JP2020500257A - 堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための装置、キャリアを非接触搬送するためのシステム、堆積システムにおいて非接触搬送されるキャリア、及び堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための方法 - Google Patents

堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための装置、キャリアを非接触搬送するためのシステム、堆積システムにおいて非接触搬送されるキャリア、及び堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための方法 Download PDF

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Abstract

本開示は、堆積システムにおいてキャリア（２２０）を非接触搬送するための装置を提供するものである。本装置は、搬送方向（１）にキャリア（２２０）を移動させるための駆動構造（２１０）と、駆動構造（２１０）における位置検出デバイス（２１５）とを含む。【選択図】図２

Description

［０００１］本開示の実施形態は、堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための装置、キャリアを非接触搬送するためのシステム、堆積システムにおいて非接触搬送されるキャリア、及び堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための方法に関する。本開示の実施形態は、具体的には、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）デバイスの製造で使用される基板及び／又はマスクを保持するための静電チャック（Ｅチャック）に関する。
［０００２］基板上に層を堆積させる技法には、例えば、熱蒸着、物理的気相堆積（ＰＶＤ）、及び化学気相堆積（ＣＶＤ）が含まれる。コーティングされた基板は、様々な用途や技術分野で使用することができる。例えば、コーティングされた基板は、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）デバイスの分野で使用され得る。ＯＬＥＤは、情報を表示するためのテレビ画面、コンピュータモニタ、携帯電話、その他の携帯型デバイスなどの製造において使用されうる。ＯＬＥＤディスプレイなどのＯＬＥＤデバイスは、２つの電極の間に配置された有機材料の一又は複数の層を含んでもよく、これらは、すべて基板上に堆積される。
［０００３］処理中、基板は、基板と光学マスクを保持するように構成されたキャリア上で支持されうる。キャリアは、磁力を使用して、真空堆積システム等の堆積システム内で非接触搬送されうる。有機発光デバイスなどの用途において、基板上に堆積される有機層の純度及び均一性は高くなければならない。更に、基板の破壊に起因してスループットを低下させることなく、非接触搬送を利用して基板及びマスクを支持するキャリアのハンドリング及び搬送を行うことは困難である。
［０００４］以上の観点から、当該技術の少なくとも幾つかの問題を克服するような、堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための新たな装置、キャリアを非接触搬送するためのシステム、堆積システムにおいて非接触搬送されるキャリア、及び堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための方法が有益である。本開示は特に、例えば真空堆積システム等の堆積システムにおいて効率的に、また円滑に搬送されうるキャリアを提供することを目指すものである。
［０００５］上記を受けて、堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための装置、キャリアを非接触搬送するためのシステム、堆積システムにおいて非接触搬送されるキャリア、及び堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための方法が提供される。本開示の別の態様、利点、及び特徴は、特許請求の範囲、明細書、及び添付図面から明らかになる。
［０００６］本開示の一態様によれば、堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための装置が提供される。本装置は、搬送方向にキャリアを移動させるための駆動構造と、駆動構造における位置検出デバイスとを含む。
［０００７］本開示の別の態様によれば、キャリアを非接触搬送するためのシステムが提供される。本システムは、本開示に係るキャリアを非接触搬送するための装置とキャリアとを含む。
［０００８］本開示の別の態様によれば、堆積システムにおいて非接触搬送されるキャリアが提供される。キャリアは、キャリアを搬送方向に移動させるために、堆積システムの駆動構造と磁気的に相互作用するように構成された磁石構造と、位置検出デバイスとを含む。
［０００９］本開示の一態様によれば、堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための方法が提供される。本方法は、駆動構造における位置検出デバイス又はキャリア上の位置検出デバイスを使用して、キャリアの位置及び速度のうちの少なくとも１つを示す少なくとも１つの信号を生成することと、少なくとも１つの信号に基づいて堆積システムの一または複数の第１の能動磁気ユニットの少なくとも１つの能動磁気ユニットを制御することとを含む。
［００１０］本開示の別の態様によれば、堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための装置が提供される。本装置は、少なくとも１つのガイドユニットを含む。少なくとも１つのガイドユニットは、能動磁気ユニットと、２つ以上の距離センサとを含む。能動磁気ユニットは、２つ以上の距離センサの間に配置される。
［００１１］実施形態は、開示の方法を実施するための装置も対象としており、記載の各方法の態様を実行するための装置部分を含む。これらの方法の態様は、ハードウェア構成要素、適切なソフトウェアによってプログラミングされたコンピュータを用いて、これらの２つの任意の組合せによって、又はそれ以外の任意の方法で、実施されうる。さらに、本開示に係る実施形態は、記載の装置を作動させる方法も対象としている。記載の装置を作動させる方法は、装置のあらゆる機能を実施するための方法の態様を含む。
［００１２］上述した本開示の特徴を詳細に理解できるように、実施形態を参照しながら、上記に要約した本開示をより具体的に説明する。添付の図面は本開示の実施形態に関するものであり、下記でそれらについて説明する。
キャリアとガイド構造とを示す概略図である。 本書に記載の実施形態に係る、非接触搬送するための装置及びキャリアを示す概略図である。 本書に記載の別の実施形態に係る、非接触搬送するための装置及びキャリアを示す概略図である。 本書に記載の実施形態に係る、非接触搬送するための装置及びキャリアを示す概略図である。 本書に記載の実施形態に係る、非接触搬送するための装置及びキャリアを示す概略図である。 本書に記載の実施形態に係る、基板を処理するためのシステムを示す概略図である。 本書に記載の更なる実施形態に係る、基板を処理するためのシステムを示す概略図である。 本書に記載の実施形態に係る、堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための方法を示すフロー図である。
［００１３］本開示の様々な実施形態について、これより詳細に参照する。これらの実施形態の一又は複数の実施例を図面に示す。図面についての以下の説明の中で、同じ参照番号は同じ構成要素を表す。概して、個々の実施形態に関する相違のみが説明される。各実施例は、本開示の説明のために提供されるが、本開示を限定することを意図しているわけではない。更に、１つの実施形態の一部として図示又は説明されている特徴は、また更なる実施形態を創出するために、他の実施形態で使用されることも、他の実施形態と併用されることも可能である。説明には、このような修正例及び変形例が含まれるように意図されている。
［００１４］堆積システムの堆積チャンバ内で基板及び／又はマスクを保持し搬送するために、真空堆積システムなどの堆積システムにおいてキャリアを使用することが可能である。例えば、基板がキャリア上に支持されている間に、一又は複数の材料層を基板上に堆積させることができる。有機発光デバイスなどの用途では、基板上に堆積される有機層の高い純度及び均一性は利点になりうる。更に、基板の破損を削減するために、堆積システム内のキャリアの滑らかな搬送は有益である。
［００１５］本開示の実施形態によれば、例えばエンコーダ又はレゾルバ等の位置検出デバイスを使用して、堆積システムにおけるキャリアの位置及び／又は速度が決定される。ある実施例では、位置検出デバイスは、堆積システムの搬送構成部の駆動構造に配設されうる。別の実施例では、位置検出デバイスは、キャリアとともに搬送されるように、キャリアに配設されうる。キャリアの位置及び／又は速度を使用して、例えばキャリアを浮上させるのに使われる能動磁気ユニット等の、搬送構成部を選択的に制御することができる。キャリアの滑らかな搬送が達成されうる。
［００１６］図１に、キャリア１００と、水平方向であってよい搬送方向１にキャリア１００を非接触搬送するように構成された搬送構成部の一部の概略図を示す。
［００１７］搬送構成部は、能動ガイド構造であってよいガイド構造１１０を含む。ガイド構造１１０は、搬送方向１に沿って配置された複数のガイドユニット１１１を含む。各ガイドユニット１１１は、例えば能動磁気ユニット１１２等の（例えば電磁）アクチュエータと、アクチュエータを制御するように構成されたコントローラ１１４と、キャリア１００までの間隙を測定するように構成された距離センサ（図示せず）とを含む。ガイド構造１１０は、磁力を利用してキャリア１００を非接触浮上させるように構成されうる。
［００１８］キャリア１００がガイドユニット１１１に近づくあるいはガイドユニット１１１から遠ざかるときに、浮上精度及び／又は浮上安定性に影響が出る場合がある。詳細には、キャリア１００がガイドユニット１１１に近づく又はガイドユニット１１１から遠ざかるときに、キャリア１００の突然の加速又は減速につながりうる相当な力及び／又はパルス状の力が生成されうる。この力は、ガイド構造１１０、特に複数のガイドユニット１１１（例えば一または複数の電磁気アクチュエータ及び距離センサ）の構成要素の幾何学的な配置及び構成によって変化しうる。この力によりキャリア１００の望ましくない突然の移動が起こる場合があり、キャリア１００とガイド構造１１０との間の偶発的な機械的接触さえも起こる可能性がある。キャリア１００、基板及び／又はガイド構造１１０が破損する場合がある。更に、堆積処理の品質を低下させる粒子が生成されうる。
［００１９］浮上力の方向、特にアクチュエータによって付与される磁力の方向（例えば、垂直方向３）におけるパルス状の力又は力の変化は、キャリア１００が例えば距離センサの下から突然消えたときに生じうる。この結果、距離センサにおいて、キャリアが距離センサから例えば垂直方向３等の距離（又は測定）方向に高速移動で離れた場合と同じ信号値が得られうる。つまり、距離センサは間隙の拡大を示す。信号の変化により、「移動している」キャリア１００がガイド構造１１０とキャリア１００との間の設定距離に戻るように、コントローラにアクチュエータの力を強力に変えさせることができる。
［００２０］更に、キャリア１００がガイドユニット１１１に近づく又はガイドユニット１１１から遠ざかるときに、搬送方向１に沿った力成分が生成されうる。力成分は、キャリア１００の更なる搬送を妨げるのに十分強いものであってもよい。搬送方向１に沿った力成分は、キャリアの前面及び／又は後面（例えば前縁又は後縁）に作用するアクチュエータの磁気抵抗から生じうる。これを、キャリア１００の後面における磁場線によって、図１に例示的に示す。
［００２１］図２に、本書に記載の実施形態に係る、堆積システムにおいてキャリア２２０を非接触搬送するための装置の概略図を示す。
［００２２］本装置は、搬送方向１にキャリア２２０を移動させるための駆動構造２１０と、例えばエンコーダデバイス２１５等の位置検出デバイスとを含む。一実施例では、位置検出デバイスは駆動構造２１０に配設され、堆積システムの搬送構成部の固定部分であってよい。別の実施例では、キャリア２２０は、位置検出デバイスを含む。具体的には、位置検出デバイスは、キャリア２２０とともに移動するように、キャリア２２０に装着されていてよい。キャリア２２０は、第１の端部２０１と第２の端部２０２とを有しうる。第１の端部はキャリア２２０の前縁であってよく、第２の端部はキャリア２２０の後縁でありうる。
［００２３］本書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、位置検出デバイスは、キャリアの位置及び／又は速度についての情報を提供するように構成されうる。ある実施例では、位置検出デバイスは、エンコーダ又はレゾルバであってよい。本開示内容全体で使用する用語「位置検出デバイス」、「エンコーダ」、「エンコーダデバイス」、及び「レゾルバ」は、例えば堆積システム内の絶対位置、例えばガイド構造に対する相対位置、及び／又はキャリアの速度等のキャリアについての位置情報を提供することができるデバイスという意味で理解すべきである。ある実施形態では、キャリアの絶対位置及び／又は相対位置等の位置は、速度又は速度プロファイル及びキャリアの開始点等の基準点を使用して取得することができる。
［００２４］ある実行形態では、位置検出デバイスは、例えばキャリアの位置及び／又は速度についての追加情報を取得するために、駆動構造の一または複数の動作パラメータを使用しうる。一または複数の動作パラメータには、非限定的に、例えば駆動構造の一または複数の第２の能動磁気ユニットを通して流れる電流等の動作電力が含まれうる。
［００２５］キャリア２２０は、例えば堆積システムの真空チャンバ等の一または複数のチャンバを通って、及び詳細には例えば直線搬送路等の搬送路に沿って少なくとも１つの堆積エリアを通って非接触搬送されるように構成される。キャリア２２０は、水平方向であってよい搬送方向１に非接触搬送されるように構成されうる。
［００２６］本書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、堆積システムは、堆積システムにおいてキャリア２２０を非接触浮上させる、及び／又は非接触搬送するように構成された搬送構成部を含みうる。ある実行形態では、装置、特に搬送構成部は、キャリア２２０を浮上させるためのガイド構造２３０と、搬送方向１にキャリア２２０を移動させるための駆動構造２１０とを含む。
［００２７］ガイド構造２３０は、キャリア２２０の第１の磁石構造２２２と磁気的に相互作用するように構成された一または複数の第１の能動磁気ユニット１１２を有しうる。第１の磁石構造２２２は、ガイド構造２３０と磁気的に相互作用するように構成された一または複数の第１の磁気ユニットからなっていてよい。ある実行形態では、一または複数の第１の磁気ユニットは、例えば永久磁気ユニット及び／又は強磁性体部品等の受動磁気ユニットであってよい。
［００２８］本書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、キャリア２２０は、キャリア２２０を搬送方向１に移動させるための駆動構造２１０と磁気的に相互作用するように構成された一または複数の第２の磁気ユニット（図示せず）からなる第２の磁石構造を含む。幾つかの実行形態では、一または複数の第２の磁気ユニットは受動磁気ユニット、例えば強磁性体であってよい。ガイド構造２３０と駆動構造２１０は、キャリア２２０の対向する端又は端部に配置されうる。詳細には、一または複数の第１の磁気ユニットと一または複数の第２の磁気ユニットは、キャリア２２０の対向する端あるいは端部に配置されうる。
［００２９］堆積システム、及び具体的には搬送構成部は、複数のガイドユニット１１１を有するガイド構造２３０を含みうる。各ガイドユニット１１１は、例えば第１の能動磁気ユニット１１２等のアクチュエータ、アクチュエータを制御するように構成されたユニットコントローラ１１４、及びオプションとして、磁石構造、特にそれらの一または複数の第１の磁気ユニットと、アクチュエータとの間の間隙を感知する又は測定するように構成された距離センサ１１８を含みうる。間隙は、例えば垂直方向３又は水平方向２等の搬送方向１に対して直角の方向に測定されうる。詳細には、距離センサ１１８は、一または複数の第１の磁気ユニットと第１の能動磁気ユニット１１２との間の間隙を感知する又は測定するために、例えばキャリア２２０が距離センサ１１８にある時に、一または複数の第１の磁気ユニットに面するように配置されうる。
［００３０］ユニットコントローラ１１４は、エンコーダデバイス２１５によって提供される情報に基づき、またオプションとして距離センサ１１８によって提供される情報に基づいて、第１の能動磁気ユニット１１２によって提供される磁力を調節するために、第１の能動磁気ユニット１１２を制御するように構成されうる。詳細には、ユニットコントローラ１１４は、キャリア２２０が堆積システムを通って搬送されている間、一または複数の第１の磁気ユニットと能動磁気ユニット１１２との間の距離が基本的に一定となるように、第１の能動磁気ユニット１１２を制御するように構成されうる。図２には、各ガイドユニット１１１がユニットコントローラを有することを例示的に示したが、本開示はこれに限定されず、ユニットコントローラは２つ以上のガイドユニットに割り当てられうることを理解すべきである。例えば、単一のユニットコントローラが全てのガイドユニット用に配設されうる。
［００３１］本書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、ある実施形態によれば、装置は、ガイド構造２３０及び／又は駆動構造２１０を制御するように構成されたコントローラ２４０（「システムコントローラ」又は「メインコントローラ」とも称される）を含む。コントローラ２４０は、駆動構造２１０、具体的にはエンコーダデバイス２１５に無線接続又は有線接続することが可能である。ある実施形態では、コントローラ２４０は、例えばバス２４２を介してガイド構造２３０に接続されうる。具体的には、コントローラ２４０は、ガイドユニット１１１のユニットコントローラ１１４の各々に接続されうる。コントローラ２４０は、ガイド構造２３０を制御するために、ガイドユニット１１１のユニットコントローラ１１４へ信号又は命令を送るように構成されうる。バス２４２は、有線ベースであってよい、あるいは無線であってよい。
［００３２］ある実行形態では、コントローラ２４０は、一または複数の入力信号に基づいて、一または複数の第１の能動磁気ユニット１１２を選択的に制御するように構成されうる。例えば、コントローラ２４０は、一または複数の第１の能動磁気ユニット１１２を制御するために、制御信号をユニットコントローラ１１４へ送信しうる。エンコーダデバイス２１５及び／又は一または複数の距離センサ１１８によって、一または複数の入力信号が送られうる。例えば、エンコーダデバイス２１５は、一または複数の入力信号の少なくとも１つの第１の入力信号を送るように構成されうる。少なくとも１つの第１の入力信号は、堆積システムにおけるキャリア２２０の位置及び速度のうちの少なくとも１つを示しうる。付加的に、又は代替的に、一または複数の距離センサ１１８は、一または複数の入力信号の少なくとも１つの第２の入力信号を送るように構成されうる。少なくとも１つの第２の入力信号は、一または複数の第１の能動磁気ユニット１１２とキャリア２２０との間の間隙を示しうる。
［００３３］本書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる、ある実施形態では、ガイドユニット１１１のユニットコントローラ１１４は、エンコーダデバイス２１５によって提供される位置情報に基づき、またオプションとして距離センサ１１８によって提供される間隙情報に基づいて、第１の能動磁気ユニット１１２及び／又は距離センサ１１８がキャリア２２０のそれぞれの痕跡から「離れる」前に、第１の能動磁気ユニット１１２を停止することができる。オプションとして、あるいは代替的に、ガイドユニット１１１のユニットコントローラ１１４は、エンコーダデバイス２１５によって提供される位置情報に基づき、またオプションとして距離センサ１１８によって提供される間隙情報に基づいて、第１の能動磁気ユニット１１２及び／又は距離センサ１１８がキャリア２２０のそれぞれの痕跡の方に向いた後にのみ、第１の能動磁気ユニット１１２を始動させることができる。つまり、第１の能動磁気ユニット１１２は、キャリア２２０が第１の能動磁気ユニット１１２から「離れる」前に停止するということである。同様に、停止した第１の能動磁気ユニット１１２は、第１の能動磁気ユニット１１２と、キャリアの磁石構造が重なった後にのみ、始動される。一または複数の第１の能動磁気ユニット１１２の始動及び／又は停止は、段階的、連続的、あるいは突然のものであってよい。エンコーダデバイス２１５により、堆積システムにおける搬送方向１のキャリア２２０の位置についての情報が提供されるため、選択的な始動及び／又は停止が提供されうる。
［００３４］本開示の一態様によれば、キャリアはエンコーダを含む。つまり、エンコーダは搬送構成部に組み込まれていないが、キャリアの一部であるということである。機能性は、上述したものと本質的に同じである。具体的には、エンコーダは、キャリアの位置及び速度のうちの少なくとも１つを示す少なくとも１つの信号を提供するように構成されうる。少なくとも１つの信号は、上述した少なくとも１つの第１の入力信号に対応しうる。ある実施形態によれば、キャリアは、少なくとも１つの信号を堆積システムへ送信するように構成された通信デバイスを含みうる。例えば、通信デバイスは、少なくとも１つの信号を例えば無線であるいはケーブルを介してコントローラ２４０へ送信するように構成されうる。
［００３５］キャリア２２０は、基板処理中、例えば真空処理中に使用される基板及び／又はマスク（図示せず）を保持するように構成されうる。幾つかの実行形態では、キャリア２２０は基板とマスクの両方を支持するように構成可能である。更なる実行形態では、キャリア２２０は基板又はマスクのどちらかを支持するように構成されうる。このような場合、キャリア２２０はそれぞれ「基板キャリア」及び「マスクキャリア」と称されうる。
［００３６］キャリア２２０は支持面を提供する支持構造又は本体２２５を含んでいてよく、支持面は、例えば基板の背面に接触するように構成された基本的に平坦な面であってよい。詳細には、基板は、裏面の反対側の前面（「処理面」とも称される）であって、真空堆積プロセスなどの処理中にその面に層が堆積される前面を有しうる。第１の磁石構造２２２は、本体２２５に設けられ得る。
［００３７］本開示内容全体で使用する「真空（ｖａｃｕｕｍ）」という語は、例えば１０ｍｂａｒ未満の真空圧を有する工業的真空の意味に理解されうる。真空チャンバ内の圧力は、１０−５ｍｂａｒと約１０−８ｍｂａｒとの間、具体的には１０−５ｍｂａｒと１０−７ｍｂａｒとの間、より具体的には約１０−６ｍｂａｒと約１０−７ｍｂａｒとの間であってよい。真空チャンバ内部に真空を発生させるために真空チャンバに接続された、ターボポンプ及び／又はクライオポンプなどの一又は複数の真空ポンプが配設されうる。
［００３８］本開示に係るキャリア２２０は、キャリア２２０で基板及び／又はマスクを保持するための静電力を付与する静電チャック（Ｅチャック）であってよい。例えば、キャリア２２０は、基板及びマスクのうちの少なくとも１つに作用する引力を付与するように構成された電極構成部を含む。電極構成部は、本体２２５に埋め込まれてもよく、又は、本体２２５上に配設（例えば、配置）されてもよい。本書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、本体２２５は誘電プレートなどの誘電体である。誘電体は、誘電材料、好ましくは、熱分解窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、アルミナ、又は等価材料などの高熱伝導性誘電体材料から製造されうるが、ポリイミドなどの材料からも作られうる。一部の実施形態では、電極構成部は、誘電体プレートに載置され、薄型誘電体層で覆われうた微細金属帯の格子などの複数の電極を含む。
［００３９］電極構成部、及び特に複数の電極は、チャック力などの引力をもたらすように構成されうる。引力は、複数の電極（又は支持面）と基板及び／又はマスクとの間のある相対距離で、基板及び／又はマスクに作用する力でありうる。引力は、複数の電極構成部に印加される電圧によってもたらされる静電力でありうる。
［００４０］基板は（Ｅチャックであってよい）キャリア２２０によって、支持面に向かって（例えば、搬送方向に直交する方向に）もたらされる引力によって引き付けられうる。引力は、基板を例えば摩擦力によって垂直位置に保持できるほど十分強力になりうる。具体的には、引力は、基板が支持面上で原則的に不動に固定されるように構成されうる。例えば、摩擦力を利用して０．５ｍｍガラス基板を垂直位置に保持するには、摩擦係数に応じて、約５０〜１００Ｎ／ｍ２（Ｐａ）の引き付け圧力が使用されうる。
［００４１］本書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、キャリア２２０は、基板及び／又はマスクを実質的に垂直な配向に保持又は支持するように構成されている。具体的には、キャリアは垂直配向に搬送されるように構成されうる。本開示内容全体において使用する「ほぼ垂直」という表現は、特に基板の配向を指す場合、垂直方向又は配向から±２０°以下（例えば、±１０°以下）の偏差を許容することであると理解される。例えば、垂直配向から幾らかの偏差を有する基板支持体がより安定した基板位置をもたらす場合があるので、このような偏差が設けることができる。さらに、基板が前方に傾いた場合、基板表面に達する粒子がより少なくなる。ただし、例えば堆積処理中の基板配向は実質的に垂直であるとみなされ、これは、水平±２０°以下であるとみなされ得る水平の基板配向とは異なるとみなされる。
［００４２］「垂直方向」又は「垂直配向」という表現は、「水平方向」又は「水平配向」と区別されると理解される。つまり、「垂直方向」又は「垂直配向」は、例えば、キャリア及び基板の、実質的に垂直な配向に関連するが、厳密な垂直方向又は垂直配向からの数度（例えば、最大１０°、又はさらに最大１５°）の偏差は、依然として「実質的に垂直な方向」又は「実質的に垂直な配向」と見なされる。垂直方向は、重力に対してほぼ平行でありうる。
［００４３］本書に記載の実施形態は、例えば、ＯＬＥＤディスプレイ製造のための大面積基板上の蒸着に利用されうる。特に、本書に記載の実施形態による構造及び方法が提供の対象である基板は、大面積基板である。例えば、大面積基板又はキャリアは、約０．６７ｍ２の表面積（０．７３×０．９２ｍ）に対応するＧＥＮ４．５、約１．４ｍ２の表面積（１．１ｍ×１．３ｍ）に対応するＧＥＮ５、約４．２９ｍ２の表面積（１．９５ｍ×２．２ｍ）に対応するＧＥＮ７．５、約５．７ｍ２の表面積（２．２ｍ×２．５ｍ）に対応するＧＥＮ８．５、又は更に、約８．７ｍ２の表面積（２．８５ｍ×３．０５ｍ）に対応するＧＥＮ１０でありうる。ＧＥＮ１１及びＧＥＮ１２などの更に次の世代及びそれに相当する表面積を同様に実装することも可能である。ＯＬＥＤディスプレイの製造においては、ハーフサイズのＧＥＮ世代も提供されうる。
［００４４］本書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、基板の厚さは０．１〜１．８ｍｍであってよい。基板の厚さは、約０．９ｍｍ以下、例えば０．５ｍｍであってよい。本書で使用する「基板」という語は、例えば、ウエハ、サファイア等の透明な結晶片、又はガラスプレート等の実質的に非フレキシブルな基板を特に包含しうる。しかしながら、本開示はこれらに限定されず、「基板」という用語は、例えばウェブ又はホイル等のフレキシブル基板も含みうる。「実質的に非フレキシブル（ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌｌｙ ｉｎｆｌｅｘｉｂｌｅ）」という語は、「フレキシブル（ｆｌｅｘｉｂｌｅ）」とは区別して理解される。具体的には、０．９ｍｍ以下（例えば０．５ｍｍ以下）の厚さを有するガラスプレートなどの実質的に非フレキシブルな基板もある程度の柔軟性を有しうるが、実質的に非フレキシブルな基板の柔軟性はフレキシブル基板と比較して低い。
［００４５］本書に記載の実施形態によれば、基板は、材料を堆積させるのに適した任意の材料から作られうる。例えば、基板は、ガラス（例えばソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラスなど）、金属、ポリマー、セラミック、複合材料、炭素繊維材料、又は、堆積プロセスによってコーティングされうる他の任意の材料、若しくはかかる材料の組合せからなる群から選択された材料で作られうる。
［００４６］図３に、本開示の別の態様に係る、堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための装置の概略図を示す。
［００４７］本装置は、少なくとも１つのガイドユニット３１１を含む。例えば、複数のガイドユニットは、キャリア３２０の搬送方向１に沿って配置されうる。少なくとも１つのガイドユニット３１１は、能動磁気ユニット３１２と、能動磁気ユニット３１２とキャリア３２０との間の間隙を測定するように構成された２つ以上の距離センサ３１８とを含む。能動磁気ユニット３１２は、２つ以上の距離センサ３１８の間に配置される。具体的には、能動磁気ユニット３１２と２つ以上の距離センサ３１８は、キャリア３２０の搬送方向１に沿って連続的に配置されうる。２つ以上の距離センサ３１８は、本質的に同一のものであってよい。
［００４８］ある実施形態によれば、能動磁気ユニット３１２は、両方のセンサの測定信号の比較に基づいて制御されうる。例えば、能動磁気ユニット３１２は、２つ以上の距離センサ３１８が異なる信号を発信した場合、すなわち２つ以上の距離センサ３１８が異なる間隙を示した場合に、停止されうる。付加的あるいは代替的に、能動磁気ユニット３１２は、２つ以上の距離センサ３１８が本質的に同じ信号を発信した場合、すなわち２つ以上の距離センサ３１８が本質的に同一の間隙を示した場合に、駆動されうる。ある実行形態では、測定された間隙間の差が所定の閾値以下であるときに、測定された間隙は本質的に同じであると決定されうる。測定された間隙間の差が所定の閾値を上回るときに、測定された間隙は異なると決定されうる。ある実施形態によれば、２つ以上の距離センサ３１８が異なる信号を発信した場合、すなわち、２つ以上の距離センサ３１８が異なる間隙を示した場合に、キャリアが近づく能動磁気ユニット３１２が駆動されうる。ある実施形態では、装置は更に、例えばエンコーダ又はレゾルバ等の位置検出デバイスを含みうる。能動磁気ユニットは更に、搬送方向におけるキャリアの滑らかな搬送を達成しうるように、位置検出デバイスによって提供される情報に基づく別のコントローラであってよい。
［００４９］図４Ａ及び図４Ｂに、本書に記載の実施形態に係るキャリア４１０を非接触搬送するための装置４００の概略図を示す。装置及びキャリア４１０は、本書に記載の実施形態にしたがって構成されうる。
［００５０］装置４００は、一または複数の第１の能動磁気ユニット４７５と、本開示に係るキャリア４１０とを含むガイド構造４７０を有する搬送構成部を含む。装置４００はさらに、エンコーダを使用して取得されたデータに基づいて、一または複数の第１の能動磁気ユニット４７５のうちの少なくとも１つの第１の能動磁気ユニットを選択的に制御するように構成されたコントローラを含みうる。本書に記載の幾つかの実施形態によれば、搬送構成部は真空システムの真空チャンバ内に配置されうる。真空チャンバは真空堆積チャンバであってもよい。しかしながら、本開示は真空システムに限定されず、本書に記載のキャリア及び搬送構成部を大気環境において実行することが可能である。
［００５１］キャリア４１０は、キャリア４１０を浮上させる磁気浮上力を付与するために真空システムのガイド構造４７０と磁気的に相互作用するように構成された一または複数の第１の磁気ユニットを有する磁石構造を含みうる。一または複数の第１の磁気ユニットは、第１の受動磁気ユニット４５０であってよい。ガイド構造４７０は、水平方向であってよいキャリア４１０の搬送方向１に延びていてよい。ガイド構造４７０は、一または複数の第１の能動磁気ユニット４７５を含みうる。キャリア４１０は、ガイド構造４７０に沿って移動可能でありうる。第１の受動磁気ユニット４５０、例えば、強磁性材料のバー、及びガイド構造４７０の一または複数の第１の能動磁気ユニット４７５は、キャリア４１０を浮上させる第１の磁気浮上力を付与するように構成されうる。本書に記載の浮上のためのデバイスは、例えば、キャリア４１０を浮上させる非接触力をもたらすデバイスである。
［００５２］搬送構成部は更に、駆動構造４８０を含みうる。駆動構造４８０は、一または複数の第２の能動磁気ユニットのような、複数の更なる磁気ユニットを含みうる。キャリア４１０は、駆動構造４８０と磁気的に相互作用するように構成された一または複数の第２の磁気ユニットを含みうる。具体的には、一または複数の第２の磁気ユニットは、駆動構造４８０の一または複数の第２の能動磁気ユニット４８５と相互作用する、例えば、強磁性材料のバー等の第２の受動磁気ユニット４６０であってよい。
［００５３］図４Ｂに、搬送構成部の側面を示す。図４Ｂは、一又は複数の第１の能動磁気ユニット４７５のうちの１つの能動磁気ユニットを示す図である。能動磁気ユニットは、キャリア４１０の第１の受動磁気ユニット４５０と相互作用する磁力を付与する。例えば、第１の受動磁気ユニット４５０は、強磁性材料のロッドでありうる。ロッドは、支持構造４１２に接続されたキャリア４１０の一部でありうる。支持構造４１２は、キャリア４１０の本体によって設けられうる。ロッド又は第１の受動磁気ユニットは、それぞれ、基板１０を支持する支持構造４１２と一体的に形成されてもよい。キャリア４１０は、例えば、更なるロッドなどの第２の受動磁気ユニット４６０を更に含みうる。更なるロッドは、キャリア４１０に接続されうる。ロッド又は第２の受動磁気ユニットは、それぞれ、支持構造４１２と一体的に形成されてもよい。
［００５４］「受動（ｐａｓｓｉｖｅ）」磁気ユニットという用語は、本書では、「能動（ａｃｔｉｖｅ）」磁気ユニットという概念と区別するために使用される。受動磁気ユニットとは、少なくとも搬送構成部の作動中には、能動制御又は調節の対象とはならない磁気的特性を有する要素のことを指す場合がある。例えば、受動磁気ユニット（例えば、キャリアのロッド又は更なるロッド）の磁気的特性は、概して真空チャンバ又は真空システムを通過するキャリアの移動中は能動制御の対象ではない。本書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる幾つかの実施形態によれば、搬送構成部のコントローラは受動磁気ユニットを制御するようには構成されていない。受動磁気ユニットは、磁場（例えば、静磁場）を生成するように適合されうる。受動磁気ユニットは、調節可能な磁場を生成するように構成されていない場合がある。受動磁気ユニットは、強磁性材料などの磁性材料、永久磁石であってもよく、又は永久磁気特性を有してもよい。
［００５５］本書に記載の実施形態によれば、一または複数の第１の能動磁気ユニット４７５は、第１の受動磁気ユニット４５０に、及びその結果としてキャリア４１０に磁力を付与する。一または複数の第１の能動磁気ユニット４７５は、キャリア４１０を浮上させる。一または複数の第２の能動磁気ユニット４８５は、例えば、搬送方向１に沿って、真空チャンバの内部でキャリア４１０を駆動させることができる。一または複数の第２の能動磁気ユニット４８５は、キャリア４１０の上に位置する一または複数の第１の能動磁気ユニット４７５によって浮上している間、搬送方向１にキャリア４１０を移動させるための駆動構造を形成する。一または複数の第２の能動磁気ユニット４８５は、第２の受動磁気ユニット４６０と相互作用して、搬送方向１に沿って力を付与することができる。例えば、第２の受動磁気ユニット４６０は、交互に変わる極性で配置された複数の永久磁石を含みうる。第２の受動磁気ユニット４６０から得られる磁場は、一または複数の第２の能動磁気ユニット４８５と相互作用し、浮上中のキャリア４１０を移動させることができる。
［００５６］一または複数の第１の能動磁気ユニット４７５でキャリア４１０を浮上させるため、及び／又は、一または複数の第２の能動磁気ユニット４８５でキャリア４１０を移動させるため、能動磁気ユニットを制御して調節可能な磁場を生じさせることができる。調整可能な磁場は、静磁場又は動磁場でありうる。本書に記載の他の実施形態と組み合わせることができる実施形態によれば、能動磁気ユニットは、（例えば、垂直に配向されたキャリアに対し）垂直方向３に沿って、又は（例えば、水平に配向されたキャリアに対し）水平方向２に沿って延在する磁気浮上力を付与するための磁場を生成するように構成される。本書に記載の更なる実施形態と組み合わせることができる他の実施形態によれば、能動磁気ユニットは、横方向に沿って延在する磁力を付与するように構成されうる。本書に記載の能動磁気ユニットは、電磁デバイス、ソレノイド、コイル、超伝導磁石、又はこれらの任意の組み合わせからなる群から選択された要素でありうるか、又は、かかる要素を含みうる。
［００５７］本書に記載の実施形態は、キャリア、基板、及び／又はマスクの非接触浮上、搬送、及び／又はアライメントに関する。本開示は、基板を支持するキャリア、基板のないキャリア、基板、又は支持体によって支持された基板からなる群の一又は複数の要素を含み得るキャリアを示す。本開示全体で使用される「非接触」という用語は、例えば、キャリア及び基板の重量が、機械的接触又は機械的力によって保持されず、磁力によって保持されるという意味と理解することができる。具体的には、機械的力の代わりに磁力を用いて、キャリアが浮上又は浮動状態で保持される。例えば、本書に記載の搬送構成部は、キャリアの重量を支持する機械的レールなどの機械的デバイスを有しない場合がある。幾つかの実行形態では、浮上中に、また、例えば真空システム内のキャリアの移動中に、キャリアと装置のそれ以外の部分との間の機械的接触が全くない場合がある。
［００５８］本開示の実施形態によれば、浮上すること又は浮上は、機械的な接触又は支持を伴わずに物体が浮動している、物体の状態を表す。さらに、物体の移動とは、駆動力（例えば、浮揚力とは異なる方向の力）を加えて、物体がある位置から別の異なる位置へと移動することを指す。例えば、キャリアなどの物体を、重力に逆らう力によって浮上させることができ、浮上中、重力と平行な方向とは異なる方向に移動させることができる。
［００５９］本書に記載の実施形態に係るキャリアの非接触浮上及び搬送は、キャリアの搬送又はアライメントの間に、キャリアと、機械的レールなどの搬送構成部のセクションとの間の機械的接触に起因して粒子が生成されないという点において有益である。したがって、詳細には非接触型の浮上、搬送、及び／又はアライメントを使用すると粒子発生が最小限に抑えられることから、本書に記載の実施形態により、基板に堆積される層の純度及び均一性の向上が得られる。更に、衝撃のない滑らかなキャリアの搬送を提供することができ、例えばガラスの破損を減らす、あるいは避けることさえも可能である。
［００６０］図５に、本書に記載の実施形態に係る基板処理のためのシステム５００を示す。真空システムであってよいシステム５００は、例えばマスク２０を使用して基板１０の上に例えば有機材料層等の一または複数の層を堆積させるように構成されうる。
［００６１］システム５００は、真空チャンバ５０２等の堆積チャンバ、本書に記載の実施形態に係るキャリア５２０、及び堆積チャンバにおいてキャリア５２０を搬送するように構成された搬送構成部５１０を含む。幾つかの実行形態では、システム５００は堆積チャンバ内に一又は複数の材料堆積源５８０を含む。キャリア５２０は、真空堆積プロセス等の堆積プロセス中に基板１０を保持するように構成されうる。システム５００は、例えばＯＬＥＤデバイス製造用の有機材料の蒸着のために構成され得る。別の実施例では、システム５００は、スパッタ堆積などのＣＶＤ又はＰＶＤ用に構成されうる。
［００６２］幾つかの実行形態では、一又は複数の材料堆積源５８０は蒸着源であってよく、特に、ＯＬＥＤデバイスの層を形成するために一又は複数の有機材料を基板上に堆積させるための蒸着源であり得る。例えば層堆積プロセス中に基板１０を支持するためのキャリア５２０は、堆積チャンバの中へ、また、堆積チャンバを経由して、具体的には直線搬送路などの搬送路に沿って堆積エリアを経由して搬送されうる。
［００６３］材料は、一又は複数の材料堆積源５８０から、コーティングされる基板１０が位置する堆積エリアに向かう放出方向に放出されうる。例えば、一又は複数の材料堆積源５８０は、一又は複数の材料堆積源５８０の長さに沿って少なくとも１つの線に配置された複数の開口部及び／又はノズルを有する線源を提供しうる。材料は、複数の開口部及び／又はノズルを介して吐出されうる。
［００６４］図５に示すように、更なるチャンバを真空チャンバ５０２の隣に設けてもよい。真空チャンバ５０２は、バルブハウジング５０４及びバルブユニット５０６を有するバルブによって隣接するチャンバから分離され得る。矢印で示すように、基板１０が載ったキャリア５２０が真空チャンバ５０２の中に挿入された後、バルブユニット５０６が閉じられうる。真空チャンバ５０２内の雰囲気は、例えば真空チャンバ５０２に接続された真空ポンプを用いて工業的真空を生成することによって、個別に制御されうる。
［００６５］幾つかの実施形態によれば、キャリア５２０及び基板１０は、堆積材料の堆積中には静的又は動的である。本書に記載の幾つかの実施形態によれば、動的堆積プロセスは、例えば、ＯＬＥＤデバイスの製造のために提供されうる。
［００６６］幾つかの実行形態では、システム５００は、真空チャンバ５０２を通って延びる一又は複数の搬送路を含み得る。キャリア５２０は、例えば、一又は複数の材料堆積源５８０を通過して一又は複数の搬送路に沿って搬送するように構成されうる。図５には、矢印によって１つの搬送路が例示的に示されているが、本開示はこれに限定されるものではなく、２つ以上の搬送路が提供されうることを理解されたい。例えば、それぞれのキャリアの搬送のために、少なくとも２つの搬送路を互いに対して実質的に平行に配置することができる。一又は複数の材料堆積源５８０は、２つの搬送路の間に配置されうる。
［００６７］図６に、本書に記載の更なる実施形態に係る、基板１０の処理、例えば真空処理のためのシステム６００の概略図を示す。
［００６８］システム６００は、２つ以上の処理領域と、基板１０とオプションによりマスクを支持するキャリア６０１を２つ以上の処理領域まで順次搬送するように構成された本開示に係る搬送構成部６６０とを含む。例えば、搬送構成部６６０は、基板処理のための２つ以上の処理領域を通って、搬送方向１に沿ってキャリア６０１を搬送するように構成されうる。言い換えるならば、複数の処理領域を通る基板１０の搬送に同一のキャリアが使用されるということである。具体的には、基板１０は、処理領域内での基板処理と後続の処理領域での基板処理との間ではキャリア６０１から取り外されない。すなわち、２つ以上の基板処理手順において、基板は同一キャリア上に留まる。幾つかの実施形態によれば、キャリア６０１は本書に記載の実施形態によって構成されうる。オプションにより、又は代替的に、搬送構成部６６０は、例えば、図４Ａ及び図４Ｂに関連して説明したように構成されうる。
［００６９］図６に例示的に示すように、２つ以上の処理領域は、第１の堆積領域６０８と第２の堆積領域６１２を含むことができる。オプションにより、第１の堆積領域６０８と第２の堆積領域６１２との間に移送（ｔｒａｎｓｆｅｒ）領域６１０を設けることができる。２つ以上の処理領域と移送領域などの複数の領域を、１つの真空チャンバ内に設けることができる。代替的に、複数の領域は、互いに接続された異なる真空チャンバ内に設けることができる。例えば、各真空チャンバは１つの領域を提供することができる。具体的に、第１の真空チャンバは第１の堆積領域６０８を提供することができ、第２の真空チャンバは移送領域６１０を提供することができ、第３の真空チャンバは第２の堆積領域６１２を提供することができる。幾つかの実行形態では、第１の真空チャンバと第３の真空チャンバは「堆積チャンバ」と称されうる。第２の真空チャンバは「処理チャンバ」と称されうる。更に、真空チャンバ又は領域は、図６の実施例に示す領域に隣接して提供されうる。
［００７０］真空チャンバ又は領域は、バルブハウジング６０４及びバルブユニット６０５を有するバルブによって、隣接する領域から分離されうる。基板１０が載ったキャリア６０１が領域（第２の堆積領域６１２など）の中に挿入された後に、バルブユニット６０５を閉じることができる。領域内の雰囲気は、例えば、当該領域に接続された真空ポンプで工業的真空を生成することによって、及び／又は、例えば、第１の堆積領域６０８及び／又は第２の堆積領域６１２に一又は複数の処理ガスを注入することによって、個別に制御可能である。直線搬送路などの搬送路は、基板１０が載ったキャリア６０１を領域の中へ、領域を通過して外へ搬送するように提供されうる。搬送路は、２つ以上の処理領域（第１の堆積領域６０８、第２の堆積領域６１２など）を少なくとも部分的に通って延在し、オプションにより移送領域６１０を通って延在しうる。
［００７１］システム６００は移送領域６１０を含みうる。幾つかの実施形態では、移送領域６１０は省略されうる。移送領域６１０は、回転モジュール、中継（ｔｒａｎｓｉｔ）モジュール、又はこれらの組み合わせによって提供されうる。図６は、回転モジュールと中継モジュールの組み合わせを示す。回転モジュールでは、トラック構成部とその上に配置されたキャリア（複数可）が、垂直回転軸などの回転軸の周りで回転可能である。例えば、キャリア（複数可）は、システム６００の左側からシステム６００の右側へと、又はその逆に移送されうる。中継モジュールは、キャリア（複数可）が中継モジュールを経由して異なる方向へ、例えば互いに直交する方向へ移送されるように、交差トラックを含みうる。
［００７２］第１の堆積領域６０８及び第２の堆積領域６１２などの堆積領域内では、一又は複数の堆積源が配設されうる。例えば、第１の堆積源６３０は第１の堆積領域６０８内に配設されうる。第２の堆積源６５０は第２の堆積領域６１２内に配設されうる。一又は複数の堆積源は、ＯＬＥＤデバイス用の有機層スタックを形成するため、基板１０の上に一又は複数の有機層を堆積させるように構成された蒸着源であってよい。
［００７３］図７に、本書に記載の実施形態に係る、例えば真空システム等の堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための方法７００のフロー図を示す。方法７００は、本開示に係るキャリア、装置及びシステムを利用し得る。
［００７４］方法７００は、ブロック７１０において、エンコーダを使用してキャリアの位置及び速度のうちの少なくとも１つを示す少なくとも１つの信号を生成することと、ブロック７２０において、少なくとも１つの信号に基づいて、堆積システムの一または複数の第１の能動磁気ユニットのうちの少なくとも１つの能動磁気ユニットを制御することとを含む。一または複数の第１の能動磁気ユニットは、キャリアを浮上させるように構成されたガイド構造に含まれうる。ある実行形態では、方法７００は、例えばエンコーダによって送られた位置情報に基づいて、堆積システムにおけるキャリアの端部の位置を決定することができる。
［００７５］ある実施形態によれば、方法７００は更に、例えば距離センサを使用して、一または複数の第１の能動磁気ユニットとキャリアとの間の間隙を測定することと、測定された間隙に基づいて堆積システムの一または複数の第１の能動磁気ユニットのうちの少なくとも１つの能動磁気ユニットを制御することとを含む。
［００７６］能動磁気ユニットは、キャリアの滑らかな移動を提供するために、エンコーダ信号と距離センサからの信号のうちの少なくとも１つに基づいて選択的に制御されうる。一実施形態では、エンコーダ信号にしたがって、ガイド構造の少なくとも１つの能動磁気ユニットを通して流れる電流が変更されうる。例えば、キャリアが「離れる」能動磁気ユニットの電流は突然に、又は継続的に減少してゼロになりうる。更に、キャリアが「近づく」又は「入る」能動磁気ユニットの電流は、突然に又は継続的にゼロから設定値まで増加しうる。
［００７７］本書に記載の実施形態によれば、堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための方法は、コンピュータプログラム、ソフトウェア、コンピュータソフトウェア製品、またＣＰＵとメモリとユーザインターフェースと入出力デバイスとを有し得る相互関連コントローラ、及びキャリア、装置及び／又はシステムの対応構成要素と通信可能なバスシステムを使用して実施することができる。バスシステムは、有線ベースであってよい、あるいは無線であってよい。
［００７８］本開示の実施形態によれば、エンコーダを使用して、堆積システム内のキャリアの位置及び／又は速度が決定される。ある実施例では、堆積システムの搬送構成部の駆動構造にエンコーダが設けられうる。別の実施例では、エンコーダはキャリアと共に搬送されるように、キャリアに設けられうる。キャリアの位置及び／又は速度を使用して、キャリアを浮上させるのに使用される能動磁気ユニット等の搬送構成部を選択的に制御することが可能である。キャリアの滑らかな搬送が達成されうる。
［００７９］以上の記述は本開示の実施形態を対象としているが、本開示の基本的な範囲から逸脱せずに本開示の他の実施形態及び更なる実施形態が考案されてよく、本開示の範囲は、以下の特許請求の範囲によって決定される。

Claims (15)

  1. 堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための装置であって、
    搬送方向に前記キャリアを移動させるための駆動構造と、
    前記駆動構造における位置検出デバイスと
    を備える装置。
  2. 前記位置検出デバイスは、エンコーダ又はレゾルバである、請求項１に記載の装置。
  3. 前記キャリアを浮上させるためのガイド構造であって、前記キャリアの第１の磁石構造と磁気的に相互作用するように構成された一または複数の第１の能動磁気ユニットを有するガイド構造を更に備える、請求項１又は２に記載の装置。
  4. 一または複数の入力信号に基づいて前記一または複数の第１の能動磁気ユニットを選択的に制御するように構成されたコントローラを更に備え、エンコーダは、前記一または複数の入力信号の少なくとも１つの第１の入力信号を提供するように構成されている、請求項３に記載の装置。
  5. 前記少なくとも１つの第１の入力信号は、前記キャリアの位置及び速度のうちの少なくとも１つを示す、請求項４に記載の装置。
  6. 前記一または複数の第１の能動磁気ユニットと前記キャリアとの間の間隙を測定するように構成された一または複数の距離センサを更に備える、請求項２から５のいずれか一項に記載の装置。
  7. 前記一または複数の距離センサは、前記一または複数の入力信号の少なくとも１つの第２の入力信号を提供するように構成され、前記少なくとも１つの第２の入力信号は、前記一または複数の第１の能動磁気ユニットと前記キャリアとの間の間隙を示す、請求項６に記載の装置。
  8. 前記駆動構造は、前記キャリアの第２の磁石構造と磁気的に相互作用するように構成された一または複数の第２の能動磁気ユニットを含む、請求項１から７のいずれか一項に記載の装置。
  9. キャリアを非接触搬送するためのシステムであって、
    請求項１から８のいずれか一項に記載の装置と、
    前記キャリアと
    を備えるシステム。
  10. 堆積システムにおいて非接触搬送されるキャリアであって、
    前記キャリアを搬送方向に移動させるために、前記堆積システムの駆動構造と磁気的に相互作用するように構成された磁石構造と、
    位置検出デバイスと
    を備えるキャリア。
  11. 前記位置検出デバイスは、前記キャリアの位置及び速度のうちの少なくとも１つを示す少なくとも１つの信号を提供するように構成されている、請求項１０に記載のキャリア。
  12. 前記少なくとも１つの信号を前記堆積システムへ送信するように構成された通信デバイスを更に備える、請求項１１に記載のキャリア。
  13. 前記キャリアは、前記堆積システムにおいて垂直配向又は水平配向に搬送されるように構成されている、請求項１０から１２のいずれか一項に記載のキャリア。
  14. 堆積システムにおいてキャリアを非接触搬送するための方法であって、
    駆動構造における位置検出デバイス又は前記キャリア上の位置検出デバイスを使用して、前記キャリアの位置及び速度のうちの少なくとも１つを示す少なくとも１つの信号を生成することと、
    前記少なくとも１つの信号に基づいて前記堆積システムの一または複数の第１の能動磁気ユニットの少なくとも１つの能動磁気ユニットを制御することと
    を含む方法。
  15. 前記一または複数の第１の能動磁気ユニットと前記キャリアとの間の間隙を測定することと、
    前記測定された間隙に基づいて、前記堆積システムの前記一または複数の第１の能動磁気ユニットの少なくとも１つの能動磁気ユニットを制御することと
    を更に含む、請求項１４に記載の方法。
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