KR101386685B1 - 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것이다. 기판 처리 장치는 내부 공간을 갖는 챔버; 기판이 안착되고, 챔버의 내부 공간에서 제1방향을 따라 이송되는 이송체; 이송체에 설치되는 제1부상용 자성체; 챔버에 설치되고, 제1부상용 자성체와 작용하는 제2부상용 자성체; 챔버의 일측벽에 제1방향을 따라 설치되고, 전류를 인가받아 자기장을 유도하는 코일부; 코일부에 대향하는 이송체의 일측면에 설치되는 이송용 자성체; 제1방향과 나란한 방향으로 이송체의 양단에 각각 설치되고, 경사면을 갖는 제1간격 유지용 자성체; 및 챔버에 설치되고, 제1간격 유지용 자성체의 경사면과 평행한 경사면을 갖고, 제1간격 유지용 자성체와 자기적으로 작용하여 이송체를 대각선 방향으로 밀어주는 제2간격 유지용 자성체를 포함한다.

Description

기판 처리 장치{Apparatus for processing substrate}
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판을 자기력으로 비접촉 지지하여 반송하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
OLED(Organic Light Emmitting Display) 소자는 형광성 유기 화합물 박막에 전류를 흘려주면 전자와 정공이 유기 화합물층에서 재결합하면서 빛을 발생하는 현상을 이용한 자발광형(Self-Luminant Type) 표시소자이다.
이러한 OLED 소자는 기판(글라스)상에 유기재료를 증착하는 증착 공정을 거쳐 제조된다. 예를 들어, OLED 소자를 제작함에 있어서, 기판 상에 화소 형성을 위한 여러 박막층들을 형성하여야 하는 데, 이러한 박막 증착 공정은 통상 진공 증착 챔버에서 진행된다.
진공 증착 챔버 내에서의 기판 이송은 크게 접촉식 방식과 비접촉식 방식으로 나뉠 수 있다.
접촉식 방식은 구조상 이송 과정에서 많은 파티클이 발생될 수 있기 때문에 파티클에 의한 기판의 오염 문제가 야기될 수 있다. 뿐만 아니라, 접촉식 방식은 이송 구조 또는 동력 전달 구조의 접촉 부분에서 마모나 마찰이 발생되기 때문에 부품의 손상이 잦고, 심한 소음이 유발된다.
이에 반해, 비접촉식 방식은 파티클 발생 문제를 해소할 수 있을 뿐만 아니라 마찰, 마모에 따른 부품의 손상 문제 그리고 소음 문제를 해소할 수 있기 때문에 현재 비접촉식 방식의 자기부상 반송 장치에 대한 연구가 활발하게 진행되고 있다.
본 발명의 실시예들은 청정도를 요구하는 진공 챔버 내에서 기판을 자기 부상 방식으로 반송 가능한 기판 처리 장치를 제공하고자 한다.
또한, 본 발명의 실시예들은 영구자석을 활용하여 기판이 장착된 이송체의 좌우 간격을 조절할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하고자 한다.
또한, 본 발명의 실시예들은 영구 자석을 활용하여 이송체의 부상 위치를 유지할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하고자 한다.
본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다. 본 발명은 증착 챔버의 외부에 마스크를 회수하는 구성이 있는 기판 처리 자치를 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 내부 공간을 갖는 챔버; 기판이 안착되고, 상기 챔버의 내부 공간에서 제1방향을 따라 이송되는 이송체; 상기 이송체를 자기 부상시키는 자기 부상 부재; 상기 자기 부상 부재에 의해 부상된 상기 이송체에 추진력을 제공하는 선형 유도 전동 부재; 및 상기 이송체의 부상 위치를 조정할 수 있는 위치 보정 부재를 포함하는 기판 처리 장치가 제공될 수 있다.
또한, 상기 위치 보정 부재는 상기 제1방향과 나란한 방향으로 상기 이송체의 양단에 각각 설치되는 제1간격 유지용 자성체; 및 상기 챔버에 설치되고, 상기 제1간격 유지용 자성체와 자기적으로 작용하여 상기 이송체를 대각선 방향으로 밀어주는 제2간격 유지용 자성체를 포함할 수 있다.
또한, 상기 제1간격 유지용 자성체와 상기 제2간격 유지용 자성체는 서로 평행하게 마주하는 경사면을 포함할 수 있다.
또한, 상기 위치 보정 부재는 평면상에서 상기 제1방향과 수직한 제2방향으로 상기 제2간격 유지용 자성체를 이동시키는 구동장치를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 제2간격 유지용 자성체는 상기 제1방향을 따라 상기 챔버의 양측벽에 다수가 제공되고, 상기 제1간격 유지용 자성체는 상기 이송체의 양측에 상기 제1방향을 따라 길게 제공될 수 있다.
또한, 상기 위치 보정 부재는 상기 제1방향과 나란한 상기 챔버의 측벽에 설치되고, 상기 이송체의 수평방향의 간격을 측정하는 간격 측정 센서를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 위치 보정 부재는 상기 간격 측정 센서로부터 측정된 신호를 제공받는 그리고, 상기 제2간격 유지용 자성체와 상기 제1간격 유지용 자성체 간의 간격이 조정되도록 상기 구동장치를 제어하는 제어부를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 자기 부상 부재는 상기 이송체에 설치되는 제1부상용 자성체; 및 상기 챔버에 설치되고, 상기 제1부상용 자성체와 작용하는 제2부상용 자성체를 포함할 수 있다.
또한, 상기 선형 유도 전동 부재는 상기 챔버의 일측벽에 상기 제1방향을 따라 설치되고, 전류를 인가받아 자기장을 유도하는 코일부; 및 상기 코일부에 대향하는 상기 이송체의 일측면에 설치되는 이송용 자성체를 포함할 수 있다.
또한, 상기 코일부와 상기 이송용 자성체 사이 간격은 상기 위치 보정 부재에 의해 조절될 수 있다.
또한, 상기 코일부는 상기 챔버의 외측에 제공되고, 상기 챔버는 상기 코일부가 장착되도록 상기 챔버의 일측벽에 오목하게 형성된 코일 장착부를 가질 수 있다.
또한, 상기 코일부는 상기 챔버의 내측에 제공될 수 있다.
또한, 상기 기판 처리 장치는 증착물질을 발생시키는 증착물질 소스를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 내부 공간을 갖는 챔버; 기판이 안착되고, 상기 챔버의 내부 공간에서 제1방향을 따라 이송되는 이송체; 상기 이송체에 설치되는 제1부상용 자성체; 상기 챔버에 설치되고, 상기 제1부상용 자성체와 작용하는 제2부상용 자성체; 상기 챔버의 일측벽에 상기 제1방향을 따라 설치되고, 전류를 인가받아 자기장을 유도하는 코일부; 상기 코일부에 대향하는 상기 이송체의 일측면에 설치되는 이송용 자성체; 상기 제1방향과 나란한 방향으로 상기 이송체의 양단에 각각 설치되고, 경사면을 갖는 제1간격 유지용 자성체; 및 상기 챔버에 설치되고, 상기 제1간격 유지용 자성체의 경사면과 평행한 경사면을 갖고, 상기 제1간격 유지용 자성체와 자기적으로 작용하여 상기 이송체를 대각선 방향으로 밀어주는 제2간격 유지용 자성체를 포함하는 기판 처리 장치가 제공될 수 있다.
또한, 평면상에서 상기 제1방향과 수직한 제2방향으로 상기 제2간격 유지용 자성체를 이동시키는 구동장치를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 제2간격 유지용 자성체는 상기 코일부와 상기 이송용 자성체 간의 간격 조정을 위해 평면상에서 상기 제1방향과 수직한 제2방향으로 이동될 수 있다.
또한, 상기 코일부는 상기 챔버 내측에 설치될 수 있다.
또한, 상기 코일부는 상기 챔버 외측에 설치될 수 있다.
또한, 상기 제1간격 유지용 자성체, 상기 제2간격 유지용 자성체, 제1부상용 자성체 그리고 제2부상용 자성체는 영구자석일 수 있다.
본 발명에 의하면, 진공 챔버 내에서 기판을 자기 부상 방식으로 반송함으로써 파티클 발생 문제를 해소할 수 있을 뿐만 아니라, 마찰 및 마모에 따른 부품의 손상 문제 그리고 소음 유발 문제를 해소할 수 있다.
또한, 본 발명에 의하면 기판이 장착된 이송체의 부상 반송 위치 보정이 가능하기 때문에, 보다 안정적이고 정확하게 이송체의 반송이 가능하다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 구성을 설명하기 위한 정단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 구성을 설명하기 위한 평단면도이다.
도 3은 이송체를 보여주는 사시도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 부분단면 사시도이다.
도 5는 기판 처리 장치에서 위치 보정 부재에 의해 이송체의 위치가 보정되는 것을 보여주는 도면이다.
도 6은 코일부가 챔버의 내부에 설치된 변형 예를 보여주는 도면이다.
이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 구성을 설명하기 위한 정단면도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 구성을 설명하기 위한 평단면도이다. 도 3은 이송체를 보여주는 사시도이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 부분단면 사시도이다. 본 발명의 실시예에서는 기판(글라스)상에 박막을 증착하는 박막 증착 장치를 일 예로 설명한다.
도 1 내지 도 4를 참조하면, 기판 처리 장치(10)는 챔버(100), 이송체(20), 자기 부상 부재(200), 선형 유도 전동 부재(300), 위치 보정 부재(400) 그리고 증착원(500)을 포함한다.
챔버(100)는 상부벽(101), 하부벽(102), 정면벽(103), 배면벽(104), 좌측벽(105) 그리고 우측벽(106)을 포함하는 직육면체 형상으로 제공된다. 박막 증착 공정이 이루어지는 챔버(100)의 내부 공간(A)은 진공 상태로 유지될 수 있다. 챔버(100)의 정면벽(103)과 배면벽(104)에는 기판의 반입 및 반출을 위한 출입구(110) 및 출입구(110)를 개폐하는 수단(112)이 제공된다.
기판(G)은 챔버(100) 내에서 수평 상태로 이송될 수 있다. 기판(G)은 이송체(20)에 안착된 상태로 제1방향(x)을 따라 이동된다. 또한, 기판(G)은 처리면이 아래를 향하도록 이송체(20)의 저면에 제공된다.
도시하지 않았지만, 기판(G)의 처리면에는 박막 패턴과 동일한 패턴을 가지는 마스크(mask)가 제공될 수 있다. 또한, 도시한 바와 같이, 기판 처리 장치(10)의 챔버(100) 내에는 유기물이 담긴 증착원(500)이 구비될 수 있다. 기판 처리 장치(10)는 기판(G)이 상부에 위치하고 증착원(500)이 하부에 위치하여 증착되는 유기물질이 하부에서 상부로 이동하면서 기판(G)의 증착면에 증착되는 상향식 증착 공정으로 박막을 증착할 수 있다.
증착원(500)은 기판(G)의 증착면 방향으로 기화 상태의 유기 물질을 공급한다. 도시되지는 않았지만, 증착원(500)은 유기 물질이 저장되는 도가니와, 유기 물질을 기화시키는 가열부 및 기화된 유기 물질을 분사하는 분사부를 포함하며, 공정에 따라 점형, 선형 및 면형 증착원 중 적합한 어느 하나가 사용될 수 있다. 본 실시예는 제1방향(x)과 나란한 방향으로 긴 막대 형상의 선형 증착원이 사용된다. 증착원(500)은 챔버(100)의 바닥면에 설치된 직선이동부재(510)에 의해 제2방향으로 왕복 이동하면서 기판(G)의 증착면에 유기 물질을 균일하게 공급하게 된다.
본 실시예에서 기판(G)은 OLED(Organic Light Emitting Diodes) 제작용 유리 기판, TFT, ITO, TCO, 솔라 셀 제작용 기판, LCD(Liquid Crystal Display) 제작용 기판, PDP(Plasma Display Panel) 제작용 기판, 반도체용 웨이퍼(wafer) 일 수 있다. 또한, 이송체는 기판이 탑재되는 트레이나 캐리어 일 수 있다.
이하, 기판(G)이 탑재된 이송체(20)의 반송 방향을 제 1 방향(x)이라 하고, 상부에서 바라볼 때, 제 1 방향(x)의 수직인 방향을 제 2 방향(y)이라 하며, 제 1 방향(x)과 제 2 방향(y)을 포함한 평면에 수직인 방향을 제 3 방향(z)이라 정의한다.
이송체(20)는 자기 부상 부재(200)에 의해 부상된다. 자기 부상 부재(200)는 제1부상용 자성체(210)와 제2부상용 자성체(220)를 포함한다. 제1부상용 자성체(210)는 이송체(20)의 저면 양측 가장자리에 제1방향과 나란한 방향으로 설치된다. 제1부상용 자성체(210)는 영구 자석일 수 있다.
챔버(100)의 좌측벽(105)과 우측벽(106)에는 제1방향(x)을 따라 일정 간격으로 제1브라켓(230)들이 설치된다. 제2부상용 자성체(220)는 제1브라켓(230)의 상면에 제1부상용 자성체(210)와 마주보도록 설치된다. 제1부상용 자성체(210)와 제2부상용 자성체(220)의 상호 작용에 의해 이송체(20)가 부상되는 방식으로는 척력을 이용한 반발식과 인력을 이용한 흡인식이 사용될 수 있다. 반발식은 제1부상용 자성체(210)와 제2부상용 자성체(220)에 서로 다른 극성을 부여하여 이송체(20)가 부상되도록 한 방식이고, 흡인식은 반발식의 반대 구조로서 이송체(20)를 부상시키는 방식이다. 본 발명에서는 제2부상용 자성체(220)가 제1부상용 자성체(210)를 밀어내는 힘으로 이송체(20)가 부상하는 반발식을 적용하고 있다.
선형 유도 전동 부재(300)는 자기 부상 부재(200)에 의해 부상된 이송체(20)를 제1방향(x)을 따라 이동되도록 추진력을 제공한다. 선형 유도 전동 부재(300)는 챔버(100)의 우측벽(106)에 설치되는 코일부(310)와, 코일부(310)에 대하여 소정의 간극을 두고 대면하도록 이송체(20)의 측면에 설치되는 이송용 자성체(320)를 포함한다. 코일부(310)는 챔버(100)의 외측 또는 내측에 제공될 수 있다. 본 실시예에서는 챔버(100) 외측에 설치된 코일부(310)를 도시하고 있으나, 도 6에서와 같이, 코일부(310)는 챔버의 내측에 제공될 수 있다. 챔버(100)는 코일부(310)가 이송체(20)의 측면에 설치된 이송용 자성체(320)에 근접하게 위치되도록 우측벽(106)에 제1방향(x)을 따라 오목하게 형성된 코일 장착부(180)를 갖는다. 코일 장착부(180)에는 코일장착용 플랜지(330)가 삽입되며, 코일부(310)는 코일장착용 플랜지(330)의 끝단에 설치되어 이송용 자성체(320)와 소정 간극을 두고 대면하게 된다.
여기서, 코일부(310)는 회전전동기의 1자측 고정자에 해당되고, 이송용 자성체(320)는 회전전동기의 2차측 회전자(이동자)에 해당될 수 있다. 선형 유도 전동 부재(300)의 코일부(310)는 직선적으로 평행이동하는 이동자계를 형성하도록 결선된다. 이 이동자계와 쇄교(interlinkage)하도록 놓이는 이송용 자성체(320)에는 그 표면에 소용돌이치는 와전류가 유기되고, 그 코일부(310)에 이동자계와 이송용 자성체(320)의 와전류 상호간에 플레밍의 왼손법칙에 의거한 전자기적 직선 추력이 발생된다. 이렇게 발생되는 직선 추력은 코일부(310)와 이송용 자성체(320)를 상대적으로 이동시키려는 작용을 하며, 이러한 작용에 의해 이송체(20)가 직선 이동하게 되는 것이다. 이처럼, 선형 유도 전동 부재(300)의 코일부(310)에 의하여 발생되는 유도자계는 이송용 자성체(320)를 매개로 이송체(20)에 추진력을 부여하게 된다.
이송체(20)의 부상 위치 및 코일부(310)와 이송용 자성체(320) 간의 간격은 이송체(20)를 안정적으로 반송하는데 매우 중요한 요소이며, 이를 위해 본 발명은 이송체(20)의 부상 위치 및 코일부(310)와 이송용 자성체(320) 간의 간격 조정을 위한 위치 보정 부재(400)를 포함한다.
위치 보정 부재(400)는 제1간격 유지용 자성체(410), 제2간격 유지용 자성체(420), 구동장치(430), 간격 측정 센서(440) 그리고 제어부(450)를 포함한다.
제1간격 유지용 자성체(410)는 제1방향(x)과 나란한 방향으로 이송체(20)의 상면 가장자리에 각각 설치된다. 제1간격 유지용 자성체(410)는 제1방향으로 길게 형성되는 막대 형상의 영구자석일 수 있다. 제1간격 유지용 자성체(410)은 경사진 상면(이하 경사면이라고 함)(412)을 갖는다.
제2간격 유지용 자성체(420)는 챔버(100)의 좌측벽(105)과 우측벽(106)에 일정 간격으로 설치된다. 제2간격 유지용 자성체(420)는 제1간격 유지용 자성체(410)와 자기적으로 작용하여 이송체(20)를 대각선 방향으로 밀어준다. 제2간격 유지용 자성체(420)는 영구자석일 수 있다. 제2간격 유지용 자성체(420)는 제1간격 유지용 자성체(410)의 경사면(412)과 서로 평행하게 마주하는 경사면(422)을 갖는다. 챔버(100)의 좌측벽(105)에 설치되는 제2간격 유지용 자성체(420)는 제2방향 및 제3방향으로 이동 가능하게 제공될 수 있다. 제2간격 유지용 자성체(420)는 구동 장치(430)에 의해 이동될 수 있다.
구동 장치(430)는 챔버(100) 외부에 설치되며 제2간격 유지용 자성체(420)와 연결되며, 제어부(450)에 의해 제어된다.
간격 측정 센서(440)는 챔버(100)의 좌측벽(105)에 설치된다. 간격 측정 센서(440)는 이송체(20)와의 간격을 측정하여, 그 측정 데이터를 제어부로 제공한다.
본 발명의 실시예에서는 구동장치(430)가 챔버(100)의 좌측벽(105)에 설치된 제2간격 유지용 자성체(420)에만 제공되는 것으로 도시하고 설명하였으나, 이는 하나의 실시예에 불과하며, 구동장치(430)은 챔버(100)의 우측벽(106)에 설치된 제2간격 유지용 자성체(420)에도 제공될 수 있다.
도 5는 기판 처리 장치에서 위치 보정 부재에 의해 이송체의 위치가 보정되는 것을 보여주는 도면이다.
도 5를 참조하면, 이송체(20)가 미리 결정된 위치로부터 벗어나서 코일부(310)와 이송용 자성체(320) 간의 간격(B)이 멀어진 경우, 간격 측정 센서(440)가 이를 감지하여 제어부(450)에 그 측정 데이터를 제공한다. 제어부(450)는 간격 측정 센서(440)로부터 제공받은 측정 데이터를 분석하여 구동 장치(430)를 제어한다. 제2간격 유지용 자성체(420)는 구동 장치(430)에 의해 화살표 방향(X1)으로 이동된다. 제2간격 유지용 자성체(420)의 이동에 의해 이송체(20)의 위치는 보정된다. 이송체의 위치 보정에 의해서 코일부(310)와 이송용 자성체(320) 간의 간격(B)이 조정된다.
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위 내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시 예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.
100: 챔버 20 : 이송체
200 : 자기 부상 부재 300 : 선형 유도 전동 부재
400 : 위치 보정 부재

Claims (20)

  1. 기판 처리 장치에 있어서:
    내부 공간을 갖는 챔버;
    기판이 안착되고, 상기 챔버의 내부 공간에서 제1방향을 따라 이송되는 이송체;
    상기 이송체를 자기 부상시키는 자기 부상 부재;
    상기 자기 부상 부재에 의해 부상된 상기 이송체에 추진력을 제공하는 선형 유도 전동 부재; 및
    상기 이송체의 부상 위치를 조정할 수 있는 위치 보정 부재를 포함하되;
    상기 위치 보정 부재는
    상기 제1방향과 나란한 방향으로 상기 이송체의 양단에 각각 설치되는 제1간격 유지용 자성체; 및
    상기 챔버에 설치되고, 상기 제1간격 유지용 자성체와 자기적으로 작용하여 상기 이송체를 대각선 방향으로 밀어주는 제2간격 유지용 자성체를 포함하는 기판 처리 장치.
  2. 삭제
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1간격 유지용 자성체와 상기 제2간격 유지용 자성체는 서로 평행하게 마주하는 경사면을 갖는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  4. 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,
    상기 위치 보정 부재는
    평면상에서 상기 제1방향과 수직한 제2방향으로 상기 제2간격 유지용 자성체를 이동시키는 구동장치를 더 포함하는 기판 처리 장치.
  5. 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서,
    상기 제2간격 유지용 자성체는
    상기 제1방향을 따라 상기 챔버의 양측벽에 다수가 제공되고,
    상기 제1간격 유지용 자성체는
    상기 이송체의 양측에 상기 제1방향을 따라 길게 제공되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  6. 제 4 항에 있어서,
    상기 위치 보정 부재는
    상기 제1방향과 나란한 상기 챔버의 측벽에 설치되고, 상기 이송체의 수평방향의 간격을 측정하는 간격 측정 센서를 더 포함하는 기판 처리 장치.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 위치 보정 부재는
    상기 간격 측정 센서로부터 측정된 신호를 제공받는 그리고, 상기 제2간격 유지용 자성체와 상기 제1간격 유지용 자성체 간의 간격이 조정되도록 상기 구동장치를 제어하는 제어부를 더 포함하는 기판 처리 장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 자기 부상 부재는
    상기 이송체에 설치되는 제1부상용 자성체; 및
    상기 챔버에 설치되고, 상기 제1부상용 자성체와 작용하는 제2부상용 자성체를 포함하는 기판 처리 장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 선형 유도 전동 부재는
    상기 챔버의 일측벽에 상기 제1방향을 따라 설치되고, 전류를 인가받아 자기장을 유도하는 코일부; 및
    상기 코일부에 대향하는 상기 이송체의 일측면에 설치되는 이송용 자성체를 포함하는 기판 처리 장치.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 코일부와 상기 이송용 자성체 사이 간격은 상기 위치 보정 부재에 의해 조절되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  11. 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서,
    상기 코일부는 상기 챔버의 외측에 제공되고,
    상기 챔버는
    상기 코일부가 장착되도록 상기 챔버의 일측벽에 오목하게 형성된 코일 장착부를 갖는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  12. 제 9 항 또는 제10항에 있어서,
    상기 코일부는 상기 챔버의 내측에 제공되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  13. 제 1 항에 있어서,
    상기 기판 처리 장치는
    증착물질을 발생시키는 증착물질 소스를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  14. 기판 처리 장치에 있어서:
    내부 공간을 갖는 챔버;
    기판이 안착되고, 상기 챔버의 내부 공간에서 제1방향을 따라 이송되는 이송체;
    상기 이송체에 설치되는 제1부상용 자성체;
    상기 챔버에 설치되고, 상기 제1부상용 자성체와 작용하는 제2부상용 자성체;
    상기 챔버의 일측벽에 상기 제1방향을 따라 설치되고, 전류를 인가받아 자기장을 유도하는 코일부;
    상기 코일부에 대향하는 상기 이송체의 일측면에 설치되는 이송용 자성체;
    상기 제1방향과 나란한 방향으로 상기 이송체의 양단에 각각 설치되고, 경사면을 갖는 제1간격 유지용 자성체; 및
    상기 챔버에 설치되고, 상기 제1간격 유지용 자성체의 경사면과 평행한 경사면을 갖고, 상기 제1간격 유지용 자성체와 자기적으로 작용하여 상기 이송체를 대각선 방향으로 밀어주는 제2간격 유지용 자성체를 포함하는 기판 처리 장치.
  15. 제 14 항에 있어서,
    평면상에서 상기 제1방향과 수직한 제2방향으로 상기 제2간격 유지용 자성체를 이동시키는 구동장치를 더 포함하는 기판 처리 장치.
  16. 제 14 항에 있어서,
    상기 제2간격 유지용 자성체는 상기 코일부와 상기 이송용 자성체 간의 간격 조정을 위해 평면상에서 상기 제1방향과 수직한 제2방향으로 이동 가능한 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  17. 제 14 항에 있어서,
    상기 코일부는 상기 챔버 내측에 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  18. 제 14 항에 있어서,
    상기 코일부는 상기 챔버 외측에 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  19. 제 14 항에 있어서,
    상기 제1간격 유지용 자성체, 상기 제2간격 유지용 자성체, 제1부상용 자성체 그리고 제2부상용 자성체는 영구자석인 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  20. 삭제
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