JP2011139015A5 - - Google Patents

Description

請求項２の発明は、請求項１の発明において、前記回転浮上体の水平方向の位置情報を検出する水平方向位置センサ部と、前記回転浮上体の回転角度を検出するエンコーダ部と、前記水平方向位置センサ部の出力と前記エンコーダ部の出力とに基づいて前記回転ＸＹ用電磁石群の磁気吸引力を制御するための制御電流を供給して回転トルクと前記回転浮上体の径方向の力とをコントロールする回転ＸＹ用制御部と、を備えたことを特徴とする。

請求項３の発明は、請求項２の発明において、前記回転浮上体には、前記回転浮上体の回転方向から傾斜した測定面を有するホームポジション調整部が設けられており、前記処理容器側には前記ホームポジション調整部を検出するホーム検出センサ部が設けられていることを特徴とする。
請求項４の発明は、請求項３の発明において、前記ホームポジション調整部は、所定の角度で接する一対の前記測定面を有しており、該一対の測定面のなす角度を通る前記回転浮上体の半径方向に対する直線が２等分線となるように設定されていることを特徴とする。
請求項５の発明は、請求項４の発明において、前記一対の測定面は、前記水平方向位置センサ部に対応した位置にＶ字状に削り取られた面取り部よりなり、該面取り部は前記回転浮上体の周方向に沿って所定の間隔で複数個形成されていることを特徴とする。

請求項６の発明は、請求項５の発明において、前記水平方向位置センサ部は、前記ホーム検出センサ部を兼用しており、前記回転ＸＹ用制御部は、前記回転浮上体を停止する時に前記面取り部の深さを認識することにより前記回転浮上体をホームポジションに停止させるように構成したことを特徴とする。
請求項７の発明は、請求項３又は４の発明において、前記回転ＸＹ用制御部は、前記回転浮上体を停止する時に前記ホーム検出センサ部の出力に基づいて前記測定面の前記回転浮上体の半径方向への位置を認識することにより前記回転浮上体をホームポジションに停止させるように構成したことを特徴とする。

請求項８の発明は、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の発明において、前記回転浮上体には、原点を示す原点マークが設けられており、前記処理容器には、前記原点マークを検出する原点センサ部が設けられていることを特徴とする。

請求項９の発明は、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の発明において、前記浮上用電磁石群は、２つの電磁石で１組が形成される浮上用電磁石ユニットを複数組有すると共に前記２つの電磁石の背面側はヨークにより連結され、前記複数組の浮上用電磁石ユニットは、前記処理容器の周方向に沿って所定の間隔で配置されていることを特徴とする。
請求項１０の発明は、請求項１乃至９のいずれか一項に記載の発明において、前記回転ＸＹ用電磁石群は、２つの電磁石で１組が形成される回転ＸＹ用電磁石ユニットを複数組有すると共に前記２つの電磁石の背面側はヨークにより連結され、前記複数組の回転ＸＹ用電磁石ユニットは、前記処理容器の周方向に沿って所定の間隔で配置されていることを特徴とする。

請求項１１の発明は、請求項１０の発明において、前記回転ＸＹ用電磁石ユニットの２つの電磁石は、前記処理容器の高さ方向の位置を所定の間隔だけ異ならせて配置され、前記処理容器の内側には前記回転ＸＹ用電磁石ユニットの２つの電磁石に対応させて強磁性材料よりなる一対の磁極が所定の間隔を隔て前記処理容器の周方向に沿って延在させて設けられていることを特徴とする。
請求項１２の発明は、請求項１１の発明において、前記浮上用電磁石群は、前記処理容器の底部側に設けられていることを特徴とする。
請求項１３の発明は、請求項１１の発明において、前記浮上用電磁石群は、前記処理容器の天井部側に設けられていることを特徴とする。

請求項１４の発明は、請求項１の発明において、前記回転浮上体の垂直方向の位置情報を検出する垂直方向位置センサ部と、前記垂直方向位置センサ部の出力に基づいて磁気吸引力を制御するために前記浮上用電磁石群へ制御電流を供給する浮上用制御部と、を有することを特徴とする。
請求項１５の発明は、請求項１４の発明において、前記回転浮上体の水平方向の位置情報を検出する水平方向位置センサ部と、前記回転浮上体の回転角度を検出するエンコーダ部と、前記水平方向位置センサ部の出力と前記エンコーダ部の出力とに基づいて前記回転ＸＹ用電磁石群の磁気吸引力を制御するための制御電流を供給して回転トルクと前記回転浮上体の径方向の力とをコントロールする回転ＸＹ用制御部と、を備えたことを特徴とする。
請求項１６の発明は、請求項１４の発明において、前記垂直方向位置センサ部に対向する前記回転浮上体の表面には、測定光を拡散反射させる拡散反射面が形成されていることを特徴とする。
請求項１７の発明は、請求項１５の発明において、前記水平方向位置センサ部に対向する前記回転浮上体の表面には、測定光を拡散反射させる拡散反射面が形成されていることを特徴とする。
請求項１８の発明は、請求項１６又は１７の発明において、前記拡散反射面は、ブラスト処理により形成されていることを特徴とする。

請求項１９の発明は、請求項１８の発明において、前記ブラスト処理時のブラスト粒の大きさは、＃１００（番手１００）〜＃３００（番手３００）の範囲内であることを特徴とする。
請求項２０の発明は、請求項１９の発明において、前記ブラスト粒の材料は、ガラス、セラミック、ドライアイスよりなる群から選択される１の材料よりなることを特徴とする。
請求項２１の発明は、請求項１８乃至２０のいずれか一項に記載の発明において、前記ブラスト処理前のブラスト対象面の平均表面粗さは、目標とするブラスト処理後の平均表面粗さよりも小さく設定されていることを特徴とする。

請求項２２の発明は、請求項１８乃至２１のいずれか一項に記載の発明において、前記ブラスト処理後の前記拡散反射面には、アルマイト膜が形成されていることを特徴とする。
請求項２３の発明は、請求項１６又は１７の発明において、前記拡散反射面は、エッチング処理により形成されていることを特徴とする。
請求項２４の発明は、請求項１６又は１７の発明において、前記拡散反射面は、被膜処理により形成されていることを特徴とする。

請求項２５の発明は、被処理体に対して所定の処理を施すための請求項１乃至２４のいずれか一項に記載の処理装置の動作方法において、浮上用電磁石群によって浮上用吸着体に対して磁気吸引力を作用させて回転浮上体の傾きを調整しつつ浮上させると共に、回転ＸＹ用電磁石群によって回転ＸＹ用吸着体に磁気吸引力を作用させて前記回転浮上体の水平方向の位置を調整しつつ前記回転浮上体を回転させるようにしたことを特徴とする。

請求項２６の発明は、請求項２５の発明において、前記浮上用電磁石群を制御する浮上用制御部と、前記回転ＸＹ用電磁石群を制御する回転ＸＹ用制御部は、予め前記回転浮上体を回転駆動することによって得られた特性上のバラツキをバラツキデータとして有しており、前記被処理体の処理時に前記バラツキデータを参照してそれぞれ制御するようにしたことを特徴とする。
請求項２７の発明は、請求項２５又は２６の発明において、前記浮上用電磁石群を制御する浮上用制御部と、 前記回転ＸＹ用電磁石群を制御する回転ＸＹ用制御部は、予め前記回転浮上体を回転させることによって得られた前記回転浮上体の歪みを示す歪みデータとして有しており、前記被処理体の処理時に前記歪みデータを参照してそれぞれ制御するようにしたことを特徴とする。

請求項２８の発明は、請求項２５乃至２７のいずれか一項に記載の発明において、前記処理装置の回転ＸＹ用制御部は、前記回転浮上体を停止させる時には、前記回転浮上体の回転角度を検出するエンコーダ部の出力と前記回転浮上体に形成した測定面を有するホームポジション調整部に対するホーム検出センサ部の出力とに基づいて前記回転浮上体をホームポジションに停止させるようにしたことを特徴とする。
請求項２９の発明は、請求項２８の発明において、前記ホームポジション調整部は、Ｖ字状に形成された一対の測定面よりなる面取り部を前記回転浮上体の周方向に沿って複数個配置してなり、前記ホーム検出センサ部は、前記回転浮上体の水平方向の位置を検出する水平方向位置センサ部と兼用されていることを特徴とする。

請求項３０の発明は、請求項２５乃至２９のいずれか一項に記載の発明において、前記回転浮上体の回転を開始する時に前記回転浮上体の回転位置が不明な場合には、前記回転浮上体が予め定めたホームポジションに停止しているものと仮定していずれか一方の方向へ回転させるような制御電流を前記回転ＸＹ用電磁石群に流す工程と、前記回転浮上体が回転しない時には前記回転ＸＹ用電磁石群の電磁石を所定の角度ずらして励磁するような制御電流を前記回転ＸＹ用電磁石群に流す工程と、前記回転浮上体が回転しても速度が低下する場合には逆方向へ回転させるような制御電流を前記回転ＸＹ用電磁石群に流す工程と、前記回転浮上体の原点マークが原点センサ部を通過した時に原点位置であることを認識してエンコーダ部をリセットする工程と、を有することを特徴とする。

Claims (30)

1. 被処理体に対して所定の処理を施す処理装置において、
   排気可能になされた処理容器と、
   前記処理容器内に配置されて上端側で前記被処理体を支持する非磁性材料よりなる回転浮上体と、
   前記回転浮上体にその周方向に沿って所定の間隔で設けられた磁性材料よりなる複数の回転ＸＹ用吸着体と、
   前記回転浮上体にその周方向に沿って設けられた磁性材料よりなるリング状の浮上用吸着体と、
   前記処理容器の外側に設けられて前記浮上用吸着体に垂直方向上方に向かう磁気吸引力を作用させて前記回転浮上体の傾きを調整しつつ浮上させる浮上用電磁石群と、
   前記処理容器の外側に設けられて前記回転ＸＹ用吸着体に磁気吸引力を作用させて前記浮上された前記回転浮上体を水平方向で位置調整しつつ回転させる回転ＸＹ用電磁石群と、
   前記処理容器内へ必要なガスを供給するガス供給手段と、
   前記被処理体に所定の処理を施す処理機構と、
   装置全体の動作を制御する装置制御部と、
   を備えたことを特徴とする処理装置。
2. 前記回転浮上体の水平方向の位置情報を検出する水平方向位置センサ部と、
   前記回転浮上体の回転角度を検出するエンコーダ部と、
   前記水平方向位置センサ部の出力と前記エンコーダ部の出力とに基づいて前記回転ＸＹ用電磁石群の磁気吸引力を制御するための制御電流を供給して回転トルクと前記回転浮上体の径方向の力とをコントロールする回転ＸＹ用制御部と、
   を備えたことを特徴とする請求項１記載の処理装置。
3. 前記回転浮上体には、前記回転浮上体の回転方向から傾斜した測定面を有するホームポジション調整部が設けられており、前記処理容器側には前記ホームポジション調整部を検出するホーム検出センサ部が設けられていることを特徴とする請求項２記載の処理装置。
4. 前記ホームポジション調整部は、所定の角度で接する一対の前記測定面を有しており、該一対の測定面のなす角度を通る前記回転浮上体の半径方向に対する直線が２等分線となるように設定されていることを特徴とする請求項３記載の処理装置。
5. 前記一対の測定面は、前記水平方向位置センサ部に対応した位置にＶ字状に削り取られた面取り部よりなり、該面取り部は前記回転浮上体の周方向に沿って所定の間隔で複数個形成されていることを特徴とする請求項４記載の処理装置。
6. 前記水平方向位置センサ部は、前記ホーム検出センサ部を兼用しており、前記回転ＸＹ用制御部は、前記回転浮上体を停止する時に前記面取り部の深さを認識することにより前記回転浮上体をホームポジションに停止させるように構成したことを特徴とする請求項５記載の処理装置。
7. 前記回転ＸＹ用制御部は、前記回転浮上体を停止する時に前記ホーム検出センサ部の出力に基づいて前記測定面の前記回転浮上体の半径方向への位置を認識することにより前記回転浮上体をホームポジションに停止させるように構成したことを特徴とする請求項３又は４記載の処理装置。
8. 前記回転浮上体には、原点を示す原点マークが設けられており、前記処理容器には、前記原点マークを検出する原点センサ部が設けられていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の処理装置。
9. 前記浮上用電磁石群は、
   ２つの電磁石で１組が形成される浮上用電磁石ユニットを複数組有すると共に前記２つの電磁石の背面側はヨークにより連結され、
   前記複数組の浮上用電磁石ユニットは、前記処理容器の周方向に沿って所定の間隔で配置されていることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の処理装置。
10. 前記回転ＸＹ用電磁石群は、
    ２つの電磁石で１組が形成される回転ＸＹ用電磁石ユニットを複数組有すると共に前記２つの電磁石の背面側はヨークにより連結され、
    前記複数組の回転ＸＹ用電磁石ユニットは、前記処理容器の周方向に沿って所定の間隔で配置されていることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか一項に記載の処理装置。
11. 前記回転ＸＹ用電磁石ユニットの２つの電磁石は、前記処理容器の高さ方向の位置を所定の間隔だけ異ならせて配置され、前記処理容器の内側には前記回転ＸＹ用電磁石ユニットの２つの電磁石に対応させて強磁性材料よりなる一対の磁極が所定の間隔を隔て前記処理容器の周方向に沿って延在させて設けられていることを特徴とする請求項１０記載の処理装置。
12. 前記浮上用電磁石群は、前記処理容器の底部側に設けられていることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の処理装置。
13. 前記浮上用電磁石群は、前記処理容器の天井部側に設けられていることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の処理装置。
14. 前記回転浮上体の垂直方向の位置情報を検出する垂直方向位置センサ部と、
    前記垂直方向位置センサ部の出力に基づいて磁気吸引力を制御するために前記浮上用電磁石群へ制御電流を供給する浮上用制御部と、
    を有することを特徴とする請求項１記載の処理装置。
15. 前記回転浮上体の水平方向の位置情報を検出する水平方向位置センサ部と、
    前記回転浮上体の回転角度を検出するエンコーダ部と、
    前記水平方向位置センサ部の出力と前記エンコーダ部の出力とに基づいて前記回転ＸＹ用電磁石群の磁気吸引力を制御するための制御電流を供給して回転トルクと前記回転浮上体の径方向の力とをコントロールする回転ＸＹ用制御部と、
    を備えたことを特徴とする請求項１４記載の処理装置。
16. 前記垂直方向位置センサ部に対向する前記回転浮上体の表面には、測定光を拡散反射させる拡散反射面が形成されていることを特徴とする請求項１４記載の処理装置。
17. 前記水平方向位置センサ部に対向する前記回転浮上体の表面には、測定光を拡散反射させる拡散反射面が形成されていることを特徴とする請求項１５記載の処理装置。
18. 前記拡散反射面は、ブラスト処理により形成されていることを特徴とする請求項１６又は１７記載の処理装置。
19. 前記ブラスト処理時のブラスト粒の大きさは、＃１００（番手１００）〜＃３００（番手３００）の範囲内であることを特徴とする請求項１８記載の処理装置。
20. 前記ブラスト粒の材料は、ガラス、セラミック、ドライアイスよりなる群から選択される１の材料よりなることを特徴とする請求項１９記載の処理装置。
21. 前記ブラスト処理前のブラスト対象面の平均表面粗さは、目標とするブラスト処理後の平均表面粗さよりも小さく設定されていることを特徴とする請求項１８乃至２０のいずれか一項に記載の処理装置。
22. 前記ブラスト処理後の前記拡散反射面には、アルマイト膜が形成されていることを特徴とする請求項１８乃至２１のいずれか一項に記載の処理装置。
23. 前記拡散反射面は、エッチング処理により形成されていることを特徴とする請求項１６又は１７記載の処理装置。
24. 前記拡散反射面は、被膜処理により形成されていることを特徴とする請求項１６又は１７記載の処理装置。
25. 被処理体に対して所定の処理を施すための請求項１乃至２４のいずれか一項に記載の処理装置の動作方法において、
    浮上用電磁石群によって浮上用吸着体に対して磁気吸引力を作用させて回転浮上体の傾きを調整しつつ浮上させると共に、
    回転ＸＹ用電磁石群によって回転ＸＹ用吸着体に磁気吸引力を作用させて前記回転浮上体の水平方向の位置を調整しつつ前記回転浮上体を回転させるようにしたことを特徴とする処理装置の動作方法。
26. 前記浮上用電磁石群を制御する浮上用制御部と、
    前記回転ＸＹ用電磁石群を制御する回転ＸＹ用制御部は、
    予め前記回転浮上体を回転駆動することによって得られた特性上のバラツキをバラツキデータとして有しており、
    前記被処理体の処理時に前記バラツキデータを参照してそれぞれ制御するようにしたことを特徴とする請求項２５記載の処理装置の動作方法。
27. 前記浮上用電磁石群を制御する浮上用制御部と、
    前記回転ＸＹ用電磁石群を制御する回転ＸＹ用制御部は、
    予め前記回転浮上体を回転させることによって得られた前記回転浮上体の歪みを示す歪みデータとして有しており、
    前記被処理体の処理時に前記歪みデータを参照してそれぞれ制御するようにしたことを特徴とする請求項２５又は２６記載の処理装置の動作方法。
28. 前記処理装置の回転ＸＹ用制御部は、前記回転浮上体を停止させる時には、前記回転浮上体の回転角度を検出するエンコーダ部の出力と前記回転浮上体に形成した測定面を有するホームポジション調整部に対するホーム検出センサ部の出力とに基づいて前記回転浮上体をホームポジションに停止させるようにしたことを特徴とする請求項２５乃至２７のいずれか一項に記載の処理装置の動作方法。
29. 前記ホームポジション調整部は、Ｖ字状に形成された一対の測定面よりなる面取り部を前記回転浮上体の周方向に沿って複数個配置してなり、前記ホーム検出センサ部は、前記回転浮上体の水平方向の位置を検出する水平方向位置センサ部と兼用されていることを特徴とする請求項２８記載の処理装置の動作方法。
30. 前記回転浮上体の回転を開始する時に前記回転浮上体の回転位置が不明な場合には、前記回転浮上体が予め定めたホームポジションに停止しているものと仮定していずれか一方の方向へ回転させるような制御電流を前記回転ＸＹ用電磁石群に流す工程と、
    前記回転浮上体が回転しない時には前記回転ＸＹ用電磁石群の電磁石を所定の角度ずらして励磁するような制御電流を前記回転ＸＹ用電磁石群に流す工程と、
    前記回転浮上体が回転しても速度が低下する場合には逆方向へ回転させるような制御電流を前記回転ＸＹ用電磁石群に流す工程と、
    前記回転浮上体の原点マークが原点センサ部を通過した時に原点位置であることを認識してエンコーダ部をリセットする工程と、
    を有することを特徴とする請求項２５乃至２９のいずれか一項に記載の処理装置の動作方法。