JP2011167607A - Apparatus for cleaning slit nozzle and coating apparatus - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To efficiently clean a peripheral part of a discharge port of a slit nozzle within a short time. <P>SOLUTION: A slit nozzle cleaning part 52 has a carriage 64 which moves in a cleaning scanning direction (Y-direction) horizontal in parallel to the longitudinal direction of a slit nozzle along a peripheral part of a discharge port of a slit nozzle 32. The slit nozzle cleaning part 52 has a first cleaning unit 70 and successively a first wiper unit 72, a second cleaning unit 74, a second wiper unit 76, and a drying unit 78 arranged in a row in this order in the carriage 64. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、スピンレス方式の塗布装置に係わり、特にスピンレス法の塗布処理に用いるスリットノズルの吐出口周辺部を洗浄するためのスリットノズル洗浄装置に関する。   The present invention relates to a spinless coating apparatus, and more particularly, to a slit nozzle cleaning apparatus for cleaning a peripheral portion of a discharge nozzle nozzle used in a spinless coating process.

ＬＣＤ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）の製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程には、ガラス基板等の被処理基板に対してスリット形状の吐出口を有する長尺型のスリットノズルを相対的に移動させて、基板上に処理液または薬液等の塗布液たとえばレジスト液を塗布するスピンレスの塗布法がよく用いられている。   In a photolithography process in a manufacturing process of a flat panel display (FPD) such as an LCD, a long slit nozzle having a slit-shaped discharge port is moved relative to a target substrate such as a glass substrate, A spinless coating method in which a coating solution such as a processing solution or a chemical solution such as a resist solution is applied on a substrate is often used.

典型的なスピンレス塗布法においては、ステージ上に固定して載置される基板に対してスリットノズルよりレジスト液を帯状に吐出させながら、スリットノズルをノズル長手方向と直交する水平な一方向に移動させる。そうすると、スリットノズルの吐出口から基板上に溢れたレジスト液がノズル後方に平坦に延びて、基板一面にレジスト塗布膜が形成される（たとえば特許文献１）。   In a typical spinless coating method, the slit nozzle is moved in one horizontal direction perpendicular to the longitudinal direction of the nozzle while the resist solution is ejected from the slit nozzle onto the substrate fixedly placed on the stage. Let If it does so, the resist liquid which overflowed on the board | substrate from the discharge port of the slit nozzle will extend flat back of a nozzle, and a resist coating film will be formed in the one surface of a board | substrate (for example, patent document 1).

別の代表的なスピンレス塗布法として、ステージ上で基板を空中に浮かせたまま水平な一方向（ステージ長手方向）に搬送する浮上搬送方式も多く用いられている。この方式では、浮上ステージの上方に設置された長尺型のスリットノズルがその直下を通過する基板に向けてレジスト液を帯状に吐出することにより、基板搬送方向において基板の前端部から後端部に向かって基板上一面にレジスト塗布膜が形成される（たとえば特許文献２）。   As another typical spinless coating method, a levitation transport method is often used in which a substrate is transported in a horizontal direction (stage longitudinal direction) while being floated on the stage. In this method, a long slit nozzle installed above the levitation stage discharges a resist solution in a strip shape toward the substrate passing directly below it, so that the substrate from the front end to the rear end in the substrate transport direction. A resist coating film is formed on the entire surface of the substrate (for example, Patent Document 2).

一般に、スリットノズルにおいては、吐出動作を止めた際に、吐出口付近にレジスト液が付着または残留しやすく、これがそのまま放置されて乾燥凝固すると、次回の塗布処理の際にレジスト吐出流を妨げたり、または乱して、レジスト膜厚の変動を招くおそれがある。そこで、塗布処理部に隣接して設置されるノズル待機部に、次回の塗布処理に備えてスリットノズルの吐出口周辺部を洗浄するためのスリットノズル洗浄装置が設けられる（たとえば特許文献３）。   Generally, in the slit nozzle, when the discharge operation is stopped, the resist solution tends to adhere or remain near the discharge port. If this is left as it is and dried and solidified, the resist discharge flow may be hindered during the next coating process. Or, there is a possibility that the resist film thickness varies due to disturbance. Therefore, a slit nozzle cleaning device for cleaning the peripheral portion of the discharge port of the slit nozzle in preparation for the next coating process is provided in the nozzle standby section installed adjacent to the coating processing section (for example, Patent Document 3).

従来のスリットノズル洗浄装置は、ノズル待機部内の所定位置に位置決めされるスリットノズルの下をノズル長手方向に走査移動するノズル洗浄ヘッドまたはキャリッジを備え、このキャリッジには、スリットノズルの吐出口周辺部に向けて洗浄液（たとえばシンナー液）および乾燥用ガス（たとえばＮ2ガス）をそれぞれ噴き付ける洗浄ノズルおよび乾燥ノズルを搭載している。キャリッジがスリットノズルの吐出口周辺部に沿ってノズル長手方向に走査移動しながら、スリットノズルの吐出口周辺部の各部に向けて、最初に洗浄ノズルが洗浄液を吹き掛け、次いで乾燥ノズルが乾燥用ガスを吹き掛けるようになっている。 A conventional slit nozzle cleaning device includes a nozzle cleaning head or a carriage that scans and moves in the longitudinal direction of a nozzle below a slit nozzle positioned at a predetermined position in a nozzle standby unit. A cleaning nozzle and a drying nozzle for spraying a cleaning liquid (for example, thinner liquid) and a drying gas (for example, N 2 gas) respectively are mounted. While the carriage scans and moves in the longitudinal direction of the nozzle along the periphery of the discharge port of the slit nozzle, the cleaning nozzle first sprays the cleaning liquid toward each part of the periphery of the discharge port of the slit nozzle, and then the drying nozzle is used for drying. Gas is sprayed.

特開平１０−１５６２５５号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-156255 特開２００５−２３６０９２号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2005-236092 特開２００７−１１１６１２号公報JP 2007-111612 A

上記のような従来のスリットノズル洗浄装置は、１回の洗浄走査によってスリットノズルの吐出口周辺部を十全に清掃するのが難しく、このため洗浄走査（キャリッジの走査移動）を複数回繰り返しており、ノズル洗浄処理のタクト時間が長いことと、洗浄液消費量の多いことが問題となっている。   In the conventional slit nozzle cleaning apparatus as described above, it is difficult to thoroughly clean the periphery of the discharge port of the slit nozzle by one cleaning scan, and therefore the cleaning scan (carriage scanning movement) is repeated a plurality of times. The problem is that the takt time of the nozzle cleaning process is long and the consumption of the cleaning liquid is large.

本発明は、上記のような従来技術の問題点を解決するものであり、洗浄効率および洗浄能力を向上させ、洗浄タクト時間の短縮化および洗浄液消費量の節減を実現するスリットノズル洗浄装置およびこれを備える塗布装置を提供する。   The present invention solves the above-mentioned problems of the prior art, and improves the cleaning efficiency and the cleaning ability, shortens the cleaning tact time, and reduces the consumption of cleaning liquid, and the same. A coating apparatus is provided.

本発明のスリットノズル洗浄装置は、塗布処理に用いられるスリット状の吐出口を有する長尺型スリットノズルの吐出口周辺部を洗浄するためのスリットノズル洗浄装置であって、前記スリットノズルの吐出口周辺部に沿って前記スリットノズルの長手方向と平行に水平な洗浄走査方向で移動するキャリッジと、前記キャリッジに搭載され、前記洗浄走査方向で移動しながら前記スリットノズルの吐出口周辺部に洗浄液を吹き掛ける第１の洗浄ユニットと、前記洗浄走査方向において前記洗浄ユニットの後に位置して前記キャリッジに搭載され、前記洗浄走査方向で移動しながら前記スリットノズルの吐出口周辺部に付着している液を拭い取る第１のワイパーユニットとを有する。   The slit nozzle cleaning device of the present invention is a slit nozzle cleaning device for cleaning the periphery of the discharge port of a long slit nozzle having a slit-like discharge port used for coating processing, and the discharge port of the slit nozzle A carriage that moves along a peripheral part in a horizontal cleaning scanning direction parallel to the longitudinal direction of the slit nozzle, and a cleaning liquid that is mounted on the carriage and moves in the cleaning scanning direction around the discharge port peripheral part of the slit nozzle A first cleaning unit to be sprayed, and a liquid that is mounted on the carriage and is positioned behind the cleaning unit in the cleaning scanning direction, and is attached to the discharge nozzle peripheral portion of the slit nozzle while moving in the cleaning scanning direction. And a first wiper unit for wiping off.

上記の構成においては、洗浄走査方向においてスリットノズルの各位置の吐出口周辺部に対して、先ず、第１の洗浄ユニットが洗浄液を吹き掛けることによって、当該吐出口周辺部に付着していた汚れが洗浄液に溶けて、汚れた液が吐出口周辺部に残る。この直後に、第１のワイパーユニットが、当該吐出口周辺部を通過して、そこに付いている汚れ液を拭き取る。   In the above configuration, first, the first cleaning unit sprays the cleaning liquid on the discharge port peripheral portion at each position of the slit nozzle in the cleaning scanning direction, so that the dirt attached to the discharge port peripheral portion Dissolves in the cleaning liquid, and a dirty liquid remains around the discharge port. Immediately after this, the first wiper unit passes through the periphery of the discharge port and wipes off the dirt liquid attached thereto.

本発明の塗布装置は、塗布処理中に被処理基板に対して塗布液を帯状に吐出するスリット状の吐出口を有する長尺型スリットノズルと、塗布処理中に前記スリットノズルに塗布液を供給する塗布液供給部と、前記基板を支持する基板支持部と、塗布処理中に前記スリットノズルが前記基板上で塗布走査を行うように、前記スリットノズルと前記基板との間で水平な一方向に相対的移動を行わせる塗布走査機構と、塗布処理の合間に前記スリットノズルの吐出口周辺部を洗浄するための上記スリットノズル洗浄装置とを有する。   The coating apparatus of the present invention includes a long slit nozzle having a slit-like discharge port for discharging a coating liquid in a strip shape to a substrate to be processed during the coating process, and supplying the coating liquid to the slit nozzle during the coating process. A horizontal direction between the slit nozzle and the substrate so that the slit nozzle performs coating scanning on the substrate during a coating process. An application scanning mechanism that performs relative movement, and the slit nozzle cleaning device for cleaning the peripheral portion of the discharge port of the slit nozzle between application processes.

本発明のスリットノズル洗浄装置によれば、上記のような構成および作用により、スリットノズルに関して洗浄効率を向上させ、洗浄タクト時間の短縮化および洗浄液消費量の節減を実現することができる。また、本発明の塗布装置によれば、本発明のスリットノズル清掃装置を備えることにより、スリットノズルに対する洗浄機能の洗浄能力を向上させ、塗布処理の品質、歩留まり、メンテナンスコストを改善することができる。   According to the slit nozzle cleaning device of the present invention, with the configuration and operation as described above, it is possible to improve the cleaning efficiency with respect to the slit nozzle, shorten the cleaning tact time, and reduce the consumption of cleaning liquid. In addition, according to the coating apparatus of the present invention, by providing the slit nozzle cleaning apparatus of the present invention, it is possible to improve the cleaning capability of the cleaning function for the slit nozzle, and to improve the quality, yield, and maintenance cost of the coating process. .

本発明のスリットノズル洗浄装置の適用可能なレジスト塗布装置の一構成例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows one structural example of the resist coating device which can apply the slit nozzle cleaning apparatus of this invention. 上記レジスト塗布装置におけるスリットノズルの内部構造および基板上にレジスト塗布膜が形成される様子を示す断面図である。It is sectional drawing which shows a mode that a resist coating film is formed on the internal structure of a slit nozzle in the said resist coating apparatus, and a board | substrate. 上記レジスト塗布装置におけるスリットノズルの外観構造および基板上にレジスト塗布膜が形成される様子を示す正面図である。It is a front view which shows a mode that the resist coating film is formed on the external appearance structure of a slit nozzle in the said resist coating device, and a board | substrate. 上記レジスト塗布装置に備えられるノズルリフレッシュ部の構成を示す一部断面正面図である。It is a partial cross section front view which shows the structure of the nozzle refresh part with which the said resist coating apparatus is equipped. 上記ノズルリフレッシュ部に組み込まれるスリットノズル洗浄部の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the slit nozzle washing | cleaning part integrated in the said nozzle refresh part. 洗浄走査の斜め前方から見た上記スリットノズル洗浄部を構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows a structure of the said slit nozzle washing | cleaning part seen from diagonally forward of the washing scan. 上記スリットノズル洗浄部に組み込まれるワイパーユニットの要部の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the principal part of the wiper unit integrated in the said slit nozzle washing | cleaning part. 上記スリットノズル洗浄部においてスリットノズルとの位置合わせを行う機構の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the mechanism which aligns with a slit nozzle in the said slit nozzle washing | cleaning part. 上記スリットノズル洗浄部の作用を模式的に示す側面図である。It is a side view which shows typically the effect | action of the said slit nozzle washing | cleaning part. 上記スリットノズル洗浄部の作用を模式的に示す側面図である。It is a side view which shows typically the effect | action of the said slit nozzle washing | cleaning part. 上記スリットノズル洗浄部においてキャリッジに搭載するユニットの編成の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the organization of the unit mounted in a carriage in the said slit nozzle washing | cleaning part. 上記スリットノズル洗浄部においてキャリッジに搭載するユニットの編成の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the organization of the unit mounted in a carriage in the said slit nozzle washing | cleaning part. 上記スリットノズル洗浄部においてキャリッジにワイパーユニットをワンタッチで装着する構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example which attaches a wiper unit to a carriage in the said slit nozzle washing | cleaning part by one touch. 上記スリットノズル洗浄部においてキャリッジにワイパーユニットをワンタッチで装着する別の構成例を示す図である。It is a figure which shows another structural example which attaches a wiper unit to a carriage in the said slit nozzle washing | cleaning part by one touch.

以下、添付図を参照して、本発明の好適な実施形態を説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

図１に、本発明のスリットノズル清掃装置の適用可能なレジスト塗布装置の一構成例を示す。   FIG. 1 shows a configuration example of a resist coating apparatus to which the slit nozzle cleaning apparatus of the present invention can be applied.

このレジスト塗布装置は、被処理基板たとえばＦＰＤ用のガラス基板Ｇを気体の圧力によって空中に浮かす浮上ステージ１０と、この浮上ステージ１０上で空中に浮いている基板Ｇを浮上ステージ長手方向（Ｘ方向）に搬送する基板搬送機構２０と、浮上ステージ１０上を搬送される基板Ｇの上面にレジスト液を供給するスリットノズル３２と、塗布処理の合間にスリットノズル３２をリフレッシュするノズルリフレッシュ部４２とを有している。   The resist coating apparatus includes a levitation stage 10 that floats a substrate to be processed, such as a glass substrate G for FPD, in the air by gas pressure, and a substrate G that is floating in the air on the levitation stage 10. ), A slit nozzle 32 that supplies a resist solution to the upper surface of the substrate G that is transported on the floating stage 10, and a nozzle refresh unit 42 that refreshes the slit nozzle 32 between coating processes. Have.

浮上ステージ１０の上面には所定のガス（たとえばエア）を上方に噴射する多数のガス噴射孔１２が設けられており、それらのガス噴射孔１２から噴射されるガスの圧力によって基板Ｇがステージ上面から一定の高さに浮上するように構成されている。   A number of gas injection holes 12 for injecting a predetermined gas (for example, air) upward are provided on the upper surface of the levitation stage 10, and the substrate G is placed on the upper surface of the stage by the pressure of the gas injected from the gas injection holes 12. It is configured to rise to a certain height.

基板搬送機構２０は、浮上ステージ１０を挟んでＸ方向に延びる一対のガイドレール２２Ａ，２２Ｂと、これらのガイドレール２２Ａ，２２Ｂに沿って往復移動可能な一対のスライダ２４と、浮上ステージ１０上で基板Ｇの両側端部を着脱可能に保持するようにスライダ２４に設けられた吸着パッド等の基板保持部材（図示せず）とを備えており、直進移動機構（図示せず）によりスライダ２４を搬送方向（Ｘ方向）に移動させることによって、浮上ステージ１０上で基板Ｇの浮上搬送を行うように構成されている。   The substrate transport mechanism 20 includes a pair of guide rails 22A and 22B extending in the X direction across the levitation stage 10, a pair of sliders 24 that can reciprocate along the guide rails 22A and 22B, and the levitation stage 10. A substrate holding member (not shown) such as a suction pad provided on the slider 24 so as to detachably hold both side ends of the substrate G is provided. The slider 24 is moved by a linear movement mechanism (not shown). By moving in the transport direction (X direction), the substrate G is floated and transported on the floating stage 10.

レジストノズル３２は、浮上ステージ１０の上方を搬送方向（Ｘ方向）と直交する水平方向（Ｙ方向）に横断し、その直下を通過する基板Ｇの上面（被処理面）に対してスリット状の吐出口よりレジスト液Ｒを帯状に吐出するようになっている。また、スリットノズル３２は、たとえばボールネジ機構やガイド部材等を含むノズル昇降機構２６により、このノズルを支持するノズル支持部材２８と一体に鉛直方向（Ｚ方向）に移動可能に昇降可能に構成されている。また、スリットノズル３２は、レジスト液容器や送液ポンプ等からなるレジスト供給部（図示せず）にレジスト供給管３０を介して接続されている。   The resist nozzle 32 traverses the top of the levitation stage 10 in the horizontal direction (Y direction) orthogonal to the transport direction (X direction), and is slit-shaped with respect to the upper surface (surface to be processed) of the substrate G passing immediately below the resist nozzle 32. The resist solution R is discharged in a strip shape from the discharge port. The slit nozzle 32 is configured to be movable up and down so as to be movable in the vertical direction (Z direction) integrally with a nozzle support member 28 that supports the nozzle by a nozzle lifting mechanism 26 including a ball screw mechanism, a guide member, and the like. Yes. The slit nozzle 32 is connected via a resist supply pipe 30 to a resist supply unit (not shown) including a resist solution container and a liquid feed pump.

スリットノズル３２に隣接して浮上ステージ１０の上方にノズルリフレッシュ部４２が設けられている。このノズルリフレッシュ部４２の詳細は、図４および図５を参照して後述する。   A nozzle refresh unit 42 is provided above the levitation stage 10 adjacent to the slit nozzle 32. Details of the nozzle refresh unit 42 will be described later with reference to FIGS.

ここで、このレジスト塗布装置におけるレジスト塗布動作を説明する。先ず、前段のユニットたとえば熱的処理ユニット（図示せず）より基板Ｇがソータ機構（図示せず）を介して浮上ステージ１０の前端側に設定された搬入エリアに搬入され、そこで待機していたスライダ２４が基板Ｇを保持して受け取る。浮上ステージ１０上で基板Ｇはガス噴射孔１２より噴射されるガス（たとえば高圧エア）の圧力を受けて略水平な姿勢で浮上状態を保つ。   Here, the resist coating operation in this resist coating apparatus will be described. First, a substrate G is carried into a carry-in area set on the front end side of the levitation stage 10 through a sorter mechanism (not shown) from a previous unit, for example, a thermal processing unit (not shown), and is waiting there. The slider 24 holds and receives the substrate G. On the levitation stage 10, the substrate G receives the pressure of gas (for example, high-pressure air) ejected from the gas ejection holes 12 and keeps the levitation state in a substantially horizontal posture.

こうして基板Ｇが水平姿勢で搬送方向（Ｘ方向）に一定速度で移動するのと同時に、スリットノズル３２が直下の基板Ｇに向けてレジスト液を所定の圧力または流量で帯状に吐出することにより、図２および図３に示すように基板Ｇの前端側から後端側へ向かって膜厚の均一なレジスト液の塗布膜が形成されていく。   In this way, the substrate G moves in a horizontal posture at a constant speed in the transport direction (X direction), and at the same time, the slit nozzle 32 discharges the resist solution toward the substrate G directly below at a predetermined pressure or flow rate, As shown in FIGS. 2 and 3, a coating film of a resist solution having a uniform film thickness is formed from the front end side to the rear end side of the substrate G.

基板Ｇの後端がスリットノズル３２の下を通過すると、基板一面にレジスト塗布膜が形成される。次いで、基板Ｇは、その後もスライダ２４により浮上ステージ１０上で浮上搬送され、浮上ステージ１０の後端に設定された搬出エリアよりソータ機構（図示せず）を介して後段のユニット（図示せず）へ送られる。   When the rear end of the substrate G passes under the slit nozzle 32, a resist coating film is formed on the entire surface of the substrate. Subsequently, the substrate G is then levitated and conveyed on the levitating stage 10 by the slider 24, and a rear stage unit (not shown) from a carry-out area set at the rear end of the levitating stage 10 via a sorter mechanism (not shown). ).

図２に示すように、スリットノズル３２は、ノズル長手方向（Ｙ方向）に平行に延びるフロントリップ３３Ｆおよびリアリップ３３Ｒからなり、これら一対のリップ３３Ｆ，３３Ｒを突き合わせてボルト（図示せず）で一体結合し、スリット状の吐出口３２ａを有している。スリットノズル３２の吐出口３２ａと平行に延びる両側のノズル側面３２ｆ，３２ｒが、吐出口３２ａに向かって上から下に次第に細くなるテーパ形状に形成されている。レジスト塗布時には吐出口３２ａだけでなく両側のノズル側面３２ｆ，３２ｒの下端部もレジスト液Ｒで濡れ、レジスト塗布処理が終了した後の吐出口３２ａおよびノズル側面３２ｆ，３２ｒの下端部にはレジスト液Ｒの汚れが残る。   As shown in FIG. 2, the slit nozzle 32 includes a front lip 33F and a rear lip 33R that extend in parallel to the nozzle longitudinal direction (Y direction). The pair of lips 33F and 33R are abutted and integrated with a bolt (not shown). Combined and has a slit-like discharge port 32a. The nozzle side surfaces 32f and 32r on both sides extending in parallel with the discharge port 32a of the slit nozzle 32 are formed in a tapered shape that gradually narrows from the top to the bottom toward the discharge port 32a. At the time of resist coating, not only the discharge port 32a but also the lower ends of the nozzle side surfaces 32f and 32r on both sides are wetted with the resist solution R, and the resist solution is applied to the lower ends of the discharge port 32a and the nozzle side surfaces 32f and 32r after the resist coating process is completed. R dirt remains.

図４に、ノズルリフレッシュ部４２内の構成を示す。ノズルリフレッシュ部４２は、１つのケーシング４４内に、塗布処理の下準備としてスリットノズル３２に少量のレジスト液を吐出させてプライミングローラ４６に巻き取るプライミング処理部４８と、スリットノズル３２の吐出口を乾燥防止の目的から溶剤蒸気の雰囲気中に保つためのノズルバス５０と、スリットノズル３２の吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）を洗浄するためのスリットノズル洗浄部５２とを併設している。   FIG. 4 shows a configuration in the nozzle refresh unit 42. The nozzle refreshing unit 42 includes a priming processing unit 48 that discharges a small amount of resist solution to the slit nozzle 32 and winds it around the priming roller 46 as a preparation for coating processing in one casing 44, and a discharge port of the slit nozzle 32. A nozzle bath 50 for keeping the solvent vapor atmosphere for the purpose of preventing drying and a slit nozzle cleaning unit 52 for cleaning the periphery of the discharge port (discharge port 32a, nozzle side surfaces 32f, 32r) of the slit nozzle 32 are provided. is doing.

１回の塗布処理を終えたスリットノズル３２は、最初にスリットノズル洗浄部５２により洗浄処理を受け、次いでノズルバス５０内で待機し、次の塗布処理が開始される直前にプライミング処理部４８によりプライミング処理を受ける。   The slit nozzle 32 that has finished one coating process is first subjected to the cleaning process by the slit nozzle cleaning unit 52, then waits in the nozzle bath 50, and is primed by the priming processing unit 48 immediately before the next coating process is started. Get processed.

スリットノズル３２をノズルリフレッシュ部４２内の各部（４８，５０，５２）に着かせるには、図示しないコントローラの制御の下で、たとえばボールネジ機構からなるＸ方向移動部５４によりノズルリフレッシュ部４２の全体つまりケーシング４４を基板搬送方向（Ｘ方向）で移動させるとともに、ノズル昇降機構２６（図１）によりスリットノズル３２を鉛直方向（Ｚ方向）で移動させる。   In order to place the slit nozzle 32 on each part (48, 50, 52) in the nozzle refreshing unit 42, the entire nozzle refreshing unit 42 is controlled by an X-direction moving unit 54 comprising a ball screw mechanism, for example, under the control of a controller (not shown). That is, the casing 44 is moved in the substrate transport direction (X direction), and the slit nozzle 32 is moved in the vertical direction (Z direction) by the nozzle lifting mechanism 26 (FIG. 1).

ノズルリフレッシュ部４２に組み込まれるスリットノズル洗浄部５２は、本発明の一実施形態におけるスリットノズル洗浄装置である。以下、このスリットノズル洗浄部５２の構成および作用を詳細に説明する。   The slit nozzle cleaning unit 52 incorporated in the nozzle refresh unit 42 is a slit nozzle cleaning device according to an embodiment of the present invention. Hereinafter, the configuration and operation of the slit nozzle cleaning unit 52 will be described in detail.

図５に示すように、スリットノズル洗浄部５２は、Ｙ方向移動部６０にジョイント部材６２を介して結合され、スリットノズル３２の吐出口周辺部に沿ってスリットノズルの長手方向と平行に水平な洗浄走査方向（Ｙ方向）で移動するキャリッジ６４を有している。Ｙ方向移動部６０は、たとえばラック＆ピニオン機構からなり、Ｙ方向に延びるラック６６と、このラック６６上で転動する歯車（図示せず）を内蔵する可動ユニット６８とを有している。キャリッジ６４は、スリットノズル３２の吐出口周辺部に対して位置合わせをしてから、洗浄走査方向（Ｙ方向）に移動するようになっている。   As shown in FIG. 5, the slit nozzle cleaning unit 52 is coupled to the Y-direction moving unit 60 via a joint member 62, and is parallel to the longitudinal direction of the slit nozzle along the discharge port peripheral portion of the slit nozzle 32. The carriage 64 moves in the cleaning scanning direction (Y direction). The Y-direction moving unit 60 includes, for example, a rack and pinion mechanism, and includes a rack 66 that extends in the Y direction and a movable unit 68 that incorporates a gear (not shown) that rolls on the rack 66. The carriage 64 moves in the cleaning scanning direction (Y direction) after being aligned with the peripheral portion of the discharge port of the slit nozzle 32.

スリットノズル洗浄部５２は、このキャリッジ６４に、洗浄走査方向において第１洗浄ユニット７０を先頭に以下第１ワイパーユニット７２、第２洗浄ユニット７４、第２ワイパーユニット７６および乾燥ユニット７８をこの順序で一列に並べて搭載している。各々のユニット７０〜７８は、キャリッジ６４にカセット式で着脱可能に装着されるようになっている。   The slit nozzle cleaning section 52 is arranged on the carriage 64 with the first cleaning unit 70 at the head in the cleaning scanning direction, and the first wiper unit 72, the second cleaning unit 74, the second wiper unit 76, and the drying unit 78 in this order. It is mounted side by side. Each of the units 70 to 78 is detachably mounted on the carriage 64 in a cassette type.

図６に、洗浄走査の斜め前方から見たスリットノズル洗浄部５２の要部の構成を示す。   FIG. 6 shows a configuration of a main part of the slit nozzle cleaning unit 52 as viewed obliquely from the front of the cleaning scan.

第１および第２洗浄ユニット７０，７４は、上面に凹形の溝部を有するブロック状のノズル保持部７０ａ，７４ａと、このノズル保持部７０ａ，７４ａの両側の内壁から突き出ている複数対（または一対）の洗浄ノズル７０ｂ，７４ｂと、ノズル保持部７０ａ，７４ａ内の流路を介して洗浄ノズル７０ｂ，７４ｂに接続されている配管コネクタ７０ｃ，７４ｃとをそれぞれ有している。配管コネクタ７０ｃ，７４ｃは、洗浄液供給部（図示せず）からの洗浄液供給管（図示せず）にそれぞれ接続されている。   The first and second cleaning units 70 and 74 include block-shaped nozzle holding portions 70a and 74a each having a concave groove on the upper surface, and a plurality of pairs protruding from inner walls on both sides of the nozzle holding portions 70a and 74a (or A pair of cleaning nozzles 70b and 74b, and pipe connectors 70c and 74c connected to the cleaning nozzles 70b and 74b through flow paths in the nozzle holding portions 70a and 74a, respectively. The pipe connectors 70c and 74c are respectively connected to a cleaning liquid supply pipe (not shown) from a cleaning liquid supply unit (not shown).

乾燥ユニット７８は、上面に凹形の溝部を有するブロック状のノズル保持部７８ａと、このノズル保持部７８ａの両側の内壁から突き出ている複数対（または一対）の乾燥ノズル７８ｂと、ノズル保持部７８ａ内の流路を介して乾燥ノズル７８ｂに接続されている配管コネクタ７８ｃとをそれぞれ有している。配管コネクタ７８ｃは、乾燥ガス供給部（図示せず）からのガス供給管（図示せず）に接続されている。   The drying unit 78 includes a block-shaped nozzle holding portion 78a having a concave groove on the upper surface, a plurality of pairs (or a pair) of drying nozzles 78b protruding from inner walls on both sides of the nozzle holding portion 78a, and a nozzle holding portion. And a pipe connector 78c connected to the drying nozzle 78b through a flow path in 78a. The pipe connector 78c is connected to a gas supply pipe (not shown) from a dry gas supply unit (not shown).

第１および第２ワイパーユニット７２，７６は、上面にＶ形の溝部を有するブロック状のワイパー保持部７２ａ，７６ａと、このノズル保持部７２ａ，７６ａの両側傾斜面に横臥して取り付けられた一対（または複数対）の長尺型ワイパー部材（７２ｆ，７２ｒ）、（７６ｆ，７６ｒ）とをそれぞれ有している。   The first and second wiper units 72 and 76 are a pair of block-shaped wiper holding portions 72a and 76a having V-shaped grooves on the upper surface, and a pair of sideways attached to the inclined surfaces on both sides of the nozzle holding portions 72a and 76a. (Or a plurality of pairs) of long-type wiper members (72f, 72r) and (76f, 76r).

図６に示すように、ワイパー部材（７２ｆ，７２ｒ）、（７６ｆ，７６ｒ）は平面視でＶ字状に延びている。ワイパー部材（７２ｆ，７２ｒ）、（７６ｆ，７６ｒ）のＶ形状に倣ってノズル保持部７２ａ，７６ａの前部が平面視でＶ形状に切り欠かれており、このＶ形状切り欠き部７２ｄ，７６ｄの下は、キャリッジ６４の貫通孔を介してケーシング４４の底のドレインボックス８０（図４）に通じている。このように、Ｖ形状切り欠き部７２ｄ，７６ｄは、スリットノズル洗浄部５２のドレイン口を構成している。   As shown in FIG. 6, the wiper members (72f, 72r) and (76f, 76r) extend in a V shape in plan view. Following the V shape of the wiper members (72f, 72r), (76f, 76r), the front portions of the nozzle holding portions 72a, 76a are notched into a V shape in plan view, and the V shape notched portions 72d, 76d. Is connected to a drain box 80 (FIG. 4) at the bottom of the casing 44 through a through hole of the carriage 64. As described above, the V-shaped cutout portions 72 d and 76 d constitute the drain port of the slit nozzle cleaning unit 52.

図７に、第１および第２ワイパーユニット７２，７６において、ワイパー保持部７２ａ，７６ａの片側半分および片側のワイパー部材７２ｒ，７６ｒの構成を示す。図７の（ａ）は斜視図であり、図７の（ｂ），（ｃ）は図７の（ａ）においてそれぞれ矢印Ａ，Ｂの向きで見た矢視図である。   FIG. 7 shows the configuration of the one-side halves of the wiper holding portions 72a and 76a and the wiper members 72r and 76r on one side in the first and second wiper units 72 and 76. FIG. 7A is a perspective view, and FIGS. 7B and 7C are arrow views viewed in the directions of arrows A and B, respectively, in FIG. 7A.

ワイパー部材７２ｒ（７６ｒ）は、たとえばザラック（登録商標名）等のフッ素含有エラストマからなり、ワイパー保持部７２ａ（７６ａ）の傾斜面に埋め込まれる基部Ｐと、この基部Ｐからワイパー保持部７２ａ（７６ａ）の傾斜面の上に突出して延びるブレード部Ｑとを有する。スリットノズル３２を洗浄する際には、ブレード部Ｑの上縁部がその全長に亘ってスリットノズル３２の吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ、３２ｒ）にほぼ均一な圧力で摺接するようになっている。ワイパー保持部７２ａ（７６ａ）の傾斜面には、ワイパー部材７２ｒ（７６ｒ）の基部Ｐを着脱可能に収納するための溝部Ｍが形成されている。   The wiper member 72r (76r) is made of, for example, a fluorine-containing elastomer such as ZALAC (registered trademark). The base P is embedded in the inclined surface of the wiper holding portion 72a (76a), and the wiper holding portion 72a (76a) is formed from the base P. ) And a blade portion Q that protrudes and extends on the inclined surface. When cleaning the slit nozzle 32, the upper edge portion of the blade portion Q is in sliding contact with the peripheral portion of the slit nozzle 32 (discharge port 32a, nozzle side surfaces 32f, 32r) with substantially uniform pressure over the entire length. It is like that. A groove portion M for detachably storing the base portion P of the wiper member 72r (76r) is formed on the inclined surface of the wiper holding portion 72a (76a).

ブレード部Ｑは、ワイパー保持部７２ａ（７６ａ）の傾斜面に対して斜めに起立した角度で突出している。この起立角度αは、３０°〜６０°の範囲が好ましく、４５°付近が最も好ましい。   The blade part Q protrudes at an angle standing obliquely with respect to the inclined surface of the wiper holding part 72a (76a). The standing angle α is preferably in the range of 30 ° to 60 °, and most preferably around 45 °.

また、ワイパー部材７２ｒ（７６ｒ）は、洗浄走査方向において水平面に対して斜めに起立した角度でワイパー保持部７２ａ（７６ａ）の傾斜面に取り付けられている。この起立角度βは、１５°〜４５°の範囲が好ましく、３０°付近が最も好ましい。   Further, the wiper member 72r (76r) is attached to the inclined surface of the wiper holding portion 72a (76a) at an angle standing obliquely with respect to the horizontal plane in the cleaning scanning direction. The standing angle β is preferably in the range of 15 ° to 45 °, and most preferably around 30 °.

ワイパー保持部７２ａ，７６ａの他方の片側半分および他方のワイパー部材７２ｆ，７６ｆも上記と同様の構成になっている。   The other half of the wiper holding portions 72a and 76a and the other wiper members 72f and 76f have the same configuration as described above.

図８に、この実施形態のスリットノズル洗浄部５２に備わっている位置合わせ機構を示す。   FIG. 8 shows an alignment mechanism provided in the slit nozzle cleaning unit 52 of this embodiment.

スリットノズル３２をスリットノズル洗浄部５２に着かせるには、上記のように、Ｘ方向移動部５４によりノズルリフレッシュ部４２の全体を基板搬送方向（Ｘ方向）で移動させるとともに（図４）、ノズル昇降機構２６（図１）によりスリットノズル３２を鉛直方向（Ｚ方向）で移動させる。そうすると、図８に示すように、スリットノズル３２の両ノズル側面３２ｆ，３２ｒおよび吐出口３２ａが第１および第２ワイパーユニット７２，７６のワイパー部材７２ｆ（７６ｆ），７２ｒ（７６ｒ）にそれぞれ適度かつ均一な圧力で接触するように、スリットノズル３２とスリットノズル洗浄部５２との間で位置合わせが自動的に行われる。   In order to place the slit nozzle 32 on the slit nozzle cleaning unit 52, the entire nozzle refresh unit 42 is moved in the substrate transport direction (X direction) by the X direction moving unit 54 as described above (FIG. 4). The slit nozzle 32 is moved in the vertical direction (Z direction) by the elevating mechanism 26 (FIG. 1). Then, as shown in FIG. 8, both the nozzle side surfaces 32f and 32r and the discharge port 32a of the slit nozzle 32 are moderately and respectively provided to the wiper members 72f (76f) and 72r (76r) of the first and second wiper units 72 and 76. Positioning is automatically performed between the slit nozzle 32 and the slit nozzle cleaning unit 52 so as to make contact with uniform pressure.

図８に示すように、キャリッジ６４は、Ｙ方向移動部６０からのジョイント部材６２に一体に結合されるベース板６４ａと、このベース板６４ａの上にノズル長手方向（Ｙ方向）と直交する水平方向（Ｘ方向）および鉛直方向（Ｚ方向）で変位可能に取り付けられる可動板６４ｂとを有しており、可動板６４ｂの上に第１および第２洗浄ユニット７０，７４、第１および第２ワイパーユニット７２，７６および乾燥ユニット７８を上記のような配列順序で搭載している。ベース板６４ａおよび可動板６４ｂには、第１および第２ワイパーユニット７２，７６のＶ形状切り欠き部７２ｄ，７６ｄと対応する位置にドレイン用の貫通孔６４ｃ，６４ｄがそれぞれ形成されている。   As shown in FIG. 8, the carriage 64 includes a base plate 64a that is integrally coupled to the joint member 62 from the Y-direction moving unit 60, and a horizontal plane that is orthogonal to the longitudinal direction of the nozzle (Y direction) on the base plate 64a. And a movable plate 64b that is mounted so as to be displaceable in the direction (X direction) and the vertical direction (Z direction). The first and second cleaning units 70, 74, the first and second are disposed on the movable plate 64b. The wiper units 72 and 76 and the drying unit 78 are mounted in the arrangement order as described above. In the base plate 64a and the movable plate 64b, drain through holes 64c and 64d are formed at positions corresponding to the V-shaped cutout portions 72d and 76d of the first and second wiper units 72 and 76, respectively.

ここで、可動板６４ｂは、ベース板６４ａを下から上に貫通する複数のプランジャ８２により鉛直方向（Ｚ方向）で弾性的に変位できるとともに、ベース板６４ａの上面に固着されたブロック板８４を外側から内側に貫通する複数のプランジャ８６によりＸ方向で弾性的に変位できるようになっている。各プランジャ８２，８６は、胴体（ネジ）の中にバネ（図示せず）を内蔵しており、可動板６４ｂに点接触で加圧接触するボール状の頭部がバネ力により弾性的に引っ込む構造になっている。   Here, the movable plate 64b can be elastically displaced in the vertical direction (Z direction) by a plurality of plungers 82 penetrating the base plate 64a from the bottom to the top, and the block plate 84 fixed to the upper surface of the base plate 64a. A plurality of plungers 86 penetrating from the outside to the inside can be elastically displaced in the X direction. Each of the plungers 82 and 86 incorporates a spring (not shown) in the body (screw), and a ball-shaped head that is in pressure contact with the movable plate 64b is retracted elastically by the spring force. It has a structure.

上記のように、Ｘ方向移動部５４（図４）およびノズル昇降機構２６（図１）によりスリットノズル３２がスリットノズル洗浄部５２に着けられると、スリットノズルの吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）に倣うように第１および第２ワイパーユニット７２，７６ひいては可動板６４ｂがプランジャ８２，８６によりＸ方向およびＺ方向で弾性的に変位する。これによって、第１および第２ワイパーユニット７２，７６のワイパー部材（７２ｆ，７２ｒ）、（７６ｆ，７６ｒ）がその全長に亘ってスリットノズルの吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）に適度かつ均一な圧力で密着するようになっている。   As described above, when the slit nozzle 32 is attached to the slit nozzle cleaning unit 52 by the X-direction moving unit 54 (FIG. 4) and the nozzle elevating mechanism 26 (FIG. 1), the discharge nozzle peripheral portion (discharge port 32a, The first and second wiper units 72 and 76 and the movable plate 64b are elastically displaced in the X and Z directions by the plungers 82 and 86 so as to follow the nozzle side surfaces 32f and 32r). As a result, the wiper members (72f, 72r), (76f, 76r) of the first and second wiper units 72, 76 extend over the entire length of the discharge nozzle peripheral portion (discharge port 32a, nozzle side surfaces 32f, 32r). ) With an appropriate and uniform pressure.

なお、ワイパー部材（７２ｆ，７２ｒ）、（７６ｆ，７６ｒ）においては、フロントリップ３３Ｆの吐出口３２ａおよびノズル側面３２ｆを拭き取るワイパー部材７２ｆ，７６ｆとリアリップ３３Ｒの吐出口３２ａおよびノズル側面３２ｒを拭き取るワイパー部材７２ｒ，７６ｒとを個別に部品交換できるだけでなく、それぞれの材質を個別に選定することも可能であり、それぞれの材質（特にエラストマ）の硬度を個別に設定または調整することも可能である。   In the wiper members (72f, 72r) and (76f, 76r), the wiper members 72f, 76f for wiping the discharge port 32a and the nozzle side surface 32f of the front lip 33F and the wiper member 72f, 76f for wiping the discharge port 32a and the nozzle side surface 32r of the rear lip 33R are wiped. Not only can the members 72r and 76r be individually replaced, but also the respective materials can be individually selected, and the hardness of each material (particularly the elastomer) can be individually set or adjusted.

たとえば、図２に示すように、平流し方式のレジスト塗布処理に使用されるスリットノズル３２は、フロントリップ３３Ｆのノズル側面３２ｆよりもリアリップ３３Ｒのノズル側面３２ｒの方がレジスト液Ｒの廻り込みによって汚れが多くなる。したがって、汚れの多いリアリップ３３Ｒ側のワイパー部材７２ｒ，７６ｒは、その材質硬度を比較的大きくするのが接触摩擦を大きくし、拭き取り力を高めるうえで好ましい。一方、汚れの少ないフロントリップ３３Ｆ側のワイパー部材７２ｆ，７６ｆは、材質硬度を比較的小さくした方が、接触摩擦を小さくし、耐久性を上げることができる。   For example, as shown in FIG. 2, the slit nozzle 32 used in the flat-flow resist coating process is such that the nozzle side surface 32 r of the rear lip 33 </ b> R is more circulated by the resist solution R than the nozzle side surface 32 f of the front lip 33 </ b> F. More dirt. Therefore, the wiper members 72r and 76r on the side of the rear lip 33R with much dirt are preferably made relatively hard to increase the contact friction and increase the wiping force. On the other hand, the wiper members 72f and 76f on the front lip 33F side with less dirt can reduce contact friction and increase durability when the material hardness is relatively small.

同様に、第１および第２ワイパーユニット７２，７６の間で、洗浄走査方向で前方に位置する第１ワイパーユニット７２のワイパー部材７２ｆ，７２ｒの材質硬度を高めに選定し、後方に位置する第２ワイパーユニット７６のワイパー部材７６ｆ，７６ｒの材質硬度を低めに選定してもよい。   Similarly, the material hardness of the wiper members 72f and 72r of the first wiper unit 72 positioned forward in the cleaning scanning direction is selected to be higher between the first and second wiper units 72 and 76, and the second wiper units 72 and 76 positioned rearward. The material hardness of the wiper members 76f and 76r of the two wiper unit 76 may be selected to be low.

次に、図９Ａおよび図９Ｂにつき、この実施形態のスリットノズル洗浄部５２における洗浄作用を説明する。   Next, with reference to FIG. 9A and FIG. 9B, the cleaning action in the slit nozzle cleaning unit 52 of this embodiment will be described.

スリットノズル洗浄部５２においては、上記のようなスリットノズル３２との位置合わせが完了すると、その位置合わせ状態（図８の状態）を維持しながら、図示しないコントローラの制御の下で、Ｙ方向移動部６０が作動して、キャリッジ６４が洗浄走査方向（Ｙ方向）に一定速度で移動する。ここで、スリットノズル３２は１回（基板一枚分）のレジスト塗布処理を終えてきたばかりであり、その吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）はレジスト液Ｒが付着して汚れている。   When the alignment with the slit nozzle 32 as described above is completed, the slit nozzle cleaning unit 52 moves in the Y direction under the control of a controller (not shown) while maintaining the alignment state (the state shown in FIG. 8). The unit 60 operates, and the carriage 64 moves at a constant speed in the cleaning scanning direction (Y direction). Here, the slit nozzle 32 has just finished the resist coating process once (for one substrate), and the resist solution R adheres to the periphery of the discharge port (discharge port 32a, nozzle side surfaces 32f and 32r). It is dirty.

キャリッジ６４が走査移動を開始するのとほぼ同時に、キャリッジ６４に搭載されている全てのユニットがそれぞれの動作を開始する。より詳細には、第１洗浄ユニット７０は、キャリッジ６４上の先頭位置で、洗浄ノズル７０ｂより洗浄液たとえばシンナー液Ｓを吐出し、スリットノズル３２の吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）にシンナー液Ｓを吹き掛けながら、洗浄走査方向（Ｙ方向）に移動する。   Almost simultaneously with the start of the scanning movement of the carriage 64, all the units mounted on the carriage 64 start their respective operations. More specifically, the first cleaning unit 70 discharges the cleaning liquid, for example, the thinner liquid S from the cleaning nozzle 70b at the head position on the carriage 64, and the peripheral portion of the slit nozzle 32 (the discharge port 32a, the nozzle side surface 32f, While spraying thinner liquid S on 32r), it moves in the cleaning scanning direction (Y direction).

第１ワイパーユニット７２は、第１洗浄ユニット７０のすぐ後に続いて、スリットノズル３２の吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）に一対のワイパー部材７２ｆ，７２ｒを摺接させて、洗浄走査方向（Ｙ方向）に移動する。   The first wiper unit 72 immediately follows the first cleaning unit 70 by sliding a pair of wiper members 72f and 72r around the discharge port peripheral portion (discharge port 32a and nozzle side surfaces 32f and 32r) of the slit nozzle 32. , Move in the cleaning scanning direction (Y direction).

第２洗浄ユニット７４は、第１ワイパーユニット７２のすぐ後に続いて、洗浄ノズル７４ｂより洗浄液たとえばシンナー液Ｓを吐出し、スリットノズル３２の吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）にシンナー液Ｓを吹き掛けながら、洗浄走査方向（Ｙ方向）に移動する。   The second cleaning unit 74 immediately follows the first wiper unit 72 and discharges a cleaning liquid, for example, thinner liquid S, from the cleaning nozzle 74b, and the discharge port peripheral portion (discharge port 32a, nozzle side surfaces 32f and 32r) of the slit nozzle 32. While spraying the thinner S, the cleaning liquid moves in the cleaning scanning direction (Y direction).

第２ワイパーユニット７６は、第２洗浄ユニット７４のすぐ後に続いて、スリットノズル３２の吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）に一対のワイパー部材７６ｆ，７６ｒを摺接させて、洗浄走査方向（Ｙ方向）に移動する。   The second wiper unit 76 has a pair of wiper members 76f and 76r in sliding contact with the peripheral portion of the slit nozzle 32 (discharge port 32a and nozzle side surfaces 32f and 32r) immediately after the second cleaning unit 74. , Move in the cleaning scanning direction (Y direction).

乾燥ユニット７８は、第２ワイパーユニット７６のすぐ後に続いて、乾燥ノズル７８ｂより乾燥用ガスたとえばＮ2ガスを吐出し、スリットノズル３２の吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）にＮ2ガスを吹き掛けながら、洗浄走査方向（Ｙ方向）に移動する。 Immediately following the second wiper unit 76, the drying unit 78 discharges a drying gas such as N 2 gas from the drying nozzle 78b, and the peripheral portion of the slit nozzle 32 (discharge port 32a, nozzle side surfaces 32f and 32r). While N 2 gas is sprayed on the substrate, it moves in the cleaning scanning direction (Y direction).

図９Ａおよび図９Ｂには、上記のようなスリットノズル洗浄部５２における洗浄走査によってスリットノズル３２の吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）が洗浄走査方向（Ｙ方向）において一端から他端に向かって連続的に洗浄ないし清掃されていく様子を一定の時間間隔（ｔ1，ｔ2，ｔ3，・・・・）で模式的に示している。 9A and 9B show that the periphery of the discharge port (discharge port 32a, nozzle side surfaces 32f, 32r) of the slit nozzle 32 is once in the cleaning scan direction (Y direction) by the cleaning scan in the slit nozzle cleaning unit 52 as described above. The state of continuous cleaning or cleaning from one end to the other end is schematically shown at regular time intervals (t 1 , t 2 , t 3 ,...).

この洗浄走査において、各位置（たとえば図のＰ6の位置）のスリットノズル３２の吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）に着目すると、先ず、第１洗浄ユニット７０が当該吐出口周辺部にシンナー液Ｓを吹き掛けることによって、当該吐出口周辺部に付着していたレジスト液Ｒがシンナー液Ｓに溶けて、両液Ｒ，Ｓの混じった汚れ液ＲＳが吐出口周辺部に残る。 In this washing scanning, the discharge port peripheral portion of the slit nozzle 32 at each position (for example, the position of the P 6 in FIG.) (Discharge port 32a, the nozzle side surface 32f, 32r) when attention is focused on, first, the first cleaning unit 70 is brought said discharge By spraying the thinner liquid S on the periphery of the outlet, the resist liquid R adhering to the peripheral area of the discharge port is dissolved in the thinner liquid S, and the contaminated liquid RS in which both liquids R and S are mixed becomes the peripheral area of the discharge port. Remain in.

この直後に、第１ワイパーユニット７２が、一対のワイパー部材７２ｆ，７２ｒを摺接させて当該吐出口周辺部を通過する。ワイパー部材７２ｆ，７２ｒは、進行方向に向かって斜めの角度βで起立しながら当該吐出口周辺部に適度な圧力で摺接し、汚れ液ＲＳを下に掻き落としながら前進する。掻き落とされた汚れ液ＲＳは、ドレイン口７２ｄから下のドレインボックス８０へ落ちる。第１ワイパーユニット７２による拭き取りは十分に効果的であり、第１ワイパーユニット７２の通過した跡に拭き残しの汚れ液ＲＳ'が付いていても、少量である。   Immediately after this, the first wiper unit 72 slides the pair of wiper members 72f and 72r and passes through the discharge port peripheral portion. The wiper members 72f and 72r slidably contact the peripheral portion of the discharge port with an appropriate pressure while standing at an oblique angle β toward the traveling direction, and move forward while scraping the dirt liquid RS downward. The dirt liquid RS scraped off falls from the drain port 72d to the lower drain box 80. The wiping by the first wiper unit 72 is sufficiently effective, and even if the wiping dirt liquid RS ′ is attached to the trace that has passed through the first wiper unit 72, the amount is small.

この直後に、第２洗浄ユニット７４が当該吐出口周辺部にシンナー液Ｓを吹き掛けることによって、当該吐出口周辺部に付着していた拭き残しの汚れ液ＲＳ'がシンナー液Ｓで薄まり、相対的にシンナー液Ｓの比率が大きくて汚れの少ない液ＳRが吐出口周辺部に残る。 Immediately after this, the second cleaning unit 74 sprays the thinner S around the periphery of the discharge port, so that the uncleaned dirt liquid RS ′ adhering to the periphery of the discharge port is diluted with the thinner S. to thinner liquid less liquid S R ratio is large clean the S remains on the discharge port peripheral portion.

この直後に、第２ワイパーユニット７６が、一対のワイパー部材７６ｆ，７６ｒを摺接させながら当該吐出口周辺部を通過する。ワイパー部材７６ｆ，７６ｒは、進行方向に向かって斜めの角度βで起立しながら当該吐出口周辺部に適度な圧力で摺接し、付着液ＳRを下に掻き落としながら前進する。掻き落とされた液ＳRは、ドレイン口７６ｄから下のドレインボックス８０へ落ちる。第２ワイパーユニット７６による拭き取りも十分に効果的であり、第２ワイパーユニット７６の通過した跡に拭き残しの液'ＳR'が付いていても、少量である。 Immediately after this, the second wiper unit 76 passes through the periphery of the discharge port while bringing the pair of wiper members 76f and 76r into sliding contact. Wiper member 76f, 76r, while standing at an oblique angle β toward the traveling direction sliding contact at a moderate pressure to the discharge port peripheral portion, advances while scraping the adhering liquid S R under. The liquid S R scraped off falls from the drain port 76d to the lower drain box 80. Wiping with the second wiper unit 76 is also sufficiently effective, and even if the remaining wiper liquid 'S R ' is attached to the trace that has passed through the second wiper unit 76, the amount is small.

この直後に、乾燥ユニット７８が当該吐出口周辺部にＮ2ガスを吹き掛けることによって、当該吐出口周辺部に付着していた拭き残しの液'ＳR'は風力で除去され、当該吐出口周辺部は清浄かつ乾燥した状態になる。 Immediately after this, the drying unit 78 sprays N 2 gas on the periphery of the discharge port, so that the unwiped liquid 'S R ' adhering to the periphery of the discharge port is removed by wind force. The periphery is clean and dry.

スリットノズル３２の一端から他端まで全長に亘って、スリットノズル３２の洗浄走査方向（Ｙ方向）における各位置の吐出口周辺部で上記のような一連の処理（１回目の洗浄→１回目の拭き取り→２回目の洗浄→２回目の拭き取り→乾燥）が行われる。   A series of processes (first cleaning → first cleaning) at the discharge port peripheral portion of each position in the cleaning scanning direction (Y direction) of the slit nozzle 32 over the entire length from one end to the other end of the slit nozzle 32. Wiping → second cleaning → second wiping → drying).

こうして、１回（一往路）の洗浄走査により、スリットノズル３２の全長に亘り各位置で吐出口周辺部（吐出口３２ａ、ノズル側面３２ｆ，３２ｒ）のレジスト汚れが十全に除去される。したがって、キャリッジ６４がスリットノズル３２の他端付近に設定された終点に着くと、そこでノズル洗浄処理が終了する。その直後に、コントローラの制御の下で、ノズル昇降機構３８（図１）およびＸ方向移動部５４（図４）が作動して、スリットノズル３２をスリットノズル洗浄部５２から隣のノズルバス５０へ移す。   In this way, the resist contamination around the discharge port (discharge port 32a and nozzle side surfaces 32f and 32r) is completely removed at each position over the entire length of the slit nozzle 32 by one (one-way) cleaning scan. Therefore, when the carriage 64 arrives at the end point set near the other end of the slit nozzle 32, the nozzle cleaning process ends there. Immediately thereafter, under the control of the controller, the nozzle lifting mechanism 38 (FIG. 1) and the X-direction moving unit 54 (FIG. 4) are operated to move the slit nozzle 32 from the slit nozzle cleaning unit 52 to the adjacent nozzle bath 50. .

上記のように、この実施形態のスリットノズル洗浄部５２は、スリットノズル３２の長手方向と平行に水平な洗浄走査方向（Ｙ方向）で移動するキャリッジ６４に、第１および第２洗浄ユニット７０，７４、第１および第２ワイパーユニット７２，７６および乾燥ユニット７８を上記のような所定の配列順序で搭載し、洗浄走査方向（Ｙ方向）の移動中に、第１および第２洗浄ユニット７０，７４がスリットノズル３２の吐出口周辺部に洗浄液を吹き掛け、第１および第２ワイパーユニット７２，７６がスリットノズル３２の吐出口周辺部に付着している液（汚れ）を拭い取り、乾燥ユニット７８がスリットノズル３２の吐出口周辺部に乾燥ガスを吹き掛けるようにしている。これにより、特にワイパーユニット７２，７６の働きによって洗浄効率を大きく改善しており、１回（一往路）の洗浄走査によりスリットノズル３２の吐出口周辺部を十全に洗浄ないし清掃することが可能であり、洗浄タクト時間の短縮化と洗浄液消費量の節減を容易に達成することができる。   As described above, the slit nozzle cleaning unit 52 according to this embodiment includes the first and second cleaning units 70, 70 on the carriage 64 that moves in the horizontal cleaning scanning direction (Y direction) parallel to the longitudinal direction of the slit nozzle 32. 74, the first and second wiper units 72, 76 and the drying unit 78 are mounted in the predetermined arrangement order as described above, and during the movement in the cleaning scanning direction (Y direction), the first and second cleaning units 70, 74 sprays the cleaning liquid on the periphery of the discharge port of the slit nozzle 32, and the first and second wiper units 72 and 76 wipe off the liquid (dirt) adhering to the periphery of the discharge port of the slit nozzle 32, and the drying unit. 78 blows dry gas around the discharge port periphery of the slit nozzle 32. As a result, the cleaning efficiency is greatly improved by the action of the wiper units 72 and 76 in particular, and the peripheral portion of the discharge port of the slit nozzle 32 can be thoroughly cleaned or cleaned by a single (one-way) cleaning scan. Therefore, it is possible to easily reduce the cleaning tact time and the consumption of the cleaning liquid.

また、この実施形態のレジスト塗布装置は、ノズルリフレッシュ部４２に上記のようなスリットノズル清掃部５２を備えることにより、スリットノズル３２に対する洗浄機能の洗浄能力を向上させ、レジスト塗布処理の品質、歩留まり、メンテナンスコストを改善することができる。   Further, the resist coating apparatus of this embodiment includes the slit nozzle cleaning unit 52 as described above in the nozzle refresh unit 42, thereby improving the cleaning capability of the cleaning function for the slit nozzle 32, and the quality and yield of the resist coating process. Maintenance cost can be improved.

以上、本発明の好適な実施形態を説明したが、本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、その技術的思想の範囲内で種種の変形または変更が可能である。   The preferred embodiments of the present invention have been described above, but the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications or changes can be made within the scope of the technical idea.

たとえば、キャリッジ６４に搭載するユニットの編成形態（洗浄ユニット、ワイパーユニットおよび乾燥ユニットの個数、配列順序等）を種種変形・変更することができる。   For example, the knitting form (number of cleaning units, wiper units and drying units, arrangement order, etc.) of units mounted on the carriage 64 can be variously modified and changed.

たとえば、図１０Ａの変形例（ａ）のように、３組の洗浄ユニットおよびワイパーユニット［７０，７２］、［７４，７６］、［９０，９２］を縦続配置し、最後尾に乾燥ユニット７８を配置することも可能である。   For example, as in the modification (a) of FIG. 10A, three sets of cleaning units and wiper units [70, 72], [74, 76], [90, 92] are arranged in cascade, and the drying unit 78 at the end. Can also be arranged.

図１０Ａの変形例（ｂ）のように、２組の洗浄ユニットおよびワイパーユニット［７０，７２］、［７４，７６］を縦続配置する構成は上記実施形態と同じであるが、たとえば第１のワイパーユニット７２内に２対のワイパー部材７２ｆ，７２ｒを設ける構成も可能である。   As in the modification (b) of FIG. 10A, the configuration in which two sets of cleaning units and wiper units [70, 72] and [74, 76] are arranged in cascade is the same as that in the above embodiment. A configuration in which two pairs of wiper members 72f and 72r are provided in the wiper unit 72 is also possible.

図１０Ａの変形例（ｃ）のように、１組の洗浄ユニットおよびワイパーユニット［７０，７２］と乾燥ユニット７８をキャリッジ６４に搭載する構成も可能である。   A configuration in which a pair of cleaning units and wiper units [70, 72] and a drying unit 78 are mounted on the carriage 64 is also possible as in the modified example (c) of FIG.

また、図１０Ａの変形例（ｄ）のように、乾燥ユニット７８を省いて、１組の洗浄ユニットおよびワイパーユニット［７０，７２］のみをキャリッジ６４に搭載する構成も可能である。   Further, as in modification (d) of FIG. 10A, a configuration in which the drying unit 78 is omitted and only one set of the cleaning unit and the wiper unit [70, 72] is mounted on the carriage 64 is also possible.

なお、上記変形例（ａ）〜（ｄ）に限らず、上記実施形態においても、キャリッジ６４を複数回往復移動させて、洗浄走査を複数回繰り返して行うことも可能である。   It should be noted that not only in the modified examples (a) to (d), but also in the above-described embodiment, the cleaning scan can be repeated a plurality of times by reciprocating the carriage 64 a plurality of times.

また、図１０Ｂに示すように、往路用のワイパーユニット７２と復路用のワイパーユニット９４とをキャリッジ６４に搭載して往路洗浄走査と復路洗浄走査とを行ことも可能である。この場合、往路の洗浄走査方向において往路用ワイパーユニット７２の前に往路用の洗浄ユニット７０および乾燥ユニット９６を配置し、復路の洗浄走査方向においてワイパーユニット９４の前に復路用の洗浄ユニット９８および乾燥ユニット７８を配置し、両ワイパーユニット７２，９４の間に往路／復路兼用の洗浄ユニット７４を配置する。   Further, as shown in FIG. 10B, it is also possible to carry out the forward cleaning scan and the backward cleaning scan by mounting the forward wiper unit 72 and the backward wiper unit 94 on the carriage 64. In this case, the forward cleaning unit 70 and the drying unit 96 are disposed in front of the forward wiper unit 72 in the forward cleaning scanning direction, and the backward cleaning unit 98 and front of the wiper unit 94 in the backward cleaning scan direction. A drying unit 78 is disposed, and a forward / return cleaning unit 74 is disposed between the wiper units 72 and 94.

往路の洗浄走査を行う時は、復路用のワイパーユニット９４をたとえばエアシリンダにより下降させてスリットノズル３２から分離または退避させる（つまり不使用状態にする）とともに、進行方向前部の復路用乾燥ユニット９６と進行方向後部の復路用洗浄ユニット９８をオフ状態にする（つまり不使用状態にする）。   When performing the forward cleaning scan, the backward wiper unit 94 is lowered by, for example, an air cylinder to be separated or retracted from the slit nozzle 32 (that is, not used), and the backward drying unit at the front in the traveling direction. 96 and the backward cleaning unit 98 at the rear in the traveling direction are turned off (that is, not used).

復路の洗浄走査を行う時は、往路用のワイパーユニット７２をたとえばエアシリンダにより下降させてスリットノズル３２から分離または退避させる（つまり不使用状態にする）とともに、進行方向前部の往路用乾燥ユニット７８と進行方向後部の往路用洗浄ユニット７０をオフ状態にする（つまり不使用状態にする）。   When performing the backward cleaning scan, the forward wiper unit 72 is lowered by, for example, an air cylinder and separated or retracted from the slit nozzle 32 (that is, not used), and the forward drying unit at the front in the traveling direction. 78 and the forward washing unit 70 at the rear in the traveling direction are turned off (that is, not used).

図１１Ａおよび図１１Ｂに、ワイパーユニット（代表例としてワイパーユニット７２）をキャリッジ６４にワンタッチで着脱自在に装着する構成例を幾つか示す。   FIGS. 11A and 11B show some configuration examples in which a wiper unit (a wiper unit 72 as a representative example) is detachably attached to the carriage 64 with one touch.

図１１Ａの（ａ），（ｂ）に示す構成例は、キャリッジ６４を上面の開口した断面コ字状のボックスまたはハウジング形状に構成し、ワイパーユニット７２を上からキャリッジ６４の中に挿抜できるようにしている。好ましくは、キャリッジ６４内に位置決め用のテーパ壁面６４ａ（図１１Ａ（ａ））やノックピン６４ｂ（図１１Ａ（ｂ））を設けてよい。キャリッジ６４の両側壁６４ｃにプランジャ１００を取り付け、ワイパーユニット７２側のノッチ７２ｎにプランジャ１００の頭部を係合させる構成も好適に採ることができる。あるいは、プランジャ１００に代えて、図１１Ｂの（ａ），（ｂ）に示すように、キャリッジ６４の両側壁６４ｃに板バネ１０２を取り付けて、ワイパーユニット７２の肩部に板バネ１０２を係止させる構成を採ってもよい。   In the configuration example shown in FIGS. 11A and 11B, the carriage 64 is configured in a box-shaped or housing shape having a U-shaped cross section with an opening on the upper surface, and the wiper unit 72 can be inserted into and removed from the carriage 64 from above. I have to. Preferably, a taper wall surface 64a for positioning (FIG. 11A (a)) and a knock pin 64b (FIG. 11A (b)) may be provided in the carriage 64. A configuration in which the plunger 100 is attached to both side walls 64c of the carriage 64 and the head of the plunger 100 is engaged with the notch 72n on the wiper unit 72 side can also be suitably employed. Alternatively, instead of the plunger 100, as shown in FIGS. 11B and 11B, the leaf springs 102 are attached to both side walls 64 c of the carriage 64 and the leaf springs 102 are locked to the shoulders of the wiper unit 72. You may take the structure to make.

本発明における塗布液としては、レジスト液以外にも、たとえば層間絶縁材料、誘電体材料、配線材料等の塗布液も可能であり、各種薬液、現像液やリンス液等も可能である。本発明における被処理基板はＬＣＤ基板に限らず、他のフラットパネルディスプレイ用基板、半導体ウエハ、ＣＤ基板、フォトマスク、プリント基板等も可能である。   As the coating solution in the present invention, in addition to the resist solution, for example, a coating solution such as an interlayer insulating material, a dielectric material, and a wiring material can be used, and various chemical solutions, developing solutions, rinse solutions, and the like are also possible. The substrate to be processed in the present invention is not limited to an LCD substrate, and other flat panel display substrates, semiconductor wafers, CD substrates, photomasks, printed substrates and the like are also possible.

３２ スリットノズル
５２ スリットノズル洗浄部
６０ Ｙ方向移動部
７０，７４ 洗浄ユニット
７２，７６ ワイパーユニット
７８ 乾燥ユニット 32 Slit nozzle 52 Slit nozzle cleaning unit 60 Y-direction moving unit 70, 74 Cleaning unit 72, 76 Wiper unit 78 Drying unit

Claims (15)

塗布処理に用いられるスリット状の吐出口を有する長尺型スリットノズルの吐出口周辺部を洗浄するためのスリットノズル洗浄装置であって、
前記スリットノズルの吐出口周辺部に沿って前記スリットノズルの長手方向と平行に水平な洗浄走査方向で移動するキャリッジと、
前記キャリッジに搭載され、前記洗浄走査方向で移動しながら前記スリットノズルの吐出口周辺部に洗浄液を吹き掛ける第１の洗浄ユニットと、
前記洗浄走査方向において前記洗浄ユニットの後に位置して前記キャリッジに搭載され、前記洗浄走査方向で移動しながら前記スリットノズルの吐出口周辺部に付着している液を拭い取る第１のワイパーユニットと
を有するスリットノズル洗浄装置。 A slit nozzle cleaning device for cleaning the periphery of the discharge port of a long slit nozzle having a slit-like discharge port used for coating treatment,
A carriage that moves in the horizontal scanning direction in parallel with the longitudinal direction of the slit nozzle along the periphery of the discharge port of the slit nozzle;
A first cleaning unit mounted on the carriage and spraying a cleaning liquid around a discharge port periphery of the slit nozzle while moving in the cleaning scanning direction;
A first wiper unit that is mounted on the carriage and positioned after the cleaning unit in the cleaning scanning direction, and wipes off the liquid adhering to the periphery of the discharge port of the slit nozzle while moving in the cleaning scanning direction; A slit nozzle cleaning device. 前記洗浄走査方向において前記第１のワイパーユニットの後に位置して前記キャリッジに搭載され、前記洗浄走査方向に移動しながら前記スリットノズルの吐出口周辺部に乾燥用のガスを吹き掛ける乾燥ユニットを有する、請求項１記載のスリットノズル洗浄装置。   A drying unit that is mounted on the carriage and is positioned behind the first wiper unit in the cleaning scanning direction, and sprays a drying gas around the discharge port of the slit nozzle while moving in the cleaning scanning direction. The slit nozzle cleaning device according to claim 1. 前記洗浄走査方向において前記第１のワイパーユニットの後に位置して前記キャリッジに搭載され、前記洗浄走査方向で移動しながら前記スリットノズルの吐出口周辺部に洗浄液を吹き掛ける第２の洗浄ユニットと、
前記洗浄走査方向において前記第２の洗浄ユニットの後に位置して前記キャリッジに搭載され、前記洗浄走査方向で移動しながら前記スリットノズルの吐出口周辺部に付着している液を拭い取る第２のワイパーユニットと
を有する、請求項１に記載のスリットノズル洗浄装置。 A second cleaning unit that is mounted on the carriage and is positioned behind the first wiper unit in the cleaning scanning direction, and sprays cleaning liquid around the discharge port periphery of the slit nozzle while moving in the cleaning scanning direction;
A second nozzle mounted on the carriage and positioned after the second cleaning unit in the cleaning scanning direction, and wipes off the liquid adhering to the peripheral portion of the slit nozzle while moving in the cleaning scanning direction. The slit nozzle cleaning device according to claim 1, comprising a wiper unit. 前記洗浄走査方向において前記第２のワイパーユニットの後に位置して前記キャリッジに搭載され、前記洗浄走査方向に移動しながら前記スリットノズルの吐出口周辺部に乾燥用のガスを吹き掛ける乾燥ユニットを有する、請求項３記載のスリットノズル洗浄装置。   A drying unit that is mounted on the carriage and is positioned behind the second wiper unit in the cleaning scanning direction, and sprays a drying gas around the discharge port of the slit nozzle while moving in the cleaning scanning direction; The slit nozzle cleaning device according to claim 3. 前記スリットノズルの吐出口と平行に延びる両側のノズル側面が、吐出口に向かって上から下に次第に細くなるテーパ形状に形成されており、
前記洗浄ユニットは、前記テーパ形状のノズル側面に両側から洗浄液を吹き掛ける複数本の洗浄ノズルを有し、
前記ワイパーユニットは、水平面に対して斜めに起立した角度で前記テーパ形状のノズル側面に両側からそれぞれ個別に摺接する一対または複数対の長尺型ワイパー部材を有する、
請求項１〜４のいずれか一項に記載のスリットノズル洗浄装置。 The side surfaces of the nozzles on both sides extending in parallel with the discharge port of the slit nozzle are formed in a tapered shape that gradually decreases from top to bottom toward the discharge port,
The cleaning unit has a plurality of cleaning nozzles for spraying a cleaning liquid from both sides on the side surface of the tapered nozzle.
The wiper unit has a pair or a plurality of pairs of long-type wiper members that are individually slidably contacted from both sides of the tapered nozzle side surface at an angle standing obliquely with respect to a horizontal plane.
The slit nozzle washing | cleaning apparatus as described in any one of Claims 1-4. 水平面に対する前記ワイパー部材の起立角度は１５°〜４５°である、請求項５に記載のスリットノズル洗浄装置。   The slit nozzle cleaning device according to claim 5, wherein an upright angle of the wiper member with respect to a horizontal plane is 15 ° to 45 °. 前記ワイパーユニットは、前記スリットノズルの吐出口およびノズル側面とそれぞれ平行に対向する底部および傾斜面を有するブロック状のワイパー保持部を備え、前記ワイパー保持部の傾斜面に前記ワイパー部材を取り付ける、請求項５または請求項６に記載のスリットノズル洗浄装置。   The wiper unit includes a block-like wiper holding portion having a bottom portion and an inclined surface facing the discharge port of the slit nozzle and a nozzle side surface in parallel, and the wiper member is attached to the inclined surface of the wiper holding portion. Item 7. A slit nozzle cleaning device according to Item 5 or Item 6. 前記ワイパー部材は、前記ワイパー保持部の傾斜面に埋め込まれる基部と、前記基部から前記保持部の傾斜面の上に突出するブレード部とを有する、請求項７に記載のスリットノズル洗浄装置。   The slit nozzle cleaning device according to claim 7, wherein the wiper member has a base portion embedded in an inclined surface of the wiper holding portion and a blade portion protruding from the base portion onto the inclined surface of the holding portion. 前記ワイパー部材のブレード部は前記ワイパー保持部の傾斜面に対して斜めに起立した角度で突出する、請求項８に記載のスリットノズル洗浄装置。   The slit nozzle cleaning device according to claim 8, wherein the blade portion of the wiper member protrudes at an obliquely rising angle with respect to the inclined surface of the wiper holding portion. 前記ワイパー保持部の傾斜面に対する前記ブレード部の起立角度は３０°〜６０°である、請求項９に記載のスリットノズル洗浄装置。   The slit nozzle cleaning device according to claim 9, wherein an upright angle of the blade portion with respect to the inclined surface of the wiper holding portion is 30 ° to 60 °. 前記ワイパー保持部の傾斜面には、前記ワイパー部材の基部を着脱可能に収納するための溝部が形成されている、請求項１０に記載のスリットノズル洗浄装置。   The slit nozzle cleaning device according to claim 10, wherein a groove portion for detachably storing a base portion of the wiper member is formed on the inclined surface of the wiper holding portion. 前記ワイパー部材はフッ素含有エラストマからなる、請求項５〜１１のいずれか一項に記載のスリットノズル洗浄装置。   The slit nozzle cleaning device according to claim 5, wherein the wiper member is made of a fluorine-containing elastomer. 前記ワイパーユニットは、前記キャリッジに着脱可能に装着される、請求項１〜１２のいずれか一項に記載のスリットノズル洗浄装置。   The slit nozzle cleaning device according to any one of claims 1 to 12, wherein the wiper unit is detachably attached to the carriage. 前記キャリッジ上で前記ワイパーユニットを前記スリットノズルの吐出口周辺部に倣わせて弾性的に変位可能とする位置合わせ機構を有する、請求項１〜１３のいずれか一項に記載のスリットノズル洗浄装置。   The slit nozzle cleaning device according to any one of claims 1 to 13, further comprising an alignment mechanism that allows the wiper unit to be elastically displaced on the carriage along the peripheral portion of the discharge port of the slit nozzle. . 塗布処理中に被処理基板に対して塗布液を帯状に吐出するスリット状の吐出口を有する長尺型スリットノズルと、
塗布処理中に前記スリットノズルに塗布液を供給する塗布液供給部と、
前記基板を支持する基板支持部と、
塗布処理中に前記スリットノズルが前記基板上で塗布走査を行うように、前記スリットノズルと前記基板との間で水平な一方向に相対的移動を行わせる塗布走査機構と、
塗布処理の合間に前記スリットノズルの吐出口周辺部を洗浄するための請求項１〜１４のいずれか一項に記載のスリットノズル洗浄装置と
を有する塗布装置。 A long slit nozzle having a slit-like discharge port for discharging the coating liquid in a strip shape to the substrate to be processed during the coating process;
A coating solution supply unit for supplying a coating solution to the slit nozzle during the coating process;
A substrate support for supporting the substrate;
A coating scanning mechanism that performs relative movement in one horizontal direction between the slit nozzle and the substrate so that the slit nozzle performs coating scanning on the substrate during coating processing;
The coating apparatus which has a slit nozzle cleaning apparatus as described in any one of Claims 1-14 for wash | cleaning the discharge port peripheral part of the said slit nozzle between application | coating processes.
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