範囲の値とすることで、高い洗浄性と高い消泡性とを両立し、且つ、高濃度状態での高い保存安定性の確保を可能としたものである。

以下、本発明の洗浄剤組成物に含まれる各成分について説明する。

［アルカリ剤（成分Ａ）］
本発明の洗浄剤組成物に含まれるアルカリ剤（成分Ａ）は、無機アルカリ剤及び有機アルカリ剤のうちのいずれであってもよい。無機アルカリ剤としては、例えば、アンモニア、水酸化カリウム、及び水酸化ナトリウム等が挙げられる。有機アルカリ剤としては、例えば、ヒドロキシアルキルアミン、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、及びコリンからなる群より選ばれる一種以上が挙げられる。これらのアルカリ剤は、単独で用いても良く、二種以上を混合して用いても良い。

ヒドロキシアルキルアミンとしては、例えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、メチルエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、モノプロパノールアミン、ジプロパノールアミン、トリプロパノールアミン、メチルプロパノールアミン、メチルジプロパノールアミン、アミノエチルエタノールアミン等が挙げられる。

前記アルカリ剤のうち、洗浄剤組成物の微粒子分散性の向上、高濃度状態での保存安定性の向上の観点、及び特にガラスに対するエッチング制御が容易であることから、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、モノエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、およびアミノエチルエタノールアミンからなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましく、水酸化カリウムおよび水酸化ナトリウムからなる群から選ばれる少なくとも１種がより好ましい。

本発明の洗浄剤組成物中におけるアルカリ剤の含有量は、洗浄剤組成物の微粒子分散性向上の観点と、高濃度状態での保存安定性の向上の観点、及び特にガラスに対するエッチング制御が容易であることから、水以外の成分の含有量の合計を１００重量％とすると、好ましくは２〜６０重量％であり、より好ましくは１０〜５０重量％であり、さらに好ましくは１０〜４５重量％である。

［アニオン性界面活性剤］
本発明の洗浄剤組成物には、洗浄剤組成物の微粒子に対する洗浄性の向上と高濃度状態での保存安定性の向上の観点から、一般式（１）で示される化合物およびその塩から選ばれる少なくとも１種のアニオン性界面活性剤（成分Ｂ）が含まれる。

洗浄剤組成物の微粒子に対する洗浄性の向上と高濃度状態での保存安定性の向上の観点から、一般式（１）中、Ｒ¹は、炭素数８〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、好ましくは炭素数１０〜１４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基である。

一般式（１）で示される化合物の塩としては、具体的には、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属塩、カルシウム等のアルカリ土類金属塩、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド等のアンモニウム塩、アルカノールアミン塩等の有機アミン塩等が挙げられる。

成分Ｂとしては、具体的には、オクチルベンゼンスルホン酸ナトリウムやドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等が挙げられるが、洗浄剤組成物の微粒子に対する洗浄性の向上と高濃度状態での保存安定性の向上の観点からドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムが好ましい。

本発明の洗浄剤組成物中におけるアニオン性界面活性剤（成分Ｂ）の含有量は、洗浄剤組成物の微粒子に対する洗浄性の向上と高濃度状態での保存安定性の向上の観点から、水以外の成分の含有量の合計を１００重量％とすると、好ましくは２〜３０重量％であり、より好ましくは２〜２０重量％であり、さらに好ましくは２〜１０重量％である。

［水］
本発明の洗浄剤組成物に含まれる水（成分Ｃ）は、溶媒としての役割を果たすことができるものであれば特に制限はなく、例えば、超純水、純水、イオン交換水、又は蒸留水等を挙げることができるが、超純水、純水、又はイオン交換水が好ましく、超純水がより好ましい。尚、純水及び超純水は、例えば、水道水を活性炭に通し、イオン交換処理し、さらに蒸留したものを、必要に応じて所定の紫外線殺菌灯を照射、又はフィルターに通すことにより得ることができる。例えば、２５℃での電気伝導率は、多くの場合、純水で１μＳ／ｃｍ以下であり、超純水で０．１μＳ／ｃｍ以下を示す。尚、本発明の洗浄剤組成物は、溶媒として前記水に加えて水溶性の有機溶媒（例えば、エタノール等のアルコール）をさらに含んでいてもよいが、本発明の洗浄剤組成物に含まれる溶媒は水のみからなると好ましい。

［テトラメチル-6-ドデシン-5,8-ジオール］
本発明の洗浄剤組成物には、洗浄剤組成物の消泡性の向上の観点から、テトラメチル-6-ドデシン-5,8-ジオール（成分Ｄ）が含まれる。

本発明の洗浄剤組成物に含まれるテトラメチル-6-ドデシン-5,8-ジオール（成分Ｄ）の含有量は、洗浄剤組成物の消泡性の向上と高濃度状態での保存安定性の向上の観点から、水以外の成分の含有量の合計を１００重量％とすると、好ましくは０．１〜１０重量％であり、より好ましくは０．５〜５重量％であり、さらに好ましくは１〜３重量％である。

［ポリオキシアルキレンアルキルエーテル］
本発明の洗浄剤組成物には、洗浄剤組成物の消泡性の向上と高濃度状態での保存安定性の向上の観点から、一般式（２）で示されるポリオキシアルキレンアルキルエーテル（成分Ｅ）が含まれる。
Ｒ²−Ｏ−（ＡＯ）_n−Ｈ （２）

洗浄剤組成物の消泡性の向上と高濃度状態での保存安定性の向上の観点から、一般式（２）中、Ｒ²は炭素数３〜８の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、ＡＯは、オキシエチレン基（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）およびオキシプロピレン基（ＣＨ₂（ＣＨ₃）ＣＨＯ）からなる群から選ばれる少なくとも１種のオキシアルキレン基であり、ｎは、オキシアルキレン
基の平均付加モル数で、１〜２０の数である。洗浄剤組成物の消泡性の向上の観点からは、ｎは、１〜１８が好ましく、２〜１２がより好ましく、一方、洗浄剤組成物の保存安定性の向上の観点からは、ｎは、１〜１８が好ましく、２〜１８がより好ましい。すなわち、洗浄剤組成物の消泡性の向上と高濃度状態での保存安定性の向上の両立の観点から、ｎは、２〜１２が好ましい。

成分Ｅとしては、具体的には、ポリオキシエチレンプロピルエーテル、ポリオキシエチレンブチルエーテル、ポリオキシエチレンヘキシルエーテル、ポリオキシエチレン-2-エチルヘキシルエーテル、ポリオキシプロピレンプロピルエーテル、ポリオキシプロピレンブチルエーテル、ポリオキシプロピレンヘキシルエーテル、ポリオキシプロピレン-2-エチルヘキシルエーテルが挙げられ、洗浄剤組成物の消泡性の向上と高濃度状態での保存安定性の向上の観点から、ポリオキシエチレン-2-エチルヘキシルエーテル、ポリオキシプロピレンプロピルエーテルが好ましい。これらの化合物は、単独で又は２種以上を混合して用いてもよい。

本発明の洗浄剤組成物に含まれる前記一般式（２）で示されるポリオキシアルキレンアルキルエーテル（成分Ｅ）の含有量は、洗浄剤組成物の消泡性の向上と高濃度状態での保存安定性の向上の観点から、水以外の成分の含有量の合計を１００重量％とすると、好ましくは０．１〜２０重量％であり、より好ましくは０．５〜１０重量％であり、さらに好ましくは１〜１０重量％、より好ましくは１〜８重量％である。

［非イオン性界面活性剤］
本発明の洗浄剤組成物には、洗浄剤組成物の洗浄性の向上および高濃度状態での保存安定性の向上の観点から、前記ポリオキシアルキレンアルキルエーテル（成分Ｅ）以外の非イオン性界面活性剤（成分Ｆ）が含まれる。本発明の洗浄剤組成物に含まれる、非イオン性界面活性剤（成分Ｆ）としては、例えば、下記の一般式（３）で表される非イオン性界面活性剤が、洗浄剤組成物の洗浄性の向上および高濃度状態での保存安定性の向上の観点から好ましい。
Ｒ³−Ｏ−（ＥＯ）_m（ＰＯ）_p−Ｈ （３）

前記一般式（３）中、Ｒ³は炭素数１０〜１８のアルキル基、炭素数１０〜１８のアルケニル基、炭素数１０〜１８のアシル基、又は炭素数１４〜１８のアルキルフェニル基である。ＥＯはオキシエチレン基、ＰＯはオキシプロピレン基である。ｍ及びｐは、それぞれＥＯ及びＰＯの平均付加モル数である。ｍは１〜２０の数、ｐは０〜２０の数を表す。

Ｒ³は、洗浄剤組成物による洗浄性をより向上させる観点から、炭素数１０〜１４のアルキル基、炭素数１０〜１４のアルケニル基、炭素数１０〜１４のアシル基、又は炭素数１４〜１６のアルキルフェニル基であるとより好ましく、洗浄剤組成物の洗浄性の向上と高濃度状態での高い保存安定性とを両立させる観点から、炭素数１２〜１４のアルキル基がより好ましい。

（ＥＯ）_m（ＰＯ）_pは、オキシエチレン基単独で構成されていてもよいが、オキシエチレン基とオキシプロピレン基とから構成されていてもよい。（ＥＯ）_m（ＰＯ）_pが、オキシエチレン基とオキシプロピレン基とから構成される場合、ＥＯとＰＯの配列はブロックでもランダムでもよい。ＥＯとＰＯの配列がブロックである場合、ＥＯ及びＰＯのブロックを構成するＥＯ及びＰＯの数は、各平均付加モル数が前記範囲内にある限り、各ブロックの数はそれぞれ１個であってもよいが２個以上であってもよい。また、ＥＯからなるブロックの数が２個以上である場合、各ブロック中のＥＯの数は、相互に同じであってもよいが、異なっていてもよい。ＰＯのブロックの数が２個以上である場合も、各ブロック中のＰＯの数は、相互に同じであってもよいが、異なっていてもよい。

ＥＯとＰＯの配列がブロック又はランダムである場合、ＥＯとＰＯとのモル比〔Ｍ_EO／Ｍ_PO〕が９．５／０．５〜５／５であると、油分の高い溶解性と高い水溶性とを両立させることができる点で好ましい。また、ｍは、洗浄剤組成物の水溶性、低泡性及び消泡性の両立の観点から、好ましくは１〜１５、より好ましくは１〜１０である。ｐは、洗浄剤組成物の水溶性、低泡性及び消泡性の両立の観点から、好ましくは１〜１５、より好ましくは１〜１０であり、ｍ＋ｐは、好ましくは１〜３０、より好ましくは１〜２０である。

一般式（３）で示される化合物としては、具体的には、デカノール、イソデシルアルコール、トリデシルアルコール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、ステアリルアルコール、オレイルアルコール等のアルコール類；オクチルフェノール、ノニルフェノール、ドデシルフェノール等のフェノール類；これらの化合物に、オキシエチレン基及び／又はオキシプロピレン基が付加された化合物等が挙げられる。一般式（３）で示される化合物は、単独で用いても良く、二種以上を混合して用いても良い。

本発明の洗浄剤組成物中における前記非イオン性界面活性剤（成分Ｆ）の含有量は、洗浄剤組成物の有機系汚れに対する洗浄性向上と高濃度状態での保存安定性向上の観点から、水以外の成分の含有量の合計を１００重量％とすると、好ましくは１〜３０重量％であり、より好ましくは３〜３０重量％であり、さらに好ましくは５〜２５重量％である。

［可溶化剤］
本発明の洗浄剤組成物には、洗浄剤組成物の高濃度状態での保存安定性向上の観点から、p-トルエンスルホン酸、ジメチルベンゼンスルホン酸、2-エチルヘキサン酸、およびこれらの塩からなる群より選ばれる１種以上の可溶化剤（成分Ｇ）が含まれる。

本発明の洗浄剤組成物中における成分Ｇの含有量は、洗浄剤組成物の高濃度状態での保存安定性向上の観点から、水以外の成分の含有量の合計を１００重量％とすると、好ましくは１〜６０重量％であり、より好ましくは３〜５０重量％であり、さらに好ましくは５〜５０重量％であり、さらにより好ましくは１０〜５０重量％である。

前記成分Ｂの含有量と前記成分Ｄおよび前記成分Ｅの含有量の総和との比[成分Ｂ（重量％）／〔成分Ｄ（重量％）＋成分Ｅ（重量％）〕]は、消泡性の向上と、洗浄性の向上、および、高濃度状態における洗浄剤組成物の保存安定性の向上の観点から、３／１〜１／３であるが、同様の観点から、好ましくは１．５／１〜１／１．５である。前記の含有量比にすることで、洗浄剤組成物の高い洗浄性と高い消泡性と高濃度状態での保存安定性の向上とが可能となり、本発明の効果が達成される。

前記成分Ｆの含有量と前記成分Ｄおよび前記成分Ｅの含有量の総和との比[成分Ｆ（重量％）／〔成分Ｄ（重量％）＋成分Ｅ（重量％）〕]は、洗浄剤組成物の高い消泡性の向上と高濃度状態における洗浄剤組成物の保存安定性の向上の観点から、５／１〜１／２であが、同様の観点から、好ましくは２／１〜１．５／１である。前記の含有量比にすることで、洗浄剤組成物の高い消泡性と高濃度状態での保存安定性の向上とが可能となり、本発明の効果が達成される。

すなわち、洗浄剤組成物の高い洗浄性と高い消泡性と高濃度状態での保存安定性の向上を両立する観点から、前記成分Ｂの含有量と前記成分Ｄおよび前記成分Ｅの含有量の総和との比[成分Ｂ（重量％）／〔成分Ｄ（重量％）＋成分Ｅ（重量％）〕]及び、前記成分Ｆの含有量と前記成分Ｄおよび前記成分Ｅの含有量の総和との比[成分Ｆ（重量％）／〔成分Ｄ（重量％）＋成分Ｅ（重量％）〕]は、それぞれ、１．５／１〜１／１．５、２／１〜１．５／１が好ましい。

本発明の洗浄剤組成物の２５℃におけるｐＨは、ガラス表面を損傷させない限りその上限について特に制限がないが、無機微粒子の分散性を向上させる観点から、好ましくは１２〜１４であり、より好ましくは１３〜１４である。尚、前記のｐＨは、ｐＨメータ（東亜電波工業社製、ＨＭ−３０Ｇ）を用いて測定でき、電極の洗浄剤組成物への浸漬後４０分後の数値である。

＜任意成分＞
本発明の洗浄剤組成物には、成分Ａ〜Ｇ以外に、水溶性高分子（成分Ｈ）、キレート剤（成分Ｉ）、防腐剤、酸化防止剤等が含まれていてもよい。

［水溶性高分子］
本発明の洗浄剤組成物には、無機微粒子の分散性を向上させる観点から、水溶性高分子（成分Ｈ）が含まれていてもよく、水溶性高分子としては、カルボン酸系重合体が好ましい。

カルボン酸系重合体としては、アクリル酸重合体、メタクリル酸重合体、マレイン酸重合体、アクリル酸/メタクリル酸の共重合体、アクリル酸/マレイン酸の共重合体、メタクリル酸/メタクリル酸ジメチルアミノエステルの共重合体、メタクリル酸/アクリル酸メチルエステルの共重合体等が挙げられるが、アクリル酸と２-アクリルアミド-２-メチルプロパンスルホン酸のモル比が９１／９〜９５／５である共重合体が好ましい。

水溶性高分子の重量平均分子量は、凝集性の発現により微粒子除去性が低下するのを防ぎ、高い微粒子除去性を得る観点から、５００〜１５０，０００が好ましく、１０００〜１００，０００がより好ましく、１０００〜５０，０００がさらに好ましい。水溶性高分子の重量平均分子量は、例えば、下記条件のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって求めることができる。

（ＧＰＣ条件）
カラム：Ｇ4000ＰＷＸＬ+Ｇ2500ＰＷＸＬ（東ソ−社製）
溶離液：０．２Ｍリン酸バッファ−／ＣＨ₃ＣＮ＝９／１（容量比）
流量：１．０ｍＬ／ｍｉｎ
カラム温度：４０℃
検出：ＲＩ
サンプルサイズ：０．２ｍｇ／ｍＬ
標準物質：ポリエチレングリコール

水溶性高分子は前記重合体の塩であってもよい。かかる塩としては、特に限定されないが、具体的にはナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、アンモニア、アルキルアミン又はポリアルキルポリアミンにエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド等が付加されたモノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、メチルエタノールアミン、モノプロパノールアミン、ジプロパノールアミン、トリプロパノールアミン、メチルプロパノールアミン、モノブタノールアミン、アミノエチルエタノールアミン等のアミノアルコール類；テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、コリン等の四級アンモニウム塩等が挙げられる。

本発明の洗浄剤組成物中における水溶性高分子（成分Ｈ）の含有量は、洗浄剤組成物の微粒子の分散性向上とすすぎ性向上の観点から、水以外の成分の含有量の合計を１００重量％とすると、好ましくは１〜１０重量％であり、より好ましくは１．５〜５重量％である。

［キレート剤］
本発明の洗浄剤組成物には、洗浄剤組成物の金属系汚れに対する洗浄性の向上と高濃度状態での保存安定性の向上の観点から、キレート剤（成分Ｉ）が含まれていてもよい。キレート剤（成分Ｉ）としては、グルコン酸、グルコヘプトン酸などのアルドン酸類；エチレンジアミン四酢酸などのアミノカルボン酸類；クエン酸、リンゴ酸などのヒドロキシカルボン酸類；アミノトリメチレンホスホン酸、ヒドロキシエチリデンジホスホン酸などのホスホン酸類；及びこれらのアルカリ金属塩、低級アミン塩、アンモニウム塩、アルカノールアミン塩が挙げられる。中でも金属系汚れに対する洗浄剤組成物の洗浄性の向上と高濃度状態での保存安定性の向上の観点から、グルコン酸ナトリウム、ヒドロキシエチリデンジホスホン酸ナトリウム、アミノトリメチレンホスホン酸エチレンジアミン四酢酸４ナトリウムが好ましい。これらのキレート剤は、単独で又は２種以上を混合して用いてもよい。

本発明の洗浄剤組成物中におけるキレート剤の含有量は、洗浄剤組成物の金属系汚れに対する洗浄性の向上と高濃度状態での保存安定性の向上の観点から、水以外の成分の含有量の合計を１００重量％とすると、好ましくは２〜３５重量％であり、より好ましくは３０〜２０重量％であり、さらに好ましくは３〜１０重量％である。

本発明の洗浄剤組成物に含まれる水以外の成分の含有量は、洗浄剤組成物のコスト低減や洗浄剤組成物の保存安定性向上について大きな効果が発現される濃縮度である事と保存安定性向上との両立の観点から、水の含有量と水以外の成分の含有量の合計を１００重量％とすると、好ましくは１０〜６０重量％であり、より好ましくは１０〜４０重量％であり、さらに好ましくは１５〜３０重量％である。

本発明の洗浄剤組成物は、希釈して用いられる。希釈倍率は、洗浄効率を考慮すると、好ましくは１０〜５００倍、より好ましくは２０〜２００倍、更に好ましくは５０〜１００倍である。希釈用の水は、前記記載の成分Ｃと同様のものでよい。

（ガラス表面の洗浄方法、ハードディスクの製造方法）
本発明のガラス表面の洗浄方法では、例えば、ガラス表面を有し当該ガラス表面に対して研磨剤組成物を用いた研磨が施された被洗浄基板を、本発明の洗浄剤組成物の希釈液を洗浄剤組成物として用いて洗浄する洗浄工程を含む。前記洗浄工程では、例えば、（ａ）被洗浄基板を洗浄剤組成物に浸漬するか、及び／又は、（ｂ）洗浄剤組成物を射出して、被洗浄基板の表面上に洗浄剤組成物が供給される。

前記方法（ａ）において、被洗浄基板の洗浄剤組成物への浸漬条件としては、特に制限はないが、例えば、洗浄剤組成物の温度は、洗浄剤組成物の洗浄性、安全性及び操業性の観点から２０〜１００℃であると好ましく、浸漬時間は、洗浄剤組成物による洗浄性と生産効率の観点から１０秒〜３０分間であると好ましい。また、微粒子の除去性及び微粒子の分散性を高める観点から、洗浄剤組成物には超音波振動が付与されていると好ましい。超音波の周波数としては、好ましくは２０〜２０００ｋＨｚであり、より好ましくは４０〜２０００ｋＨｚであり、さらに好ましくは４０〜１５００ｋＨｚである。

前記方法（ｂ）では、微粒子の洗浄性や油分の溶解性を促進させる観点から、超音波振動が与えられている洗浄剤組成物を射出して、被洗浄基板の表面に洗浄剤組成物を接触させて当該表面を洗浄するか、又は、洗浄剤組成物を被洗浄基板の表面上に射出により供給し、洗浄剤組成物が供給された当該表面を洗浄用ブラシでこすることにより洗浄することが好ましい。さらには、超音波振動が与えられている洗浄剤組成物を射出により洗浄対象の表面に供給し、かつ、洗浄剤組成物が供給された当該表面を洗浄用ブラシでこすることにより洗浄することが好ましい。

洗浄剤組成物を被洗浄基板の表面上に供給する手段としては、スプレ−ノズル等の公知の手段を用いることができる。また、洗浄用ブラシとしては、特に制限はなく、例えばナイロンブラシやＰＶＡ（ポリビニルアルコール）スポンジブラシ等の公知のものを使用することができる。超音波の周波数としては、前記方法（ａ）で好ましく採用される値と同様であればよい。

本発明のガラス表面の洗浄方法は、前記方法（ａ）及び／又は前記方法（ｂ）に加えて、揺動洗浄、スピンナー等の回転を利用した洗浄、パドル洗浄等の公知の洗浄を用いる工程を１つ以上含んでもよい。

本発明のガラス表面の洗浄方法が好適に適用される被洗浄基板としては、例えば、アルミノシリケートガラスまたは結晶化ガラスを含むガラス基板、アルミノシリケートガラスまたは結晶化ガラスからなるガラス基板である。これらのガラス基板のヤング率やビッカース硬度に代表される硬さの指標は、一般的な食器用、家庭用ガラス製品に比べ高い。また、ハードディスク用ガラス基板は、一般的な食器用、家庭用ガラス製品に比べ、そのガラス表面の粗さが非常に低い（表面平均粗さ：３Å以下）。そのため、ハードディスク用ガラス基板は、一般的な食器用、家庭用ガラス製品等と比較すると、例えば、無機微粒子等との接触面積が大きく、ゆえに、無機微粒子等に対する吸着力が高く、非常に洗浄し難い表面特性を持つ。

これらのハードディスク用ガラス基板上に、スパッタ等の方法により、磁気記録領域を有し、金属薄膜を含む磁性層が形成されることによって、ハードディスクが得られる。前記金属薄膜を構成する金属材料としては、例えば、クロム、タンタル、又は白金等とコバルトとの合金である、コバルト合金等が挙げられる。尚、磁性層は、ハードディスク用ガラス基板の両主面側に形成されてもよいし、一方の主面側にのみ形成されてもよい。

ハードディスクの製造過程には、ハードディスク用ガラス基板の少なくとも一方の主面の表面平滑性を向上させるために、被研磨基板に対して少なくとも研磨処理と洗浄処理とをこの順で複数回繰り返し行うことにより、ハードディスク用ガラス基板を形成するサブストレート形成工程が含まれる。研磨処理は、例えば、無機微粒子と、この無機微粒子の分散溶媒（例えば水）とを含む研磨剤組成物を用いて行われる。

サブストレート形成工程では、粗研磨処理と仕上げ研磨処理とがこの順で行われる。仕上げ研磨処理を経た直後の被研磨基板の表面粗さＸは、粗研磨処理を経た直後の被研磨基板の表面粗さＹよりも小さく、表面粗さＸは表面粗さＹの１／２以下であると好ましく、１／３以下であるとより好ましく、１／４以下であるとさらに好ましい。

具体的には、粗研磨処理を経た直後の被研磨基板の表面粗さＹは、３．０〜５．０Åであると好ましく、２．０〜３．０Åであるとより好ましい。一方、仕上げ研磨処理を経た直後の被研磨基板の表面粗さＸは、１．５〜１．０Åであると好ましく、０．５〜１．０Åであるとより好ましい。

なお、表面粗さＸ及び表面粗さＹは、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を使用して、ハードディスク用ガラス基板の一方の主面においてランダムに３点測定し、それらを平均して得た。測定条件は下記のとおりとした。
原子間力顕微鏡：Veeco製 Nanoscope-IIIa
カンチレバー：NCHV-10
測定エリア：10μm×10μm
走査回数：256

一般に研磨処理に用いられる研磨剤組成物に含まれる無機微粒子としては、アルミナ粒子、シリカ粒子、酸化セリウム粒子、酸化セリウムと酸化ジルコニウムとを用いて形成される複合酸化物粒子等が挙げられるが、前記粗研磨処理の際に用いられる研磨剤組成物に含まれる無機微粒子は、高速研磨が可能であるという理由から、酸化セリウム粒子が好ましい。前記仕上げ研磨処理の際に用いられる研磨剤組成物に含まれる無機微粒子は、表面の平坦性（低粗さ）を向上させるという理由から、シリカ粒子が好ましい。

研磨処理を経た被研磨基板の主面には、研磨剤組成物由来の汚れ（無機微粒子、有機物など）や装置などの設備由来の金属イオンなどが付着している。本発明の洗浄剤組成物の希釈液は、前記複数回行われる洗浄処理のうちの最後の洗浄処理を行う際に、用いられると好ましい。

本発明のハードディスクの製造方法を構成するサブストレート形成工程の一例では、粗研磨処理の後、本発明の洗浄剤組成物の希釈液を用いた洗浄処理（第１洗浄処理）、すすぎ処理（第１すすぎ処理）、乾燥処理（第１乾燥処理）、仕上げ研磨処理、本発明の洗浄剤組成物の希釈液を用いた洗浄処理（第２洗浄処理）、すすぎ処理（第２すすぎ処理）、及び乾燥処理（第２乾燥処理）がこの順で行われる。この場合、粗研磨処理後、第１すすぎ処理の前に行われる洗浄処理が１回ですみ、好ましい。前記サブストレート形成工程では、粗研磨処理の後、第１洗浄処理の前に、酸化セリウムの溶解性が高い酸性の洗浄剤組成物を用いた洗浄処理、及び、すすぎ処理を行ってもよい。この場合、ガラス表面に化学吸着しやすい酸化セリウム粒子の除去性が向上するので好ましい。

本発明のガラス表面の洗浄方法では、被洗浄基板を一枚ずつ洗浄してもよいが、複数枚の洗浄すべき被洗浄基板を一度にまとめて洗浄してもよい。また、洗浄の際に用いる洗浄槽の数は１つでも複数でも良い。

１．洗浄剤組成物の調製
表１および表２に記載の組成となるように各成分を重量％で配合し、混合することにより、実施例及び比較例の洗浄剤組成物を得た。尚、表中のＫＯＨ、ＮａＯＨには、市販の水溶液（濃度：４８重量％）を用いた。

２．曇点の測定方法
曇点（℃）とは、非イオン性界面活性剤を含む水溶液の温度を上げていったとき、前記水溶液が白濁し始める温度のことである。水溶液の温度が上昇して水分子の運動が活発になると、界面活性剤の親水基部分と水分子との水素結合が切れて、界面活性剤は溶解性を失い、前記水溶液は白濁する。

表１および表２に示された実施例および比較例の洗浄剤組成物の曇点は、下記のようにして得た。
（１）まず、３０ｃｍ³の試験管に洗浄剤組成物を１０ｃｍ³入れる。
（２）温浴槽に試験管を入れ、ガラス棒状の温度計を用いて手動での洗浄剤組成物を攪拌しながら、洗浄剤組成物の温度を１℃／５秒の速度で上げる。
（３）攪拌しても濁る状態になったところでの洗浄剤組成物の温度を読み取る。
（４）試験管を温浴槽から取り出し、２５℃の雰囲気下で、攪拌棒で洗浄剤組成物を攪拌しながら温度を徐々に下げる。
（５）洗浄剤組成物が透明になった温度を読み取る。
（６）前記（２）〜（５）を２回繰り返し、（３）で読み取った温度の平均値を曇点とした。

３．消泡性の試験方法
本発明の洗浄剤組成物の消泡性は下記のようにして評価した。
（１）まず、洗浄剤組成物を超純水にて１００倍に希釈する。
（２）５００ｃｍ³のメスシリンダーに、（１）で調整した洗浄剤組成物を１００ｃｍ³入れる。
（３）メスシリンダー上部に分液ロートをセットする。この時、分液ロートの先端から（２）でメスシリンダー内に入れた洗浄剤組成物の水面までが２００ｍｍとなるように調整する。
（４）その分液ロートから（１）で調整した洗浄剤組成物１００ｇを、およそ２０ｇ/秒で落下させる。
（５）その時にメスシリンダー内の洗浄液組成物の液面に発生する泡の高さをメスシリンダーの目盛を用いて読み取る。
（６）２０分後に再度、泡高さを読み取る。
（７）１００ｇの洗浄剤組成物の落下直後の泡の量（ｃｍ³）から２０分後の泡の量（ｃｍ³）を引いた値を消滅した泡の量（ｃｍ³）とし、この値から下記の基準に則り、消泡性を判断する。数値が大きいほど消泡性に優れることを示す。
消泡性＝落下直後の泡の量（ｃｍ³）−２０分後の泡の量（ｃｍ³）

＜評価基準＞
Ａ：３０ｃｍ³以上
Ｂ：２５〜２９ｃｍ³
Ｃ：２１〜２４ｃｍ³
Ｄ：２０ｃｍ³以下

４．ガラスＨＤ基板の洗浄性試験方法
下記組成の研磨液スラリー（研磨剤組成物）を用いた研磨を施すことにより、研磨液スラリー由来の砥粒や有機系汚れ及び基板材料由来の研磨屑等によって汚染された被洗浄基板を用意した。前記被洗浄基板を用いて洗浄剤組成物の希釈液の洗浄性を評価した。

（研磨条件）
研磨機：両面９Ｂ研磨機(浜井産業社製)
研磨パッド：FILWEL社製仕上げ研磨用スウェードパッド
研磨剤組成物：コロイダルシリカスラリ−（個数平均粒径24nm、8％；花王社製）
予備研磨：荷重 40g/cm²、時間 60秒、研磨液流量 100mL/min
本研磨:荷重 100g/cm²、時間 1200秒、研磨液流量 100mL/min
水リンス:荷重 40g/cm²、時間 60秒、リンス水流量 約2L/min
被洗浄基板：ガラスＨＤ基板（外径：65mmφ、内径：20mmφ、厚さ：0.635mm）

（洗浄）
汚染された被洗浄基板を、洗浄装置にて以下の条件で洗浄した。
（１）洗浄−１：超純水で表中の希釈倍率に調整した洗浄剤組成物を入れた樹脂槽に被洗浄基板を浸漬（４０℃）し、超音波を照射しながら１２０秒間洗浄する。
（２）すすぎ−１：超純水を入れた樹脂槽（４０℃）に被洗浄基板を移し、超音波を照射しながら１２０秒間すすぎを行う。
（３）再度（１）と（２）を繰り返す。
（４）洗浄−２：樹脂槽内から被洗浄基板を、洗浄ブラシがセットされたスクラブ洗浄ユニットに移し、洗浄ブラシに常温の洗浄剤組成物を射出し、該洗浄剤組成物の存在下で洗浄ブラシを該基板の両面に４００ｒｐｍで回転させながら押し当てることにより、洗浄を２５℃で５秒間行う。洗浄剤組成物には、「（１）洗浄−１」で用いた洗浄剤組成物と同組成のものを用いる。
（５）すすぎ−２：次のスクラブ洗浄ユニットに被洗浄基板を移し、常温の超純水を射出し、洗浄ブラシを該基板の両面に４００ｒｐｍで回転させながら押し当てることにより、すすぎを５秒間行う。
（６）再度（４）と（５）を繰り返す。
（７）すすぎ−３:超純水を入れた樹脂槽に移し、１０秒間４０℃ですすぎを行う。
（８）乾燥：温純水を入れた樹脂槽に移し、６０秒間浸漬した後、２５０ｍｍ／ｍｉｎの速度で被洗浄基板を引き上げ、６０℃下で４２０秒間放置し、完全に基板表面を乾燥させる。

（洗浄性評価）
１００００ｒｐｍで回転している洗浄された基板に、光学式微細欠陥検査装置（Ｃａｎｄｅｌａ６１００、ＫＬＡ Ｔｅｎｃｏｒ社製）のＭＯＤＥ Ｑ−Scatterでレーザーを照射して、欠陥数（基板上の異物数）の測定を実施した。測定は、各実施例、比較例の洗浄剤組成物について１０枚ずつの基板について行い平均を取り、比較例１の場合の欠陥数を１００としたときの相対値で評価した。結果を表１、２に示す。

表１に示されるように、実施例１〜１１の洗浄剤組成物の希釈液を用いた洗浄では、洗浄剤組成物が成分Ａ〜成分Ｇを含み、含有量比（成分Ｂ／成分Ｄ＋成分Ｅ）が３／１〜１／３であり、および、含有量比（成分Ｆ／成分Ｄ＋成分Ｅ）が５／１〜１／２であることにより、高い洗浄性と高い消泡性とが両立されている。また、曇点が比較的高いことから、実施例１〜１１の洗浄剤組成物は、保存安定性がよい。

表１および表２中の各成分の詳細は下記のとおりである。
ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム（花王社製、ネオペレックスＧ−１５（16重量％水溶液））
テトラメチルー6-ドデシン-5,8-ジオール（日信化学工業社製、サーフィノールＤＦ１１０Ｄ）
アセチレンジオールEO付加物（日信化学工業社製、サーフィノール４２０）
ＡＡ/ＡＭＰＳ共重合物（40重量％水溶液）
（アクリル酸と2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸の共重合体ナトリウム塩、東亞合成社製、商品名アロンＡ−６０１７、重量平均分子量６０００、ＡＡ/ＡＭＰＳの重量比８０：２０）

本発明の洗浄剤組成物を希釈し、当該希釈液を使用することにより、ハードディスク用ガラス基板について高度に清浄化されたガラス表面を得ることができる。よって、本発明は、製品の歩留まり向上に寄与し得る。

Claims (6)

1. アルカリ剤（成分Ａ）と、
   下記一般式（１）で示される化合物およびその塩から選ばれる少なくとも１種のアニオン性界面活性剤(成分Ｂ)と
   水（成分Ｃ）と、
   テトラメチル-6-ドデシン-5,8-ジオール（成分Ｄ）と、
   下記一般式（２）で示されるポリオキシアルキレンアルキルエーテル（成分Ｅ）と、
   前記ポリオキシアルキレンアルキルエーテル（成分Ｅ）以外の非イオン界面活性剤（成分Ｆ）と、
   p-トルエンスルホン酸、ジメチルベンゼンスルホン酸、2-エチルヘキサン酸、およびこれらの塩からなる群より選ばれる１種以上の可溶化剤（成分Ｇ）とを含有してなり、
   含有量比[成分Ｂ（重量％）／〔成分Ｄ（重量％）＋成分Ｅ（重量％）〕]が３／１〜１／３であり、
   含有量比[成分Ｆ（重量％）／〔成分Ｄ（重量％）＋成分Ｅ（重量％）〕]が５／１〜１／２である、硬質表面用アルカリ洗浄剤組成物。
   

   

   ただし、一般式（１）中、Ｒ¹は炭素数８〜１８の直鎖又は分岐鎖のアルキル基である。
   Ｒ²−Ｏ−（ＡＯ）_n−Ｈ （２）
   ただし、一般式（２）中、Ｒ²は炭素数３〜８の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、ＡＯは、オキシエチレン基（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）およびオキシプロピレン基（ＣＨ₂（ＣＨ₃）ＣＨＯ）からなる群から選ばれる少なくとも１種のオキシアルキレン基であり、ｎは、平均付加モル数で、１〜２０の数である。
2. 前記水（成分Ｃ）以外の成分の合計含有量が１０〜６０重量％である、請求項１に記載の硬質表面用アルカリ洗浄剤組成物。
3. 水溶性高分子（成分Ｈ）をさらに含む請求項１又は２に記載の硬質表面用アルカリ洗浄剤組成物。
4. キレート剤（成分Ｉ）をさらに含む請求項１〜３のいずれかの項に記載の硬質表面用アルカリ洗浄剤組成物。
5. ハードディスク基板の洗浄に用いられる、請求項１〜４いずれかの項に記載の硬質表面用アルカリ洗浄剤組成物。
6. 請求項２に記載の硬質表面用アルカリ洗浄剤組成物を１０〜５００倍に希釈して得た希釈液で、ガラス表面を有する被洗浄基板を洗浄する洗浄工程を含む、ガラス表面の洗浄方法。