JP2011151238A - 多重横モードレーザ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】前端面10と後端面12を有し、多重横モードで発振して前端面10からレーザ光14を出射する。n型半導体基板上に、n型クラッド層、活性層、及びp型クラッド層が順次積層されている。p型クラッド層上に絶縁膜24が形成されている。絶縁膜24はストライプ状の開口26を有する。p電極は、絶縁膜24の開口26を介してp型クラッド層に接続されている。n型半導体基板の下面にn電極が接続されている。開口26は、前端面10の近傍において前端面10に向かってストライプ幅が広くなるフレア領域26bを有する。
【選択図】図1
Description
実施の形態1に係る多重横モードレーザについて図面を参照しながら説明する。図1は実施の形態1に係る多重横モードレーザを示す上面図である。この多重横モードレーザは、前端面10と後端面12を有し、多重横モードで発振して前端面10からレーザ光14を出射する。
実施の形態2に係る多重横モードレーザについて図面を参照しながら説明する。図7は実施の形態2に係る多重横モードレーザを示す上面図である。実施の形態1と同様の構成要素又は対応する構成要素には同じ番号を付し、説明を省略する。
実施の形態3に係る多重横モードレーザについて図面を参照しながら説明する。図8は実施の形態3に係る多重横モードレーザを示す上面図である。実施の形態1と同様の構成要素又は対応する構成要素には同じ番号を付し、説明を省略する。
実施の形態4に係る多重横モードレーザについて図面を参照しながら説明する。図9は実施の形態4に係る多重横モードレーザを示す上面図である。実施の形態1と同様の構成要素又は対応する構成要素には同じ番号を付し、説明を省略する。
12 後端面
14 レーザ光
16 n型半導体基板(半導体基板)
18 n型クラッド層(第1導電型半導体層)
20 活性層
22 p型クラッド層(第2導電型半導体層)
24 絶縁膜
26 開口
26b,26c フレア領域
26d 領域
28 p電極(上部電極)
30 n電極(下部電極)
Claims (4)
- 前端面と後端面を有し、多重横モードで発振して前記前端面からレーザ光を出射する多重横モードレーザであって、
半導体基板と、
前記半導体基板上に順次形成された第1導電型半導体層、活性層、及び第2導電型半導体層と、
前記第2導電型半導体層上に形成され、共振器方向に延びるストライプ状の開口を有する絶縁膜と、
前記絶縁膜の前記開口を介して前記第2導電型半導体層に接続された上部電極と、
前記半導体基板の下面に接続された下部電極とを備え、
前記開口は、前記前端面の近傍において前記前端面に向かってストライプ幅が広くなる領域を有することを特徴とする多重横モードレーザ。 - 前記開口は、前記後端面の近傍において前記後端面に向かってストライプ幅が広くなる領域を更に有することを特徴とする請求項1に記載の多重横モードレーザ。
- 前端面と後端面を有し、多重横モードで発振して前記前端面からレーザ光を出射する多重横モードレーザであって、
半導体基板と、
前記半導体基板上に順次形成された第1導電型半導体層、活性層、及び第2導電型半導体層と、
前記第2導電型半導体層上に形成され、共振器方向に延びるストライプ状の開口を有する絶縁膜と、
前記絶縁膜の前記開口を介して前記第2導電型半導体層に接続された上部電極と、
前記半導体基板の下面に接続された下部電極とを備え、
前記開口は、前記後端面側から前記前端面側に向かって徐々にストライプ幅が広くなることを特徴とする多重横モードレーザ。 - 前端面と後端面を有し、多重横モードで発振して前記前端面からレーザ光を出射する多重横モードレーザであって、
半導体基板と、
前記半導体基板上に順次形成された第1導電型半導体層、活性層、及び第2導電型半導体層と、
前記第2導電型半導体層上に形成され、共振器方向に延びるストライプ状の開口を有する絶縁膜と、
前記絶縁膜の前記開口を介して前記第2導電型半導体層に接続された上部電極と、
前記半導体基板の下面に接続された下部電極とを備え、
前記開口は、前記前端面の近傍において前記前端面に向かってストライプ幅が狭くなる領域を有することを特徴とする多重横モードレーザ。
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