JP2011153099A - (e)−2−ヘキセニル=(e)−2−ヘキセノアートの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】(E)−2−ヘキセン酸と(E)−ヘキセノールを、アゾジカルボン酸エステル(ジエチルアゾジカルボキシラートまたはジイソプロピルアゾジカルボキシラートなど)とトリフェニルホスフィンの存在下で反応させ、反応終了後、ジエチルエーテルで希釈し、ろ過を行い、ろ液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、続いて飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、有機層を濃縮後、蒸留またはカラムクロマトグラフィーなどの精製により(E)−2−ヘキセニル=(E)−2−ヘキセノアートを製造する。
【選択図】 なし
Description
(E)−2−ヘキセン酸(3.77g)と(E)−ヘキセノール(3.47g)をフラスコに入れ、トルエン(30ml)を加えた。p−トルエンスルホン酸(0.3g)を加え、135℃に加熱した。水分を留去しながら、2時間反応させた。反応混合液を室温まで冷却後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた。エーテルで抽出し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、(E)−2−ヘキセニル=(E)−2−ヘキセノアート(4.34g、収率67%、純度60%)が得られた。
(E)−2−ヘキセン酸(2.00g)と(E)−ヘキセノール(2.00g)をフラスコに入れ、テトラヒドロフラン(20ml)を加えた。これをアルゴン雰囲気下0℃に冷却し、4−ジメチルアミノピリジン(2.3g)と1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(3.7g)を加えた。滴下後、反応液をゆっくり室温まで昇温させながら、16時間攪拌した。反応混合液に希塩酸を加えて反応を終了させ、エーテルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、続いて飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、(E)−2−ヘキセニル=(E)−2−ヘキセノアート(1.06g、収率31%、純度86%)が得られた。
(E)−2−ヘキセン酸(2.00g)と(E)−ヘキセノール(3.50g)をフラスコに入れ、0℃に冷却した。三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体(2.2ml)を加え、反応液をゆっくり室温まで昇温させながら、1時間攪拌した。その後、40〜50℃の間で2時間攪拌した。反応混合液を室温まで冷却後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた。エーテルで抽出し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、(E)−2−ヘキセニル=(E)−2−ヘキセノアート(2.85g、収率83%、純度25%)が得られた。
Claims (2)
- (E)−2−ヘキセン酸と(E)−ヘキセノールを、アゾジカルボン酸エステルとトリフェニルホスフィン存在下で反応させることで、(E)−2−ヘキセニル=(E)−2−ヘキセノアートを得ることを特徴とする、(E)−2−ヘキセニル=(E)−2−ヘキセノアートの製造方法。
- 前記アゾジカルボン酸エステルがジエチルアゾジカルボキシラートまたは、ジイソプロピルアゾジカルボキシラートであることを特徴とする、請求項1に記載の製造方法。
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