KR102161185B1 - 기판의 진공 프로세싱을 위한 장치, 기판의 진공 프로세싱을 위한 시스템, 및 진공 챔버에서의 기판 캐리어 및 마스크 캐리어의 운송을 위한 방법 - Google Patents

기판의 진공 프로세싱을 위한 장치, 기판의 진공 프로세싱을 위한 시스템, 및 진공 챔버에서의 기판 캐리어 및 마스크 캐리어의 운송을 위한 방법 Download PDF

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Abstract

본 개시내용은 기판(10)의 진공 프로세싱을 위한 장치(200)를 제공한다. 장치(200)는, 진공 챔버, 기판 캐리어(120)의 운송을 위해 구성된 제1 트랙 어레인지먼트(110), 마스크 캐리어(140)의 운송을 위해 구성된 제2 트랙 어레인지먼트(130), 및 기판 캐리어(120) 및 마스크 캐리어(140)를 서로에 대해 포지셔닝하도록 구성된 홀딩 어레인지먼트를 포함한다. 제1 트랙 어레인지먼트(110)는, 기판(10)의 제1 단부(12)에서 기판 캐리어(120)를 지지하도록 구성된 제1 부분, 및 기판(10)의 제1 단부(12) 반대편의, 기판(10)의 제2 단부(14)에서 기판 캐리어(120)를 지지하도록 구성된 제2 부분을 포함한다. 제2 트랙 어레인지먼트(120)는, 마스크(20)의 제1 단부(22)에서 마스크 캐리어(140)를 지지하도록 구성된 추가적인 제1 부분, 및 마스크(20)의 제1 단부(22) 반대편의, 마스크(20)의 제2 단부(24)에서 마스크 캐리어(140)를 지지하도록 구성된 추가적인 제2 부분을 포함한다. 제1 트랙 어레인지먼트(110)의 제1 부분과 제2 부분 사이의 제1 거리(D) 및 제2 트랙 어레인지먼트(130)의 추가적인 제1 부분과 추가적인 제2 부분 사이의 제2 거리(D')는 본질적으로 동일하다.

Description

기판의 진공 프로세싱을 위한 장치, 기판의 진공 프로세싱을 위한 시스템, 및 진공 챔버에서의 기판 캐리어 및 마스크 캐리어의 운송을 위한 방법
[0001] 본 개시내용의 실시예들은, 기판의 진공 프로세싱을 위한 장치, 기판의 진공 프로세싱을 위한 시스템, 및 진공 챔버에서의 기판 캐리어 및 마스크 캐리어의 운송을 위한 방법에 관한 것이다. 본 개시내용의 실시예들은 특히, OLED(organic light-emitting diode) 디바이스들의 제조에 사용되는 기판들 및 마스크들을 홀딩하기 위한 캐리어들에 관한 것이다.
[0002] 기판 상에의 층 증착을 위한 기법들은, 예컨대, 열 증발, PVD(physical vapor deposition), 및 CVD(chemical vapor deposition)를 포함한다. 코팅된 기판들은 여러 어플리케이션들 및 여러 기술 분야들에서 사용될 수 있다. 예컨대, 코팅된 기판들은 OLED(organic light emitting diode) 디바이스들의 분야에서 사용될 수 있다. OLED들은, 정보를 디스플레잉하기 위한, 텔레비전 스크린들, 컴퓨터 모니터들, 모바일 폰들, 다른 휴대용 디바이스들, 등의 제조에 사용된다. OLED 디바이스, 예컨대, OLED 디스플레이는, 모두가 기판 상에 증착되는, 2개의 전극들 사이에 위치되는 유기 재료의 하나 또는 그 초과의 층들을 포함할 수 있다.
[0003] OLED 디바이스의 기능성은 유기 재료의 코팅 두께에 따를 수 있다. 두께는 미리 결정된 범위 내에 있어야 한다. OLED 디바이스들의 생산에서, 고해상도(high resolution) OLED 디바이스들을 달성하기 위해, 증발되는 재료들의 증착에 관한 기술적 난제들이 존재한다. 특히, 프로세싱 시스템을 통한 기판 캐리어들 및 마스크 캐리어들의 정확하고 매끄러운(smooth) 운송이 난제로 남아있다. 또한, 마스크에 대한 기판의 정밀한 정렬은, 예컨대, 고해상도 OLED 디바이스들의 생산을 위해, 고품질 프로세싱 결과들을 달성하는 데에 중요하다.
[0004] 상기 내용을 고려하여, 당업계의 문제들의 적어도 일부를 극복하는, 기판의 진공 프로세싱을 위한 새로운 캐리어들, 기판의 진공 프로세싱을 위한 시스템들, 및 진공 챔버에서의 기판 캐리어 및 마스크 캐리어의 운송을 위한 방법들이 유익하다. 본 개시내용은 특히, 진공 챔버에서 효율적으로 운송될 수 있는 캐리어들을 제공하는 것을 목적으로 한다.
[0005] 상기 내용을 고려하여, 기판의 진공 프로세싱을 위한 장치, 기판의 진공 프로세싱을 위한 시스템, 및 진공 챔버에서의 기판 캐리어 및 마스크 캐리어의 운송을 위한 방법이 제공된다. 본 개시내용의 추가적인 양상들, 이점들, 및 특징들은 청구항들, 상세한 설명, 및 첨부한 도면들로부터 자명하다.
[0006] 본 개시내용의 일 양상에 따르면, 기판의 진공 프로세싱을 위한 장치가 제공된다. 장치는, 진공 챔버, 기판 캐리어의 운송을 위해 구성된 제1 트랙 어레인지먼트, 마스크 캐리어의 운송을 위해 구성된 제2 트랙 어레인지먼트, 및 기판 캐리어 및 마스크 캐리어를 서로에 대해 포지셔닝하도록 구성된 홀딩 어레인지먼트를 포함한다. 제1 트랙 어레인지먼트는, 기판의 제1 단부에서 기판 캐리어를 지지하도록 구성된 제1 부분, 및 기판의 제1 단부 반대편의, 기판의 제2 단부에서 기판 캐리어를 지지하도록 구성된 제2 부분을 포함한다. 제2 트랙 어레인지먼트는, 마스크의 제1 단부에서 마스크 캐리어를 지지하도록 구성된 추가적인 제1 부분, 및 마스크의 제1 단부 반대편의, 마스크의 제2 단부에서 마스크 캐리어를 지지하도록 구성된 추가적인 제2 부분을 포함한다. 제1 트랙 어레인지먼트의 제1 부분과 제2 부분 사이의 제1 거리 및 제2 트랙 어레인지먼트의 추가적인 제1 부분과 추가적인 제2 부분 사이의 제2 거리는 본질적으로 동일하다.
[0007] 본 개시내용의 다른 양상에 따르면, 기판의 진공 프로세싱을 위한 시스템이 제공된다. 시스템은, 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 기판의 진공 프로세싱을을 위한 장치, 기판 캐리어, 및 마스크 캐리어를 포함한다.
[0008] 본 개시내용의 추가적인 양상에 따르면, 진공 챔버에서의 기판 캐리어 및 마스크 캐리어의 운송을 위한 방법이 제공된다. 방법은, 기판 캐리어를 제1 트랙 어레인지먼트 상에서 그리고 마스크 캐리어를 제2 트랙 어레인지먼트 상에서 비접촉식으로(contactlessly) 운송하는 단계, 및 기판 캐리어를 제2 트랙 어레인지먼트 상에서 그리고 마스크 캐리어를 제 1 트랙 어레인지먼트 상에서 비접촉식으로 운송하는 단계를 포함한다.
[0009] 본 개시내용의 일 양상에 따르면, 기판의 진공 프로세싱을 위한 장치가 제공된다. 장치는, 진공 챔버, 제1 방향으로 연장되고 적어도 제1 방향으로의 기판 캐리어의 운송을 위해 구성되는 제1 트랙 어레인지먼트, 제1 방향으로 연장되고 적어도 제1 방향으로의 마스크 캐리어의 운송을 위해 구성되는 제2 트랙 어레인지먼트, 및 기판 캐리어 및 마스크 캐리어를 서로에 대해 포지셔닝하도록 구성된 홀딩 어레인지먼트를 포함한다. 제1 트랙 어레인지먼트는, 또한 마스크 캐리어를 운송할 수 있도록 크기가 정해지고(sized), 제2 트랙 어레인지먼트는, 또한 기판 캐리어를 운송할 수 있도록 크기가 정해진다.
[0010] 실시예들은 또한, 개시된 방법들을 수행하기 위한 장치들에 관한 것이고, 각각의 설명된 방법 양상을 수행하기 위한 장치 파트들(parts)을 포함한다. 이러한 방법 양상들은, 하드웨어 컴포넌트들에 의해, 적절한 소프트웨어에 의해 프로그래밍된(programmed) 컴퓨터에 의해, 상기 2가지의 임의의 조합에 의해, 또는 임의의 다른 방식으로 수행될 수 있다. 게다가, 본 개시내용에 따른 실시예들은 또한, 설명된 장치를 동작시키는 방법들에 관한 것이다. 설명된 장치를 동작시키기 위한 방법들은, 장치의 모든 기능을 수행하기 위한 방법 양상들을 포함한다.
[0011] 본 개시내용의 상기 열거된 특징들이 상세히 이해될 수 있는 방식으로, 앞서 간략히 요약된, 본 개시내용의 보다 구체적인 설명이 실시예들을 참조로 하여 이루어질 수 있다. 첨부한 도면들은 본 개시내용의 실시예들에 관한 것이고, 이하에서 설명된다.
도 1a는, 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 기판 캐리어 및 제1 트랙 어레인지먼트의 개략도를 도시하고;
도 1b는, 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 마스크 캐리어 및 제2 트랙 어레인지먼트의 개략도를 도시하며;
도 2는, 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 기판의 진공 프로세싱을 위한 장치의 개략도를 도시하고;
도 3a는, 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 홀딩 어레인지먼트를 갖는, 기판의 진공 프로세싱을 위한 장치의 개략도를 도시하며;
도 3b는, 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 홀딩 어레인지먼트를 갖는, 기판의 진공 프로세싱을 위한 장치의 개략도를 도시하고;
도 4a 및 4b는, 본원에서 설명되는 추가적인 실시예들에 따른 홀딩 어레인지먼트를 갖는, 기판의 진공 프로세싱을 위한 장치의 개략도들을 도시하며;
도 5a 및 5b는, 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 캐리어의 운송을 위한 운송 어레인지먼트의 개략도들을 도시하고;
도 6은, 본원에서 설명되는 추가적인 실시예들에 따른 기판의 진공 프로세싱을 위한 장치의 개략도를 도시하며;
도 7은, 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 기판의 진공 프로세싱을 위한 시스템의 개략도를 도시하고; 그리고
도 8은, 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 진공 챔버에서의 기판 캐리어 및 마스크 캐리어의 운송을 위한 방법의 흐름도를 도시한다.
[0012] 이제, 본 개시내용의 다양한 실시예들에 대한 참조가 상세히 이루어질 것이며, 다양한 실시예들 중 하나 또는 그 초과의 예들이 도면들에 예시된다. 도면들에 대한 이하의 설명에서, 동일한 참조 번호들은 동일한 컴포넌트들을 지칭한다. 일반적으로, 개별적인 실시예들에 대한 차이들만이 설명된다. 각각의 예는 본 개시내용의 설명으로써 제공되고, 본 개시내용의 제한을 의미하지 않는다. 또한, 일 실시예의 부분으로서 예시되거나 설명되는 특징들은, 더 추가적인 실시예를 생성하기 위해 다른 실시예들과 함께 사용되거나 또는 다른 실시예들에 대해 사용될 수 있다. 상세한 설명은 그러한 수정들 및 변형들을 포함하도록 의도된다.
[0013] 본 개시내용은, 적어도 하나의 치수가 동등하게 크기가 정해진, 기판 캐리어를 위한 제1 트랙 어레인지먼트, 및 마스크 캐리어를 위한 제2 트랙 어레인지먼트를 제공한다. 다시 말해서, 마스크 캐리어는 제1 트랙 어레인지먼트 내에 끼워맞춤되고(fit), 기판 캐리어는 제2 트랙 어레인지먼트 내에 끼워맞춤된다. 제1 트랙 어레인지먼트 및 제2 트랙 어레인지먼트는, 진공 시스템을 통해 캐리어들의 정확하고 매끄러운 운송을 제공하면서 유연하게 사용될 수 있다. 홀딩 어레인지먼트는, 마스크에 대한 기판의, 또는 역으로 기판에 대한 마스크의 정밀한 정렬을 허용한다. 예컨대, 고해상도 OLED 디바이스들의 생산을 위한 고품질 프로세싱 결과들이 달성될 수 있다.
[0014] 도 1a는, 제1 트랙 어레인지먼트(110) 및 기판 캐리어(120)의 개략도를 도시한다. 도 1b는, 제2 트랙 어레인지먼트(130) 및 마스크 캐리어(140)의 개략도를 도시한다. 도 2는, 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 기판(10)의 진공 프로세싱을 위한 장치(200)의 개략도를 도시한다.
[0015] 장치(200)는, 진공 챔버, 기판 캐리어(120)의 운송을 위해 구성된 제1 트랙 어레인지먼트(110), 마스크 캐리어(140)의 운송을 위해 구성된 제2 트랙 어레인지먼트(130), 및 기판 캐리어(120) 및 마스크 캐리어(140)를 서로에 대해 포지셔닝하도록 구성된 홀딩 어레인지먼트를 포함한다. 제1 트랙 어레인지먼트(110)는, 기판(10)의 제1 단부(12)에서 기판 캐리어(120)를 지지하도록 구성된 제1 부분, 예컨대, 제1 트랙(112), 및 기판(10)의 제1 단부(12) 반대편의, 기판(10)의 제2 단부(14)에서 기판 캐리어(120)를 지지하도록 구성된 제2 부분, 예컨대, 제2 트랙(114)을 포함한다. 제2 트랙 어레인지먼트(130)는, 마스크(20)의 제1 단부(22)에서 마스크 캐리어(140)를 지지하도록 구성된 제1 부분, 예컨대, 추가적인 제1 트랙(132), 및 마스크(20)의 제1 단부(22) 반대편의, 마스크(20)의 제2 단부(24)에서 마스크 캐리어(140)를 지지하도록 구성된 제2 부분, 예컨대, 추가적인 제2 트랙(134)을 포함한다. 제1 트랙 어레인지먼트(110)의 제1 부분과 제2 부분 사이의 제1 거리(D) 및 제2 트랙 어레인지먼트(130)의 추가적인 제1 부분과 추가적인 제2 부분 사이의 제2 거리(D')는 본질적으로 동등하거나 본질적으로 동일하다. 거리(들)는 제2 방향(y-방향)으로 정의될 수 있고, 이는 본질적으로 수직 방향일 수 있다.
[0016] 본질적으로 동일한 거리들, 즉, 제1 거리(D) 및 제2 거리(D')를 제1 트랙 어레인지먼트(110) 및 제2 트랙 어레인지먼트(130)에 제공함으로써, 제1 트랙 어레인지먼트(110)는, 또한 마스크 캐리어(140)를 운송할 수 있도록 크기가 정해질 수 있고, 제2 트랙 어레인지먼트(130)는, 또한 기판 캐리어(120)를 운송할 수 있도록 크기가 정해질 수 있다. 다시 말해서, 마스크 캐리어(140)는 제1 트랙 어레인지먼트(110) 내에 끼워맞춤되고, 기판 캐리어(120)는 제2 트랙 어레인지먼트(130) 내에 끼워맞춤된다. 제1 트랙 어레인지먼트(110) 및 제2 트랙 어레인지먼트(130)는, 진공 시스템을 통해 캐리어들의 정확하고 매끄러운 운송을 제공하면서 유연하게 사용될 수 있다.
[0017] 본 개시내용 전체에서 사용되는 바와 같이, "본질적으로 동등한" 또는 "본질적으로 동일한"은, 특히, 거리들, 예컨대, 제1 부분과 제2 부분 사이의 거리들(D 및 D')을 지칭할 때, 정확한 동일성/일치성으로부터 약간의 편차를 허용하는 것으로 이해된다. 예로서, 제2 거리(D')는 D±(5% x D)의 범위에 있을 수 있거나, D±(1% x D)의 범위에 있을 수 있다. 편차는 제조 공차들 및/또는 열 팽창에 기인할 수 있다. 그러나, 거리들은 본질적으로 동등하거나 본질적으로 동일한 것으로 간주된다.
[0018] 진공 챔버는 챔버 벽(201)을 포함할 수 있다. 도 2에 예시적으로 도시된 바와 같이, 제1 트랙 어레인지먼트(110) 및 제2 트랙 어레인지먼트(130)는 진공 챔버의 챔버 벽(201)과, 하나 또는 그 초과의 증착 소스들(225) 사이에 배열될 수 있다. 특히, 제1 트랙 어레인지먼트(110)는 챔버 벽(201)과 제2 트랙 어레인지먼트(130) 사이에 배열될 수 있다. 유사하게, 제2 트랙 어레인지먼트(130)는 제1 트랙 어레인지먼트(110)와, 하나 또는 그 초과의 증착 소스들(225) 사이에 배열될 수 있다.
[0019] 도 1a를 참조하면, 기판 캐리어(120)는, 예컨대, 기판(10)의 후방 표면과 접촉하도록 구성된 본질적으로 평평한 표면일 수 있는 지지 표면(122)을 제공하는 지지 구조 또는 본체를 포함할 수 있다. 특히, 기판(10)은 후방 표면 반대편의 전방 표면(또한, "프로세싱 표면"으로 지칭됨)을 가질 수 있고, 진공 프로세싱, 예컨대, 진공 증착 프로세스 동안에, 층이 이러한 전방 표면 상에 증착된다. 기판(10)의 제1 단부(12)는 기판(10)의 제1 에지(edge)일 수 있고, 기판(10)의 제2 단부(14)는 기판(10)의 제2 에지일 수 있다. 프로세싱 표면은 제1 단부 또는 제1 에지와, 제2 단부 또는 제2 에지 사이에서 연장될 수 있다. 제1 단부(또는 제1 에지) 및 제2 단부(또는 제2 에지)는, 예컨대, 제1 방향으로, 서로에 대해 본질적으로 평행하게 연장될 수 있다. 유사하게, 마스크(20)의 제1 단부(22)는 마스크(20)의 제1 에지일 수 있고, 마스크(20)의 제2 단부(24)는 마스크의 제2 에지일 수 있다. 제1 단부(또는 제1 에지) 및 제2 단부(또는 제2 에지)는, 예컨대, x-방향일 수 있는 제1 방향으로, 서로에 대해 본질적으로 평행하게 연장될 수 있다.
[0020] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 결합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 기판 캐리어(120)는, 기판(10) 및 선택적으로 마스크를 기판 캐리어(120)에, 그리고 특히, 지지 표면(122)에 홀딩하기 위한 정전기력을 제공하는 정전 척(electrostatic chuck)(E-척)일 수 있다. 예로서, 기판 캐리어(120)는, 기판(10) 및 마스크(20) 중 적어도 하나에 대해 작용하는 인력(attracting force)을 제공하도록 구성된 전극 어레인지먼트(도시되지 않음)를 포함한다.
[0021] 몇몇 실시예들에 따르면, 기판 캐리어(120)는, 기판(10) 및 마스크(20) 중 적어도 하나를 지지 표면(122)에 홀딩하기 위한 인력을 제공하도록 구성된 복수의 전극들을 갖는 전극 어레인지먼트, 및 제어기를 포함한다. 제어기는, 인력(또한, "척킹력"으로 지칭됨)을 제공하기 위해, 하나 또는 그 초과의 전압들을 전극 어레인지먼트에 인가하도록 구성될 수 있다.
[0022] 전극 어레인지먼트의 복수의 전극들은 본체에 매립될(embedded) 수 있거나, 본체 상에 제공, 예컨대, 위치될 수 있다. 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 결합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 본체는 유전체 본체, 예컨대, 유전체 플레이트이다. 유전체 본체는, 유전체 재료, 바람직하게 높은 열 전도성 유전체 재료, 예컨대, 열분해 붕소 나이트라이드(pyrolytic boron nitride), 알루미늄 나이트라이드, 실리콘 나이트라이드, 알루미나, 또는 동등한 재료로 제조될 수 있지만, 폴리이미드와 같은 재료들로 만들어질 수도 있다. 몇몇 실시예들에서, 복수의 전극들, 예컨대, 미세 금속 스트립들(fine metal strips)의 그리드(grid)는, 유전체 플레이트 상에 위치될 수 있고, 얇은 유전체 층으로 커버될 수 있다.
[0023] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 결합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 기판 캐리어(120)는, 하나 또는 그 초과의 전압들을 복수의 전극들에 인가하도록 구성된 하나 또는 그 초과의 전압 소스들을 포함한다. 몇몇 구현들에서, 하나 또는 그 초과의 전압 소스들은 복수의 전극들의 적어도 일부 전극들을 접지하도록(ground) 구성된다. 예로서, 하나 또는 그 초과의 전압 소스들은, 제1 극성을 갖는 제1 전압, 제2 극성을 갖는 제2 전압, 및/또는 접지를 복수의 전극들에 인가하도록 구성될 수 있다.
[0024] 전극 어레인지먼트, 그리고 특히, 복수의 전극들은 인력, 예컨대, 척킹력을 제공하도록 구성될 수 있다. 인력은, 복수의 전극들(또는 지지 표면(122))과 기판(10) 및/또는 마스크(20) 사이의 특정한 상대 거리에서 기판(10) 및/또는 마스크(20)에 대해 작용하는 힘일 수 있다. 인력은, 복수의 전극들에 인가되는 전압들에 의해 제공되는 정전기력일 수 있다. 인력의 크기는 전압 극성 및 전압 레벨에 의해 결정될 수 있다. 인력은 전압 극성들을 변경함으로써 그리고/또는 전압 레벨(들)을 변경함으로써 변화될 수 있다.
[0025] 기판(10)은 기판 캐리어(120)에 의해 제공되는 인력에 의해 지지 표면(122)을 향해(예컨대, 제1 방향(x-방향) 및/또는 제2 방향(y-방향)에 대해 수직인 제3 방향(z-방향)으로) 끌어당겨질 수 있다. 인력은, 예컨대, 마찰력들에 의해 본질적으로 수직 포지션에서 기판(10)을 홀딩하기에 충분히 강할 수 있다. 특히, 인력은 기판(10)을 지지 표면(122) 상에 본질적으로 이동 가능하지 않게(immoveable) 고정시키도록 구성될 수 있다. 예컨대, 마찰력들을 사용하여 0.5 mm 유리 기판을 수직 포지션에 홀딩하기 위해, 마찰 계수에 따라, 약 50 내지 100 N/m2(Pa)의 유인 압력(attracting pressure)이 사용될 수 있다.
[0026] 본 개시내용에서, "마스크 캐리어"는 마스크를 홀딩하도록 구성된 캐리어로서 이해되어야 한다. 예컨대, 마스크는 에지 배제 마스크 또는 새도우 마스크일 수 있다. 에지 배제 마스크는, 기판의 하나 또는 그 초과의 에지 영역들을 마스킹하고, 이로써, 기판의 코팅 동안에 하나 또는 그 초과의 에지 영역들 상에 재료가 증착되지 않도록 구성된 마스크이다. 새도우 마스크는, 기판 상에 증착될 복수의 피처들을 마스킹하도록 구성되기 위한 마스크이다. 예컨대, 새도우 마스크는 복수의 작은 개구부들, 예컨대, 작은 개구부들의 그리드를 포함할 수 있다.
[0027] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 결합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 제1 트랙 어레인지먼트(110) 및 제2 트랙 어레인지먼트(130)는, 본질적으로 수평 방향일 수 있는 제1 방향(x-방향)으로 연장된다. 특히, 제1 부분, 제2 부분, 추가적인 제1 부분, 및 추가적인 제2 부분은 모두, 제1 방향으로 연장될 수 있다. 다시 말해서, 제1 부분, 제2 부분, 추가적인 제1 부분, 및 추가적인 제2 부분은 서로에 대해 본질적으로 평행하게 연장될 수 있다. 제1 부분, 제2 부분, 추가적인 제1 부분, 및 추가적인 제2 부분의 연장은 또한, "길이방향(longitudinal) 연장"으로 지칭될 수 있다.
[0028] 몇몇 구현들에서, 제1 트랙 어레인지먼트(110)는, 적어도 제1 방향으로의 기판 캐리어(120)의 운송을 위해 구성된다. 유사하게, 제2 트랙 어레인지먼트(130)는, 적어도 제1 방향으로의 마스크 캐리어(140)의 운송을 위해 구성될 수 있다. 제1 방향은 또한, "운송 방향"으로서 지칭될 수 있다.
[0029] 몇몇 실시예들에 따르면, 제1 부분, 예컨대, 제1 트랙(112), 및 추가적인 제1 부분, 예컨대, 추가적인 제1 트랙(132)은, 제1 방향, 및 제1 방향에 대해 수직인 다른 방향에 의해 정의된 제1 평면에 배열된다. 유사하게, 제2 부분, 예컨대, 제2 트랙(114), 및 추가적인 제2 부분, 예컨대, 추가적인 제2 트랙(134)은, 제1 방향 및 다른 방향에 의해 정의된 제2 평면에 배열될 수 있다. 제1 평면 및 제2 평면은 서로에 대해 본질적으로 평행할 수 있다. 몇몇 구현들에서, 제1 평면 및 제2 평면은 본질적으로 수직 평면들 또는 본질적으로 수평 평면들일 수 있다.
[0030] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 결합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 제1 방향은 수평 방향(x-방향)일 수 있다. 다른 방향은 또 다른 수평 방향 또는 수직 방향일 수 있다. 예로서, 다른 방향은, 본질적으로 수직 방향일 수 있는 제2 방향(y 방향)일 수 있거나, 본질적으로 수평 방향일 수 있는 제3 방향(z 방향)일 수 있다.
[0031] 몇몇 실시예들에서, 제1 거리(D) 및 제2 거리(D')는, 제1 방향 및 다른 방향, 예컨대, 제2 방향(y 방향)에 대해 수직인 방향으로 정의된다. 제1 거리(D)는, 제1 부분과 제2 부분 사이의 간격, 예컨대, 서로 대면하는, 제1 부분 및 제2 부분의 최외각 표면들 또는 에지 표면들 사이의 간격일 수 있다. 유사하게, 제2 거리(D')는, 추가적인 제1 부분과 추가적인 제2 부분 사이의 간격, 예컨대, 서로 대면하는, 추가적인 제1 부분 및 추가적인 제2 부분의 최외각 표면들 또는 에지 표면들 사이의 간격일 수 있다.
[0032] 몇몇 실시예들에 따르면, 제1 부분, 예컨대, 제1 트랙(112)과 다른 제1 부분, 예컨대, 다른 제1 트랙(132) 사이의 제3 거리 또는 제3 간격은, 100 mm 또는 그 미만, 특히 70 mm 또는 그 미만, 특히 50 mm 또는 그 미만, 그리고 더 특히 40 mm 또는 그 미만일 수 있다. 유사하게, 제2 부분, 예컨대, 제2 트랙(114)과 다른 제2 부분, 예컨대, 다른 제2 트랙(134) 사이의 제4 거리 또는 제4 간격은, 200 mm 또는 그 미만, 특히 100 mm 또는 그 미만, 특히 70 mm 또는 그 미만, 그리고 더 특히 50 mm 또는 그 미만일 수 있다. 제3 거리 및 제4 거리는 본질적으로 동일할 수 있다. 몇몇 구현들에서, 제3 거리 및 제4 거리는, 수직 방향일 수 있는 제2 방향(y 방향)으로 정의될 수 있거나, 수평 방향일 수 있는 제3 방향(z 방향)으로 정의될 수 있다. 후자의 경우는 도 2에 예시되어 있다. 거리들 또는 간격들은, 서로 대면하는, 각각의 부분들의 에지들 또는 표면들 사이에서 정의될 수 있다.
[0033] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 결합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 장치(200)는 기판 캐리어(120) 및/또는 마스크 캐리어(140)의 비접촉식 공중부양(levitation) 및/또는 비접촉식 운송을 위해 구성될 수 있다. 예로서, 장치(200)는 기판 캐리어(120) 및/또는 마스크 캐리어(140)의 비접촉식 공중부양을 위해 구성된 안내 구조를 포함할 수 있다. 유사하게, 장치(200)는 기판 캐리어(120) 및/또는 마스크 캐리어(140)의 비접촉식 운송을 위해 구성된 구동(drive) 구조를 포함할 수 있다. 비접촉식 공중부양 및 비접촉식 운송은 도 5a, 5b, 및 6에 관하여 추가적으로 설명된다.
[0034] 본 개시내용에서, 비접촉식 운송을 위해 구성된 트랙 또는 트랙 어레인지먼트는, 캐리어, 특히, 기판 캐리어 또는 마스크 캐리어의 비접촉식 운송을 위해 구성된 트랙 또는 트랙 어레인지먼트로서 이해되어야 한다. "비접촉식"이라는 용어는, 캐리어, 예컨대, 기판 캐리어 또는 마스크 캐리어의 무게가 기계적 접촉 또는 기계적 힘들에 의해 홀딩되지 않고 자기력에 의해 홀딩되는 의미로 이해될 수 있다. 특히, 캐리어는, 기계적 힘들 대신에 자기력들을 사용하여 공중부양 또는 부유(floating) 상태로 홀딩될 수 있다. 예컨대, 몇몇 구현들에서, 특히, 기판 캐리어 및/또는 마스크 캐리어의 공중부양, 이동, 및 포지셔닝 동안에, 캐리어와 운송 트랙 사이에 기계적 접촉이 존재하지 않을 수 있다.
[0035] 캐리어(들)의 비접촉식 공중부양 및/또는 운송은, 운송 동안에, 예컨대, 안내 레일들과의 기계적 접촉에 기인하여 생성되는 입자들이 존재하지 않는다는 점에서 유익하다. 비접촉식 공중부양 및/또는 운송을 사용할 때, 입자 생성이 최소화되기 때문에, 기판(10) 상에 증착되는 층들의 개선된 순도 및 균일성이 제공될 수 있다.
[0036] 몇몇 구현들에서, 기판 캐리어(120)는 제1 치수(H)(또는 제1 연장)를 갖고, 마스크 캐리어(140)는 추가적인 제1 치수(H')(또는, 추가적인 제1 연장)를 갖는다. 제1 치수(H) 및 추가적인 제1 치수(H')는 제1 방향에 대해 수직인 방향으로 정의될 수 있다. 예로서, 제1 치수(H) 및 추가적인 제1 치수(H')는, 수직 방향일 수 있는 제2 방향으로 정의될 수 있다. 제1 치수(H) 및 추가적인 제1 치수(H')는, 각각, 기판 캐리어(120) 및 마스크 캐리어(140)의 높이일 수 있다. 제1 치수(H) 및 추가적인 제1 치수(H')는 본질적으로 동일할 수 있다. 다시 말해서, 기판 캐리어(120)는 제1 트랙 어레인지먼트(110)의 제1 부분과 제2 부분 사이 뿐만 아니라 제2 트랙 어레인지먼트(130)의 추가적인 제1 부분과 추가적인 제2 부분 사이에도 끼워맞춤될 수 있다. 유사하게, 마스크 캐리어(140)는 제1 트랙 어레인지먼트(110)의 제1 부분과 제2 부분 사이 뿐만 아니라 제2 트랙 어레인지먼트(130)의 추가적인 제1 부분과 추가적인 제2 부분 사이에도 끼워맞춤될 수 있다.
[0037] 몇몇 실시예들에 따르면, 제1 치수(H) 및 추가적인 제1 치수(H')는 제1 거리(D) 및 제2 거리(D')와 동등하거나 그 미만이다. 다시 말해서, 기판 캐리어(120) 및 마스크 캐리어(140)는 제1 부분들과 제2 부분들 사이의 갭(gap)보다 더 작다. 제1 갭(G1)은 제1 트랙 어레인지먼트(110)의 제1 부분과 기판 캐리어(120)의 제1 에지(예컨대, 하부 에지) 사이에 제공될 수 있다. 제2 갭(G2)은 제1 트랙 어레인지먼트(110)의 제2 부분과 기판 캐리어(120)의 제2 에지(예컨대, 상부 에지) 사이에 제공될 수 있다. 제1 에지 및 제2 에지는 기판 캐리어(120)의 대향하는 에지들일 수 있다. 유사하게, 추가적인 제1 갭(G1')은 제2 트랙 어레인지먼트(130)의 추가적인 제1 부분과 마스크 캐리어(140)의 제1 에지(예컨대, 하부 에지) 사이에 제공될 수 있다. 추가적인 제2 갭(G2')은 제2 트랙 어레인지먼트(130)의 추가적인 제2 부분과 마스크 캐리어(140)의 제2 에지(예컨대, 상부 에지) 사이에 제공될 수 있다. 제1 에지 및 제2 에지는 마스크 캐리어(140)의 대향하는 에지들일 수 있다.
[0038] 제1 갭(G1), 제2 갭(G2), 추가적인 제1 갭(G1'), 및 추가적인 제2 갭(G2')은 본질적으로 동일하거나 동등할 수 있다. 갭(들)의 폭 또는 치수는 제1 방향에 대해 수직인 방향, 예컨대, 제2 방향으로 정의될 수 있다. 예로서, 제1 갭(G1), 제2 갭(G2), 추가적인 제1 갭(G1'), 및 추가적인 제2 갭(G2')은 30 mm 미만, 특히 10 mm 미만, 더 특히 5 mm 미만일 수 있다. 예로서, 제1 갭(G1), 제2 갭(G2), 추가적인 제1 갭(G1'), 및 추가적인 제2 갭(G2') 중 적어도 하나는, 1 내지 5 mm의 범위, 바람직하게 1 내지 3 mm의 범위에 있을 수 있다.
[0039] 하나 또는 그 초과의 증착 소스들(225)이 진공 챔버에 제공될 수 있다. 기판 캐리어(120)는 진공 증착 프로세스 동안 기판(10)을 홀딩하도록 구성될 수 있다. 진공 시스템은, 예컨대, OLED 디바이스들의 제조를 위한 유기 재료의 증발을 위해 구성될 수 있다. 예로서, 하나 또는 그 초과의 증착 소스들(225)은 증발 소스들, 특히, OLED 디바이스의 층을 형성하기 위해 하나 또는 그 초과의 유기 재료들을 기판 상에 증착시키기 위한 증발 소스들일 수 있다. 기판(10)을 지지하기 위한 기판 캐리어(120)는, 제1 트랙 어레인지먼트(110)에 의해 제공되는 운송 경로, 예컨대, 선형 운송 경로를 따라, 진공 챔버 내로 그리고 진공 챔버를 통해, 그리고 특히, 증착 지역 내로 그리고/또는 증착 지역을 통해 운송될 수 있다.
[0040] 재료는, 코팅될 기판(10)이 로케이팅되는 증착 지역을 향해, 방출 방향으로, 하나 또는 그 초과의 증착 소스들(225)로부터 방출될 수 있다. 예컨대, 하나 또는 그 초과의 증착 소스들(225)은, 하나 또는 그 초과의 증착 소스들(225)의 길이를 따른 적어도 하나의 라인에 배열되는 복수의 개구부들 및/또는 노즐들을 갖는 라인(linie) 소스를 제공할 수 있다. 재료는 복수의 개구부들 및/또는 노즐들을 통해 분출될 수 있다.
[0041] 본 개시내용의 장치는, 캐리어, 특히, 기판 캐리어 및/또는 마스크 캐리어의 포지셔닝을 위해 구성될 수 있다. 특히, 장치는, 기판 캐리어 및/또는 마스크 캐리어를 트랙 어레인지먼트를 따라 이동시키도록 구성될 수 있다. 더 특히, 장치는, 기판 캐리어를 제1 트랙 어레인지먼트를 따라 이동시킴으로써, 기판 캐리어를 제1 포지션에 포지셔닝하도록 구성될 수 있다. 부가적으로, 장치는, 마스크 캐리어를 제2 트랙 어레인지먼트를 따라 이동시킴으로써, 마스크 캐리어를 제2 포지션에 포지셔닝하도록 구성될 수 있다. 예컨대, 제1 트랙 어레인지먼트 및 제2 트랙 어레인지먼트는 비접촉식 운송을 위해 구성될 수 있다. 이에 따라, 장치는, 예컨대, 기판 캐리어와 마스크 캐리어를 정렬시키기 위해, 기판 캐리어 및 마스크 캐리어를 서로 독립적으로 이동시키고, 이로써, 기판 캐리어 및 마스크 캐리어가 서로에 대해 상대적으로 포지셔닝될 수 있도록 구성될 수 있다.
[0042] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 결합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 캐리어들은 기판 및 마스크를 실질적으로 수직 배향으로 홀딩하거나 지지하도록 구성된다. 본 개시내용 전체에서 사용되는 바와 같이, "실질적으로 수직으로"는, 특히, 기판 배향을 지칭할 때, 수직 방향 또는 배향으로부터 ±20° 또는 그 미만, 예컨대, ±10° 또는 그 미만의 편차를 허용하는 것으로 이해된다. 예컨대, 수직 배향으로부터 어떠한 편차를 갖는 기판 지지부가, 더 안정적인 기판 포지션을 초래할 수 있기 때문에, 이러한 편차가 제공될 수 있다. 또한, 기판이 전방으로 틸팅될(tilted) 때, 더 적은 입자들이 기판 표면에 도달한다. 그럼에도 불구하고, 예컨대, 진공 증착 프로세스 동안, 기판 배향은 실질적으로 수직인 것으로 간주되고, 이는, 수평 ±20° 또는 그 미만으로서 간주될 수 있는 수평 기판 배향과 상이한 것으로 간주된다.
[0043] "수직 방향" 또는 "수직 배향"이라는 용어는, "수평 방향" 또는 "수평 배향"에 대해서 구별되는 것으로 이해된다. 즉, "수직 방향" 또는 "수직 배향"은, 예컨대, 캐리어들의 실질적으로 수직인 배향에 관한 것이며, 정확한 수직 방향 또는 수직 배향으로부터 몇 도, 예컨대, 10°까지 또는 심지어 15°까지의 편차는 여전히 "실질적으로 수직 방향" 또는 "실질적으로 수직 배향"으로 간주된다. 수직 방향은 중력에 실질적으로 평행할 수 있다.
[0044] 본원에서 설명되는 실시예들은, 예컨대, OLED 디스플레이 제조를 위한 대면적 기판들 상에의 증발을 위해 활용될 수 있다. 특히, 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 구조들 및 방법들에 제공되는 기판들은 대면적 기판들이다. 예컨대, 대면적 기판 또는 캐리어는, 약 0.67㎡(0.73x0.92m)의 표면적에 대응하는 4.5 세대(GEN), 약 1.4㎡(1.1 x 1.3m)의 표면적에 대응하는 5 세대, 약 4.29㎡(1.95m x 2.2m)의 표면적에 대응하는 7.5 세대, 약 5.7㎡(2.2m x 2.5m)의 표면적에 대응하는 8.5 세대, 또는 심지어, 약 8.7㎡(2.85m x 3.05m)의 표면적에 대응하는 10 세대일 수 있다. 심지어 11 세대 및 12 세대와 같은 더 큰 세대들 및 대응하는 표면적들이 유사하게 구현될 수 있다. 세대들의 절반 크기들이 또한, OLED 디스플레이 제조에 제공될 수 있다.
[0045] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 결합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 기판 두께는 0.1 내지 1.8 mm일 수 있다. 기판 두께는 약 0.9 mm 내지 그 미만, 예컨대, 0.5 mm일 수 있다. 본원에서 사용되는 바와 같은 "기판"이라는 용어는 특히, 실질적으로 비가요성(inflexible) 기판들, 예컨대, 웨이퍼, 사파이어 등과 같은 투명 크리스탈의 슬라이스들(slices), 또는 유리 플레이트를 포함할 수 있다. 그러나, 본 개시내용은 그에 제한되지 않으며, "기판"이라는 용어는 또한, 웨브(web) 또는 포일(foil)과 같은 가요성 기판들을 포함할 수 있다. "실질적으로 비가요성"이라는 용어는 "가요성"에 대해서 구별되는 것으로 이해된다. 특히, 실질적으로 비가요성 기판은 특정 정도의 가요성을 가질 수 있는데, 예컨대, 유리 플레이트는 0.9 mm 또는 그 미만, 예컨대, 0.5 mm 또는 그 미만의 두께를 갖고, 실질적으로 비가요성 기판의 가요성은, 가요성 기판들과 비교하여 작다.
[0046] 본원에서 설명되는 실시예들에 따르면, 기판은 재료 증착에 적합한 임의의 재료로 만들어질 수 있다. 예컨대, 기판은, 증착 프로세스에 의해 코팅될 수 있는, 유리(예컨대, 소다-라임 유리(soda-lime glass), 보로실리케이트(borosilicate) 유리, 등), 금속, 폴리머, 세라믹, 화합물 재료들, 탄소 섬유 재료들, 또는 임의의 다른 재료 또는 재료들의 조합으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 재료로 만들어질 수 있다.
[0047] "마스킹"이라는 용어는, 기판(10)의 하나 또는 그 초과의 영역들 상에의 재료의 증착을 감소시키고 그리고/또는 저해하는 것을 포함할 수 있다. 마스킹은, 예컨대, 코팅될 지역을 정의하기 위해 유용할 수 있다. 몇몇 애플리케이션들에서, 기판(10)의 오직 부분들만이 코팅되고, 코팅되어서는 안될 부분들은 마스크에 의해 커버된다.
[0048] 도 3a는, 본원에서 설명되는 추가적인 실시예들에 따른 진공 프로세싱을 위한 장치(300)의 개략도를 도시한다.
[0049] 장치(300)는 홀딩 어레인지먼트(310)를 포함한다. 홀딩 어레인지먼트(310)는 기판 캐리어(120) 및 마스크 캐리어(140)를 서로에 대해 포지셔닝하도록 구성될 수 있다. 예로서, 홀딩 어레인지먼트(310)는, 기판 캐리어(120)를 이동시키면서 마스크 캐리어(140)를 정지된 상태로 유지함으로써, 또는 마스크 캐리어(140)를 이동시키면서 기판 캐리어(120)를 정지된 상태로 유지함으로써, 기판 캐리어(120) 및 마스크 캐리어(140)를 서로에 대해 정렬시키도록 구성될 수 있다. 더 추가적인 예들에서는, 기판 캐리어(120) 및 마스크 캐리어(140) 둘 모두가, 기판 캐리어(120) 및 마스크 캐리어(140)를 서로에 대해 포지셔닝 또는 정렬시키도록 이동될 수 있다.
[0050] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 결합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 홀딩 어레인지먼트(310)는 기판 캐리어(120) 및/또는 마스크 캐리어(140)를 홀딩하기 위해 구성될 수 있다. 홀딩 어레인지먼트(310)는, 제1 트랙 어레인지먼트와 제2 트랙 어레인지먼트 사이에 적어도 부분적으로 배열될 수 있다. 예로서, 홀딩 어레인지먼트(310)의 하나 또는 그 초과의 홀딩 디바이스들은 제1 부분, 예컨대, 제1 트랙(112)과 추가적인 제1 부분, 예컨대, 추가적인 제1 트랙(132) 사이에 배열될 수 있다. 홀딩 어레인지먼트(310)의 하나 또는 그 초과의 추가적인 홀딩 디바이스들은, 제2 부분, 예컨대, 제2 트랙(114)과 추가적인 제2 부분, 예컨대, 추가적인 제2 트랙(134) 사이에 배열될 수 있다.
[0051] 몇몇 구현들에서, 홀딩 어레인지먼트(310)는 진공 챔버의 바닥부 벽 및/또는 정상부 벽에 배열될 수 있다. 예로서, 홀딩 어레인지먼트(310)는, 바닥부 벽으로부터, 제1 부분, 예컨대, 제1 트랙(112)과 추가적인 제1 부분, 예컨대, 추가적인 제1 트랙(132) 사이의 포지션으로 연장될 수 있다. 유사하게, 홀딩 어레인지먼트(310)는, 정상부 벽으로부터, 제2 부분, 예컨대, 제2 트랙(114)과 추가적인 제2 부분, 예컨대, 추가적인 제2 트랙(134) 사이의 포지션으로 연장될 수 있다.
[0052] 몇몇 실시예들에 따르면, 홀딩 어레인지먼트(310)는 마스크 캐리어(140) 및/또는 기판 캐리어(120)를 미리 결정된 포지션에 홀딩하도록 구성된다. 또한, 선택적으로, 홀딩 어레인지먼트(310)는, 마스크 캐리어(140)를 기판 캐리어(120)에 대해 포지셔닝하도록, 또는 기판 캐리어(120)를 마스크 캐리어(140)에 대해 포지셔닝하도록 구성될 수 있다. 홀딩 어레인지먼트(310)를 제1 트랙 어레인지먼트와 제2 트랙 어레인지먼트 사이에 제공함으로써, 기판 캐리어(120)와 마스크 캐리어(140)의 개선된 정렬이 제공될 수 있다.
[0053] 몇몇 구현들에서, 홀딩 어레인지먼트(310)는, 기판 운송 방향(즉, 제1 방향)과 상이한 이동 방향으로 이동 가능하게 구성된 하나 또는 그 초과의 홀딩 디바이스들을 포함한다. 예컨대, 하나 또는 그 초과의 홀딩 디바이스들은, 기판 표면의 평면에 대해 실질적으로 수직인 방향으로 그리고/또는 실질적으로 평행한 방향으로 이동 가능하게 구성될 수 있다. 도 3a에서, 하나 또는 그 초과의 홀딩 디바이스들의 이동 방향들은, 하나 또는 그 초과의 홀딩 디바이스들 상에 도시된 양쪽 화살표들에 의해 표시된다.
[0054] 몇몇 구현들에서, 마스크 캐리어(140)는 제2 트랙 어레인지먼트 상에서, 홀딩 어레인지먼트(310)가 제공되는 미리 결정된 포지션으로 운송될 수 있고, 이동 가능한 홀딩 디바이스들은, 마스크 캐리어(140)를 미리 결정된 포지션에 홀딩하기 위해, 마스크 캐리어(140)를 향해 이동할 수 있다. 그런 후에, 기판 캐리어(120)는 제1 트랙 어레인지먼트 상에서, 마스크 캐리어(140)에 대응하는 미리 결정된 포지션으로 운송될 수 있다. 마스크 캐리어(140)를 홀딩하는 하나 또는 그 초과의 홀딩 디바이스들은, 예컨대, 척킹력, 이를테면 자기력 또는 전자기력을 사용하여 기판 캐리어(120)를 척킹함으로써, 기판 캐리어(120)를 홀딩하도록 구성될 수 있다.
[0055] 몇몇 실시예들에 따르면, 도 3a의 예에 예시된 바와 같이, 동일한 홀딩 디바이스들이 기판 캐리어(120) 및 마스크 캐리어(140)를 홀딩하는 데에 사용될 수 있다. 추가적인 실시예들에서, 도 4a 및 4b의 예에 예시된 바와 같이, 상이한 홀딩 디바이스들이, 각각, 기판 캐리어(120) 및 마스크 캐리어(140)를 홀딩하는 데에 사용될 수 있다.
[0056] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 결합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 홀딩 어레인지먼트(310)는 기판 캐리어(120)를 마스크 캐리어(140)에 대해 정렬시키기 위해 구성된 정렬 시스템을 포함할 수 있다. 특히, 정렬 시스템은, 기판 캐리어(120)의 포지션을 마스크 캐리어(140)에 대해 조정하도록 구성될 수 있다. 예컨대, 정렬 시스템은 둘 또는 그 초과의 정렬 액츄에이터들, 예컨대, 4개의 정렬 액츄에이터들을 포함할 수 있다. 예컨대, 정렬 시스템은, 예컨대, 유기 재료의 재료 증착 동안에 기판(10)과 마스크(20) 사이의 적절한 정렬을 제공하기 위해, 기판(10)을 홀딩하는 기판 캐리어(120)를, 마스크(20)를 홀딩하는 마스크 캐리어(140)에 대해 정렬시키도록 구성될 수 있다.
[0057] 몇몇 구현들에서, 마스크 캐리어(140)는 제2 트랙 어레인지먼트 상의 미리 결정된 마스크 포지션 내로 이동될 수 있다. 그런 후에, 홀딩 어레인지먼트(310)는 마스크 캐리어(140)를 홀딩하기 위해 전방으로 이동할 수 있다. 마스크 캐리어(140)가 포지셔닝된 이후에, 기판 캐리어(120)가, 미리 결정된 기판 포지션 내로 이동될 수 있다. 이어서, 기판 캐리어(120)는, 예컨대, 본원에서 설명되는 바와 같은 정렬 시스템에 의해, 마스크 캐리어(140)에 대해 정렬될 수 있다.
[0058] 몇몇 구현들에서, 홀딩 어레인지먼트는, 기판 캐리어(120) 및 마스크 캐리어(140)를 서로에 대해 포지셔닝하기 위한 하나 또는 그 초과의 정렬 액츄에이터들을 포함한다. 예로서, 둘 또는 그 초과의 정렬 액츄에이터들은, 기판 캐리어(120) 및 마스크 캐리어(140)를 서로에 대해 포지셔닝하기 위한 압전 액츄에이터들일 수 있다. 그러나, 본 개시내용은 압전 액츄에이터들에 제한되지 않는다. 예로서, 둘 또는 그 초과의 정렬 액츄에이터들은 전기 또는 공압 액츄에이터들일 수 있다. 둘 또는 그 초과의 정렬 액츄에이터들은, 예컨대, 선형 정렬 액츄에이터들일 수 있다. 몇몇 구현들에서, 둘 또는 그 초과의 정렬 액츄에이터들은, 스테퍼(stepper) 액츄에이터, 브러시리스(brushless) 액츄에이터, DC(직류) 액츄에이터, 보이스 코일(voice coil) 액츄에이터, 압전 액츄에이터, 및 이들의 임의의 조합으로 구성된 그룹으로부터 선택된 적어도 하나의 액츄에이터를 포함할 수 있다.
[0059] 몇몇 실시예들에 따르면, 하나 또는 그 초과의 정렬 액츄에이터들은, 제1 운송 어레인지먼트와 제2 운송 어레인지먼트 사이에 제공될 수 있다. 특히, 하나 또는 그 초과의 정렬 액츄에이터들은 기판 캐리어(120)와 마스크 캐리어(140) 사이에 제공될 수 있다. 하나 또는 그 초과의 정렬 액츄에이터들은, 장치의 풋프린트(footprint)를 감소시키는 공간-절약 방식으로 구현될 수 있다.
[0060] 본 개시내용의 몇몇 실시예들에 따르면, 홀딩 어레인지먼트(310)는 마스크 캐리어 및/또는 기판 캐리어를 홀딩하도록 구성될 수 있다. 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 결합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 홀딩 어레인지먼트는, 적어도 하나의 홀딩 디바이스를 포함할 수 있고, 적어도 2개의 홀딩 디바이스들, 예컨대, 3개의 홀딩 디바이스들, 4개의 홀딩 디바이스들, 또는 그 초과의 홀딩 디바이스들을 포함할 수 있다. 홀딩 디바이스는, 마스크 캐리어 또는 기판 캐리어 상에 제공되는 적어도 하나의 짝맞춤(mating) 연결 엘리먼트에 연결되도록 구성될 수 있는 수용부(reception)를 가질 수 있다. 예컨대, 적어도 하나의 짝맞춤 연결 엘리먼트는 록킹(locking) 볼트로서 구성될 수 있다. 마스크 캐리어 및/또는 기판 캐리어가, 미리 결정된 포지션에 있을 때, 올바른 포지션을 홀딩하기 위해, 홀딩 어레인지먼트 및 록킹 볼트들이 유리하게 채용될 수 있다. 몇몇 실시예들에 따르면, 홀딩 어레인지먼트는 또한, 홀딩 디바이스들을 포함할 수 있고, 홀딩 디바이스들은 자기력들을 이용하여 마스크 캐리어 및/또는 기판 캐리어에 연결된다. 예컨대, 하나 또는 그 초과의 홀딩 디바이스들은, 홀딩 디바이스를 마스크 캐리어 또는 기판 캐리어에 맞물리게 하기 위해 스위칭 온(switched on) 될 수 있는 전자석을 포함할 수 있다. 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 결합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 홀딩 어레인지먼트는 2개의 홀딩 디바이스들, 즉, 마스크 캐리어를 홀딩하기 위한 하나의 홀딩 디바이스, 및 기판 캐리어를 홀딩하기 위한 하나의 홀딩 디바이스를 포함할 수 있다. 예컨대, 2개의 자기 홀딩 디바이스들이 홀딩 어레인지먼트에 제공될 수 있다.
[0061] 도 3b는, 본원에서 설명되는 추가적인 실시예들에 따른 진공 프로세싱을 위한 장치(300)의 개략도를 도시한다.
[0062] 장치(300)는 홀딩 어레인지먼트(310)를 포함한다. 홀딩 어레인지먼트(310)는, 예컨대, 도 3a에 관하여 상기 설명된 바와 같이, 기판 캐리어(120) 및 마스크 캐리어(140)를 서로에 대해 포지셔닝하도록 구성될 수 있다.
[0063] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 결합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 홀딩 어레인지먼트(310)는 기판 캐리어(120) 및/또는 마스크 캐리어(140)를 홀딩하기 위해 구성될 수 있다. 홀딩 어레인지먼트(310)는, 제1 트랙 어레인지먼트와 제2 트랙 어레인지먼트 사이에 적어도 부분적으로 배열될 수 있다. 예로서, 홀딩 어레인지먼트(310)의 하나 또는 그 초과의 홀딩 디바이스들은 제1 부분, 예컨대, 제1 트랙(112)과 추가적인 제1 부분, 예컨대, 추가적인 제1 트랙(132) 사이에 배열될 수 있다. 홀딩 어레인지먼트(310)의 하나 또는 그 초과의 추가적인 홀딩 디바이스들은, 제2 부분, 예컨대, 제2 트랙(114)과 추가적인 제2 부분, 예컨대, 추가적인 제2 트랙(134) 사이에 배열될 수 있다. 몇몇 실시예들에 따르면, 제1 트랙 어레인지먼트와 제2 트랙 어레인지먼트 사이에 배열된 홀딩 디바이스는, 마스크 캐리어를 홀딩하기 위한 제1 엘리먼트, 및 기판 캐리어를 홀딩하기 위한 제2 엘리먼트를 가질 수 있다. 제1 엘리먼트 및 제2 엘리먼트는, 예컨대, 자기 엘리먼트들 또는 록킹 볼트일 수 있다.
[0064] 몇몇 구현들에서, 홀딩 어레인지먼트(310)는 진공 챔버의 바닥부 벽 및/또는 정상부 벽에 배열될 수 있다. 홀딩 어레인지먼트는, 마스크 캐리어와 기판 캐리어 또는 각각의 트랙 부분들 사이의 갭 내에 적어도 부분적으로 제공된다. 예로서, 홀딩 어레인지먼트(310)는, 바닥부 벽으로부터, 제1 부분, 예컨대, 제1 트랙(112)과 추가적인 제1 부분, 예컨대, 추가적인 제1 트랙(132) 사이의 포지션으로 연장될 수 있다. 유사하게, 홀딩 어레인지먼트(310)는, 정상부 벽으로부터, 제2 부분, 예컨대, 제2 트랙(114)과 추가적인 제2 부분, 예컨대, 추가적인 제2 트랙(134) 사이의 포지션으로 연장될 수 있다. 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 결합될 수 있는, 본 개시내용의 몇몇 실시예들에 따르면, 제1 트랙과 제2 트랙, 예컨대, 마스크 트랙과 캐리어 트랙 사이의 갭에 제공되는 홀딩 어레인지먼트는 장치(300)에 제공될 수 있으며, 마스크 캐리어는 기판 캐리어보다 더 크거나, 또는 역으로 기판 캐리어는 마스크 캐리어보다 더 크다. 기판 캐리어보다 더 큰 마스크 캐리어를 갖는 것은, 챔버 컴포넌트들, 예컨대, 챔버 벽의 일 부분이 재료로 코팅되는 위험을 감소시킨다. 예컨대, 제1 트랙(112)과 추가적인 제1 트랙 사이에 오프셋(offset)이 존재할 수 있다. 부가적으로 또는 대안적으로, 제2 트랙(114)과 추가적인 제2 트랙(134) 사이에 오프셋이 존재할 수 있다.
[0065] 홀딩 어레인지먼트(310)를 제1 트랙 어레인지먼트와 제2 트랙 어레인지먼트 사이에 제공함으로써, 기판 캐리어(120)와 마스크 캐리어(140)의 개선된 정렬이 제공될 수 있다. 예컨대, 홀딩 어레인지먼트의 길이(치수)가 감소될 수 있는데, 홀딩 어레인지먼트의 길이의 영향에 의해, 그러한 부정확성들은 증가되지 않을 수 있다. 일 실시예에 따르면, 홀딩 어레인지먼트는, 제1 트랙과 제2 트랙 사이의 갭에 적어도 부분적으로 제공될 수 있다. 홀딩 어레인지먼트는, 제1 캐리어, 예컨대, 기판 캐리어를, 갭을 대면하는 측에 홀딩하도록 구성되고, 제2 캐리어, 예컨대, 마스크 캐리어를, 갭을 대면하는 측에 홀딩하도록 구성된다. 또한, 더 추가적인 실시예들을 생성하기 위해, 본원에서 설명되는 다른 실시예들의 세부 사항들 및 양상들이 제공될 수 있다.
[0066] 도 4a 및 4b는, 본원에서 설명되는 추가적인 실시예들에 따른 홀딩 어레인지먼트를 갖는, 기판(10)의 진공 프로세싱을 위한 장치(400)의 개략도들을 도시한다.
[0067] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 결합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 홀딩 어레인지먼트는 기판 캐리어(120) 및/또는 마스크 캐리어(140)를 홀딩하기 위해 구성된다. 홀딩 어레인지먼트는, 제1 트랙 어레인지먼트 또는 제2 트랙 어레인지먼트에 인접한, 진공 챔버의 챔버 벽(201), 예컨대, 측벽에 배열될 수 있다.
[0068] 몇몇 구현들에서, 홀딩 어레인지먼트는 하나 또는 그 초과의 홀딩 디바이스들, 예컨대, 마스크 캐리어(140)를 홀딩하도록 구성된 하나 또는 그 초과의 제1 홀딩 디바이스들(412) 및/또는 기판 캐리어(120)를 홀딩하도록 구성된 하나 또는 그 초과의 제2 홀딩 디바이스들(422)을 포함한다. 하나 또는 그 초과의 홀딩 디바이스들은, 기판 운송 방향(즉, 제1 방향)과 상이한 이동 방향으로 이동 가능하게 구성될 수 있다. 예컨대, 하나 또는 그 초과의 홀딩 디바이스들은, 기판 표면의 평면에 대해 실질적으로 수직인 방향으로, 예컨대, 제3 방향으로 이동 가능하게 구성될 수 있다. 도 4a에서, 하나 또는 그 초과의 홀딩 디바이스들의 이동 방향은, 하나 또는 그 초과의 홀딩 디바이스들 상에 도시된 양쪽 화살표들에 의해 표시된다.
[0069] 몇몇 구현들에서, 마스크 캐리어(140)는 제2 트랙 어레인지먼트 상에서, 홀딩 어레인지먼트가 제공되는 미리 결정된 포지션으로 운송될 수 있다. 하나 또는 그 초과의 제1 홀딩 디바이스들(412)은, 예컨대, 척킹력, 이를테면 자기력 또는 전자기력을 사용하여 마스크 캐리어(140)를 척킹함으로써, 마스크 캐리어(140)를 미리 결정된 포지션에 홀딩하기 위해, 마스크 캐리어(140)를 향하여 이동할 수 있다. 그런 후에, 기판 캐리어(120)는 제1 트랙 어레인지먼트 상에서, 마스크 캐리어(140)에 대응하는 미리 결정된 포지션으로 운송될 수 있다. 하나 또는 그 초과의 제2 홀딩 디바이스들(422) 중 적어도 하나의 홀딩 디바이스는, 예컨대, 척킹력, 이를테면 자기력 또는 전자기력을 사용하여 기판 캐리어(120)를 척킹함으로써, 기판 캐리어(120)를 미리 결정된 포지션에 홀딩하기 위해, 기판 캐리어(120)를 향하여 이동할 수 있다.
[0070] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 결합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 제1 방향(x 방향)으로의 기판 캐리어(120)의 연장(예컨대, 길이)과, 제1 방향(x 방향)으로의 마스크 캐리어(140)의 연장(예컨대, 길이)은 상이하다. 특히, 기판 캐리어(120) 및 마스크 캐리어(140)는 동일한 높이들을 갖지만 상이한 길이들을 가질 수 있다. 특히, 기판 캐리어(120)의 길이는 마스크 캐리어(140)의 길이의 미만일 수 있다.
[0071] 진공 챔버의 측벽 상에 장착될 수 있는 하나 또는 그 초과의 제1 홀딩 디바이스들(412)이, 마스크 캐리어(140)를 파지하고(grab) 홀딩하기 위해, 기판 캐리어(120)의 에지들을 지나갈 수 있도록, 길이 차이가 선택될 수 있다. 특히, 하나 또는 그 초과의 제1 홀딩 디바이스들(412)은, 기판 캐리어(120)와의 간섭 없이, 기판 캐리어(120)를 지나갈 수 있다.
[0072] 몇몇 구현들에서, 마스크 캐리어(140)는 제2 트랙 어레인지먼트 상의 미리 결정된 마스크 포지션 내로 이동될 수 있고, 기판 캐리어(120)는 제1 트랙 어레인지먼트 상의 미리 결정된 기판 포지션 내로 이동될 수 있다. 그런 후에, 홀딩 어레인지먼트는 마스크 캐리어(140) 및 기판 캐리어(120)를 홀딩하기 위해 전방으로 이동할 수 있다. 이어서, 예컨대, 본원에서 설명되는 바와 같은 정렬 시스템에 의해, 기판 캐리어(120)가 마스크 캐리어(140)에 대해, 또는 그 역으로 마스크 캐리어(140)가 기판 캐리어(120)에 대해 정렬될 수 있다.
[0073] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 결합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 홀딩 어레인지먼트는, 도 3a에 관해 설명된 바와 같이, 기판 캐리어(120)를 마스크 캐리어(140)에 대해 정렬시키기 위해 구성된 정렬 시스템을 포함할 수 있다. 특히, 정렬 시스템은, 기판 캐리어(120)의 포지션을 마스크 캐리어(140)에 대해 조정하도록 구성될 수 있다.
[0074] 도 5a 및 5b는, 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 캐리어의 운송을 위한 운송 어레인지먼트의 개략도들을 도시한다. 도 5a 및 5b는 기판 캐리어(120)를 예시적으로 예시한다. 도 6은, 본원에서 설명되는 추가적인 실시예들에 따른 기판(10)의 진공 프로세싱을 위한 장치의 개략도를 도시한다.
[0075] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 결합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 장치는 기판 캐리어(120) 및 마스크 캐리어를 제1 방향으로 비접촉식으로 이동시키도록 구성된 구동 구조를 포함한다. 구동 구조는 제1 부분, 예컨대, 제1 트랙(112), 및 추가적인 제1 부분, 예컨대, 추가적인 제1 트랙(132)을 포함할 수 있다. 장치는, 진공 챔버에서 기판 캐리어(120) 및 마스크 캐리어(140)를 비접촉식으로 공중부양시키도록 구성된 안내 구조를 더 포함할 수 있다. 안내 구조는 제2 부분, 예컨대, 제2 트랙(114), 및 추가적인 제2 부분, 예컨대, 추가적인 제2 트랙(134)을 포함할 수 있다. 구동 구조는 자기 구동 구조일 수 있고 그리고/또는 안내 구조는 자기 안내 구조일 수 있다.
[0076] 몇몇 구현들에서, 구동 구조는, 기판 캐리어(120)를 제1 방향으로 비접촉식으로 이동시키도록 구성된 제1 구동 하위(sub)-구조(510), 및 마스크 캐리어(140)를 제1 방향으로 비접촉식으로 이동시키도록 구성된 제2 구동 하위-구조(512)를 포함한다. 제1 구동 하위-구조(510)는 제1 부분, 예컨대, 제1 트랙(112)을 포함할 수 있고, 제2 구동 하위-구조는 추가적인 제1 부분, 예컨대, 추가적인 제1 트랙(132)을 포함할 수 있다. 유사하게, 안내 구조는, 기판 캐리어(120)를 비접촉식으로 공중부양시키도록 구성된 제1 안내 하위-구조(520), 및 마스크 캐리어(140)를 비접촉식으로 공중부양시키도록 구성된 제2 안내 하위-구조(522)를 포함할 수 있다. 제1 안내 하위-구조(520)는 제2 부분, 예컨대, 제2 트랙(114)을 포함할 수 있고, 제2 안내 하위-구조(522)는 추가적인 제2 부분, 예컨대, 추가적인 제2 트랙(134)을 포함할 수 있다.
[0077] 제1 트랙 어레인지먼트의 제1 안내 하위-구조와 관련하여 뿐만 아니라 제1 트랙 어레인지먼트의 제1 구동 하위-구조와 관련하여 도 5a 및 5b에서 설명된 바와 같은 특징들이 또한, 각각, 제2 안내 하위-구조 및 제2 구동 하위-구조에 적용될 수 있다는 점이 이해되어야 한다. 이에 따라, 도 6을 예시적으로 참조하면, 제2 구동 하위-구조(512)는, 도 5a 및 5b에 관하여 예시적으로 설명된 구동 하위-구조로서 구성될 수 있고, 제2 안내 하위-구조(522)는 하위-안내 구조로서 구성될 수 있다.
[0078] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 결합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 제1 트랙 어레인지먼트의 제1 안내 하위-구조(520)는 제1 자기 안내 하위-구조일 수 있고, 제1 트랙 어레인지먼트의 제1 구동 하위-구조는 제1 자기 구동 하위-구조일 수 있다. 제1 안내 하위-구조(520)는 기판 캐리어 운송 방향, 예컨대, x-방향으로 연장될 수 있다. 제1 안내 하위-구조(520)는 복수의 능동(active) 자기 엘리먼트들(523)을 포함할 수 있다. 또한, 기판 캐리어(120)는 제2 수동(passive) 자기 엘리먼트(124)를 포함할 수 있다. 예컨대, 제2 수동 자기 엘리먼트(124)는, 기판 캐리어(120)의 일 부분일 수 있는, 강자성 재료로 이루어진 바(bar) 또는 로드(rod)일 수 있다. 대안적으로, 제2 수동 자기 엘리먼트(124)는 기판 캐리어(120)와 일체형으로 형성될 수 있다.
[0079] 몇몇 엘리먼트들에서, 복수의 능동 자기 엘리먼트들(523) 중 적어도 하나의 능동 자기 엘리먼트는, 기판 캐리어(120)의 제2 수동 자기 엘리먼트(124)와 상호작용하는 자기력을 제공하도록 구성된다. 특히, 제1 안내 하위-구조(520)의 복수의 능동 자기 엘리먼트들(523) 및 제2 수동 자기 엘리먼트(124)는, 제1 안내 하위-구조(520)를 향하여 지시하는 수직 화살표들에 의해 예시적으로 표시되는 바와 같이, 기판 캐리어(120)를 공중부양시키기 위한 자기 공중부양력을 제공하도록 구성될 수 있다. 다시 말해서, 복수의 능동 자기 엘리먼트들(523)은, 제2 수동 자기 엘리먼트(124)에 대해, 그리고 따라서, 기판 캐리어(120)에 대해 자기력을 제공하도록 구성된다. 이에 따라, 복수의 능동 자기 엘리먼트들(523)은 기판 캐리어(120)를 비접촉식으로 공중부양시킬 수 있다.
[0080] 몇몇 실시예들에 따르면, 제1 구동 하위-구조(510)는 복수의 추가적인 능동 자기 엘리먼트들(513)을 포함할 수 있다. 추가적인 능동 자기 엘리먼트들(513)은, 운송 방향을 따라, 예컨대, x-방향을 따라 기판 캐리어(120)를 구동하도록 구성될 수 있다. 복수의 추가적인 능동 자기 엘리먼트들(513)은, 기판 캐리어(120)를, 복수의 능동 자기 엘리먼트들(523)에 의해 공중부양되어 있으면서 이동시키기 위한 제1 구동 하위-구조(510)를 형성할 수 있다. 도 5a 및 5b에 예시적으로 도시된 바와 같이, 기판 캐리어(120)는, 제1 구동 하위-구조(510)의 추가적인 능동 자기 엘리먼트들(513)과 상호작용하도록 구성된 제1 수동 자기 엘리먼트(123), 예컨대, 강자성 재료로 이루어진 바를 포함할 수 있다. 제1 수동 자기 엘리먼트(123)는 기판 캐리어(120)에 연결될 수 있거나, 기판 캐리어(120)와 일체형으로 형성될 수 있다.
[0081] 추가적인 능동 자기 엘리먼트들(513)은, 운송 방향을 따라 힘을 제공하기 위한 제1 수동 자기 엘리먼트(123)와 상호작용하도록 구성될 수 있다. 예컨대, 제1 수동 자기 엘리먼트(123)는, 교번하는 극성으로 배열되는 복수의 영구 자석들을 포함할 수 있다. 제1 수동 자기 엘리먼트(123)의 결과적인 자기장들은, 기판 캐리어(120)를, 공중부양되어 있으면서 이동시키기 위해 복수의 추가적인 능동 자기 엘리먼트들(513)과 상호작용할 수 있다.
[0082] 복수의 능동 자기 엘리먼트들(523)을 이용하여 기판 캐리어(120)를 공중부양시키기 위해 그리고/또는 복수의 추가적인 능동 자기 엘리먼트들(513)을 이용하여 기판 캐리어(120)를 이동시키기 위해, 능동 자기 엘리먼트들은 조정 가능한 자기장들을 제공하도록 제어될 수 있다. 조정 가능한 자기장은 정적(static) 또는 동적(dynamic) 자기장일 수 있다. 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 본원에서 설명되는 바와 같은 능동 자기 엘리먼트는, 예컨대, 수직 방향, 예컨대, 도 5a 및 5b에 도시된 y-방향을 따라 연장되는 자기 공중부양력을 제공하기 위한 자기장을 생성하도록 구성될 수 있다. 부가적으로 또는 대안적으로, 본원에서 설명되는 바와 같은 능동 자기 엘리먼트는, 횡방향을 따라 연장되는 자기력을 제공하도록 구성될 수 있다. 특히, 본원에서 설명되는 바와 같은 능동 자기 엘리먼트는, 전자기 디바이스; 솔레노이드; 코일; 초전도 자석; 또는 이들의 임의의 조합으로 구성된 그룹으로부터 선택된 엘리먼트일 수 있거나, 그러한 엘리먼트를 포함한다.
[0083] 도 5a 및 5b에 도시된 바와 같이, 제1 안내 하위-구조(520)는 기판 캐리어(120)의 운송 방향, 즉, 도 5a 및 5b에 표시된 x-방향 또는 제1 방향을 따라 연장될 수 있다. 특히, 제1 안내 하위-구조(520)는, 제1 방향을 따라 연장되는 선형 형상을 가질 수 있다. 제1 방향을 따른 제1 트랙 어레인지먼트, 예컨대, 제1 안내 하위-구조(520) 및 제1 구동 하위-구조(510)의 길이는 1 내지 30 m일 수 있다. 예시 목적들을 위해, 도 5a 및 5b의 수평 화살표들은, 제1 트랙 어레인지먼트를 따라, 예컨대, 왼쪽에서 오른쪽으로 그리고 그 역으로 오른쪽에서 왼쪽으로 기판 캐리어(120)를 이동시키기 위한 제1 구동 하위-구조(510)의 가능한 구동력을 표시한다.
[0084] 도 5a 및 5b에 예시적으로 도시된 바와 같이, 둘 또는 그 초과의 능동 자기 엘리먼트들(523')은, 기판 캐리어(120)를 공중부양시키기 위한 자기장을 생성하기 위해, 기판 캐리어 제어기(530)에 의해 활성화될 수 있다. 예컨대, 동작 동안, 기판 캐리어(120)는 기계적 접촉 없이 제1 안내 하위-구조(520) 아래에 매달릴(hang) 수 있다. 제2 수동 자기 엘리먼트(124)는, 실질적으로, 운송 방향으로 제2 수동 자기 엘리먼트(124)의 길이를 따라 자기 특성들을 가질 수 있다는 점이 이해되어야 한다. 능동 자기 엘리먼트들(523')에 의해 생성되는 자기장은, 도 5a 및 5b의 수직 화살표들에 의해 예시적으로 표시된 바와 같이, 제1 자기 공중부양력 및 제2 자기 공중부양력을 제공하기 위해, 제2 수동 자기 엘리먼트(124)의 자기 특성들과 상호작용한다. 기판 캐리어(120)의 비접촉식 공중부양, 운송, 및 정렬이 제공될 수 있다. 도 5a에서, 2개의 능동 자기 엘리먼트들(523')은, 수직 화살표들에 의해 표시되는 자기력을 제공한다. 자기력들은, 기판 캐리어(120)를 공중부양시키기 위해, 중력에 반대로 작용한다. 기판 캐리어 제어기(530)는, 기판 캐리어(120)를 공중부양된 상태로 유지하기 위해, 2개의 능동 자기 엘리먼트들(523')을 개별적으로 제어하도록 구성될 수 있다.
[0085] 몇몇 실시예들에서, 하나 또는 그 초과의 추가적인 능동 자기 엘리먼트들(513')은 기판 캐리어 제어기(530)에 의해 제어될 수 있다. 추가적인 능동 자기 엘리먼트들(513')은 제1 수동 자기 엘리먼트(123)와 상호작용한다. 예컨대, 제1 수동 자기 엘리먼트(123)는, 도 5a의 수평 화살표에 의해 예시적으로 표시되는 바와 같은 구동력을 생성하기 위해, 교번하는 영구 자석들의 세트를 포함할 수 있다. 예컨대, 구동력을 제공하기 위해 동시적으로 제어되는 추가적인 능동 자기 엘리먼트들(513')의 개수는 1 내지 3 또는 그 초과일 수 있다. 이에 따라, 제1 포지션에서, 기판 캐리어(120)는 능동 자기 엘리먼트들의 제1 그룹 아래에 포지셔닝되고, 추가적인 상이한 포지션에서, 기판은 능동 자기 엘리먼트들의 추가적인 상이한 그룹 아래에 포지셔닝된다. 전형적으로, 기판 캐리어 제어기(530)는, 어느 능동 자기 엘리먼트들이, 각각의 포지션에 대해 공중부양력을 제공하는지를 제어하도록 구성된다. 예컨대, 공중부양력은, 기판 캐리어(120)가 이동하는 동안, 후속하는 능동 자기 엘리먼트들에 의해 제공될 수 있다. 이에 따라, 기판 캐리어(120)는 능동 자기 엘리먼트들의 하나의 세트로부터, 능동 자기 엘리먼트들의 다른 세트로 인계될(handed over) 수 있다.
[0086] 제2 포지션에서, 도 5b에 예시적으로 도시된 바와 같이, 2개의 능동 자기 엘리먼트들(523')은, 왼쪽 수직 화살표에 의해 표시되는 제1 자기력, 및 오른쪽 수직 화살표에 의해 표시되는 제2 자기력을 제공한다. 기판 캐리어 제어기(530)는, 수직 방향, 예컨대, 도 5b에 표시된 y-방향으로의 정렬을 제공하기 위해, 2개의 능동 자기 엘리먼트들(523')을 제어하도록 구성될 수 있다. 부가적으로 또는 대안적으로, 기판 캐리어 제어기(530)는, 캐리어가 x-y-평면에서 회전될 수 있는 정렬을 제공하기 위해, 2개의 능동 자기 엘리먼트들(523')을 제어하도록 구성될 수 있다. 둘 모두의 정렬 이동들은 도 5b에서, 점으로 된 기판 캐리어의 포지션과 실선들로 도시된 기판 캐리어의 포지션을 비교함으로써 예시적으로 볼 수 있다.
[0087] 기판 캐리어 제어기(530)가, 예컨대, 본원에서 설명되는 바와 같은 마스크 캐리어와 함께 기판 캐리어(120)를 수직 방향으로 병진식으로(translationally) 정렬시키기 위해, 능동 자기 엘리먼트들(523')을 제어하도록 구성될 수 있다는 점이 이해되어야 한다. 또한, 능동 자기 엘리먼트들을 제어함으로써, 기판 캐리어(120)는 목표 수직 포지션 내에 포지셔닝될 수 있다. 기판 캐리어(120)는, 기판 캐리어 제어기(530)의 제어 하에서 목표 수직 포지션에 유지될 수 있다. 또한, 기판 캐리어 제어기(530)는, 기판 캐리어(120)를 제1 회전 축, 예컨대, 기판 표면에 대해 수직인 회전 축, 예컨대, 도 5b에 예시적으로 표시된 바와 같은 z-방향으로 연장되는 회전 축에 대해 각을 이루는 방식으로(angularly) 정렬시키기 위해, 능동 자기 엘리먼트들(523')을 제어하도록 구성될 수 있다.
[0088] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 결합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 장치는, 0.1 mm 내지 3 mm의 정렬 범위로 마스크 캐리어(140)에 대한 기판 캐리어(120)의, 예컨대, 수직 방향으로의 정렬, 특히 비접촉식 정렬을 제공하도록 구성될 수 있다. 또한, 수직 방향으로의 정렬 정밀도, 특히, 비접촉식 정렬 정밀도는 50 ㎛ 또는 그 미만, 예컨대 1 ㎛ 내지 10 ㎛, 예컨대, 5 ㎛일 수 있다. 또한, 포지셔닝 어레인지먼트의 회전 정렬 정밀도, 특히, 비접촉식 회전 정렬 정밀도는 3° 또는 그 미만일 수 있다.
[0089] 상기 설명된 바와 같이, 제1 구동 하위-구조(510)의 하나 또는 그 초과의 추가적인 능동 자기 엘리먼트들(513')은, 제1 트랙(112)의 연장을 따라, 예컨대, x-방향을 따라 구동력을 제공하도록 구성될 수 있다. 기판 캐리어 제어기(530)가, 운송 방향, 예컨대, 도 5a 및 5b의 x-방향으로의 정렬을 제공하기 위해, 하나 또는 그 초과의 추가적인 능동 자기 엘리먼트들(513')을 제어하도록 구성될 수 있다는 점이 이해되어야 한다. 운송 방향(예컨대, x-방향)으로의 기판 캐리어(120)의 정렬은, 제1 트랙(112)의 길이를 따라 연장되는 정렬 범위로 제공될 수 있다. 특히, 운송 방향으로의 정렬 정밀도, 특히, 비접촉식 정렬 정밀도는 50 ㎛ 또는 그 미만, 예컨대 5 ㎛ 또는 30 ㎛일 수 있다.
[0090] 본원에서 설명되는 바와 같은 장치의 실시예들은, 운송 방향 및/또는 수직 방향으로의 기판 포지셔닝에 높은 정밀도를 허용하는 공중부양되는 기판 캐리어 이동을 제공한다. 또한, 본원에서 설명되는 바와 같은 장치의 실시예들은, 예컨대, 수평 및/또는 수직 및/또는 회전 정렬에 의해, 마스크 캐리어에 대한 기판 캐리어의 개선된 정렬을 제공한다.
[0091] 이제 도 6을 참조하면, 제1 자기 안내 하위-구조인 제1 안내 하위-구조(520) 및 제1 자기 구동 하위-구조인 제1 구동 하위-구조(510)를 갖는 장치의 개략적인 측면도가 예시된다. 또한, 도 6은, 장치가 제2 안내 하위-구조(522), 예컨대, 제2 자기 안내 하위-구조뿐만 아니라, 제2 구동 하위-구조(512), 예컨대, 제2 자기 구동 하위-구조를 가질 수 있다는 것을 도시한다. 도 6을 예시적으로 참조하면, 도 5a 및 5b에 관하여 설명된 바와 같은 제1 트랙 어레인지먼트의 선택적 특징들은 또한, 필요한 변경을 가하여, 제2 트랙 어레인지먼트에 적용될 수 있다는 점이 이해되어야 한다. 특히, 마스크 캐리어(140)는, 도 5a 및 5b에 관하여 설명된 바와 같은 제1 수동 자기 엘리먼트(142) 및 제2 수동 자기 엘리먼트(144)를 포함할 수 있다. 또한, 도 5a 및 5b에 관하여 설명된 바와 같이, 제2 안내 하위-구조(522)는 복수의 능동 자기 엘리먼트들(523)을 포함할 수 있고, 제2 구동 하위-구조(512)는 복수의 추가적인 능동 자기 엘리먼트들(513)을 포함할 수 있다. 기판 캐리어(120)의 공중부양 및 운송을 제어하기 위한 기판 캐리어 제어기(530)와 유사하게, 마스크 캐리어(140)의 공중부양 및 운송을 제어하기 위한 마스크 캐리어 제어기가 제공될 수 있다. 특히, 마스크 캐리어(140)의 공중부양 및 운송을 제어하는 원리는, 필요한 변경을 가하여, 도 5a 및 5b에 관하여 설명된 바와 같은 기판 캐리어(120)의 공중부양 및 운송을 제어하는 원리에 대응한다.
[0092] 도 7은, 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 기판의 진공 프로세싱을 위한 시스템(700)의 개략도를 도시한다.
[0093] 시스템(700)은, 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 기판의 진공 프로세싱을을 위한 장치, 기판 캐리어(120), 및 마스크 캐리어(140)를 포함한다. 몇몇 구현들에서, 제1 트랙 어레인지먼트(110)는 기판 캐리어(120) 및 마스크 캐리어(140)의 운송을 위해 구성되고, 그리고/또는 제2 트랙 어레인지먼트(130)는 기판 캐리어(120) 및 마스크 캐리어(140)의 운송을 위해 구성된다.
[0094] 본원에서 설명되는 임의의 다른 실시예들과 결합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 시스템(700)은, 본원에서 설명되는 임의의 실시예들에 따른 장치를 갖는 진공 챔버(예컨대, 진공 프로세싱 챔버(701))를 포함한다. 또한, 시스템(700)은, 운송 어레인지먼트를 갖는 적어도 하나의 추가적인 챔버(702)를 포함한다. 적어도 하나의 추가적인 챔버(702)는 회전 모듈, 수송 모듈, 또는 이들의 조합일 수 있다. 회전 모듈에서, 트랙 어레인지먼트 및 그 위에 배열된 캐리어(들)는 회전 축, 예컨대, 수직 회전 축을 중심으로 회전될 수 있다. 예로서, 캐리어(들)는 시스템(700)의 좌측으로부터 시스템(700)의 우측으로, 또는 그 역으로 우측으로부터 좌측으로 이송될 수 있다. 수송 모듈은, 캐리어(들)가, 상이한 방향들, 예컨대, 서로에 대해 수직인 방향들로 수송 모듈을 통해 이송될 수 있도록, 교차(crossing) 트랙들을 포함할 수 있다. 진공 프로세싱 챔버(701)는 유기 재료들을 증착시키기 위해 구성될 수 있다. 증착 소스(225), 특히, 증발 소스가 진공 프로세싱 챔버(701)에 제공될 수 있다. 증착 소스(225)는, 도 7에 예시적으로 도시된 바와 같이, 트랙 또는 선형 안내부(722) 상에 제공될 수 있다. 선형 안내부(722)는 증착 소스(225)의 병진 이동을 위해 구성될 수 있다. 또한, 증착 소스(225)의 병진 이동을 제공하기 위한 구동부가 제공될 수 있다. 특히, 증착 소스(225)의 비접촉식 운송을 위한 운송 장치가 제공될 수 있다.
[0095] 선형 안내부(722)를 따른 증착 소스(225)의 병진 이동을 위해 구성된 소스 지지부(731)가 제공될 수 있다. 소스 지지부(731)는 증발 도가니(crucible)(721), 및 증발 도가니(721) 위에 제공되는 분배 조립체(726)를 지지할 수 있다. 이에 따라, 증발 도가니(721)에서 생성되는 증기는, 상방으로 그리고 분배 조립체의 하나 또는 그 초과의 배출구들 밖으로 이동할 수 있다. 이에 따라, 분배 조립체(726)는, 증발된 유기 재료, 특히, 증발된 소스 재료의 플럼(plume)을, 분배 조립체로부터 기판에 제공하도록 구성된다.
[0096] 도 7에 예시적으로 도시된 바와 같이, 진공 프로세싱 챔버(701)는 게이트 밸브들(715)을 가질 수 있고, 게이트 밸브들을 통해 진공 프로세싱 챔버(701)는 인접한 추가적인 챔버(702), 예컨대, 라우팅(routing) 모듈 또는 인접한 서비스 모듈에 연결될 수 있다. 특히, 게이트 밸브들(715)은 인접한 추가적인 챔버에 대한 진공 밀봉을 허용하고, 기판 및/또는 마스크를 진공 프로세싱 챔버(701)의 안과 밖으로 이동시키기 위해 개방 및 폐쇄될 수 있다.
[0097] 본 개시내용에서, "진공 프로세싱 챔버"는 진공 챔버 또는 진공 증착 챔버로서 이해되어야 한다. 본원에서 사용되는 바와 같은 "진공"이라는 용어는, 예컨대, 10 mbar 미만의 진공 압력을 갖는 기술적 진공의 의미로 이해될 수 있다. 본원에서 설명되는 바와 같은 진공 챔버에서의 압력은, 10-5 mbar 내지 약 10-8 mbar, 특히 10-5 mbar 내지 10-7 mbar, 그리고 더 특히 약 10-6 mbar 내지 약 10-7 mbar일 수 있다. 몇몇 실시예들에 따르면, 진공 챔버에서의 압력은, 진공 챔버 내의 증발된 재료의 부분 압력 또는 총 압력(이는, 증착될 컴포넌트로서 오직, 증발된 재료만이 진공 챔버에 존재하는 경우에, 대략적으로 동일할 수 있음)인 것으로 간주될 수 있다. 몇몇 실시예들에서, 진공 챔버에서의 총 압력은, 특히, 증발된 재료 이외에 제2 컴포넌트(예컨대, 가스, 등)가 진공 챔버에 존재하는 경우에, 약 10-4 mbar 내지 약 10-7 mbar의 범위일 수 있다.
[0098] 도 7을 예시적으로 참조하여, 본원에서 설명되는 임의의 다른 실시예와 결합될 수 있는 실시예들에 따르면, 2개의 기판들, 예컨대, 제1 기판(10A) 및 제2 기판(10B)은 각각의 운송 트랙들, 예컨대, 본원에서 설명되는 바와 같은 각각의 제1 트랙 어레인지먼트들(110) 상에서 지지될 수 있다. 또한, 상부에 마스크 캐리어들(140)을 제공하기 위한 2개의 트랙들, 예컨대, 본원에서 설명되는 바와 같은 2개의 제2 트랙 어레인지먼트들(120)이 제공될 수 있다. 특히, 기판 캐리어(120) 및/또는 마스크 캐리어(140)의 운송을 위한 트랙들은 도 1 내지 6에 관하여 설명되는 바와 같이 구성될 수 있다.
[0099] 몇몇 실시예들에서, 기판들의 코팅은, 각각의 마스크들에 의해, 예컨대, 에지 배제 마스크에 의해 또는 새도우 마스크에 의해, 기판들을 마스킹하는 것을 포함할 수 있다. 몇몇 실시예들에 따르면, 마스크들, 예컨대, 제1 기판(10A)에 대응하는 제1 마스크(20A), 및 제2 기판(10B)에 대응하는 제2 마스크(20B)는, 도 7에 예시적으로 도시된 바와 같이, 마스크를 미리 결정된 포지션에 홀딩하기 위해, 마스크 캐리어(140)에 제공된다.
[00100] 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 결합될 수 있는 몇몇 실시예들에 따르면, 기판은, 예컨대, 연결 엘리먼트들(724)에 의해 정렬 시스템(750)에 연결될 수 있는 기판 캐리어(120)에 의해 지지된다. 정렬 시스템(750)은, 마스크에 대한 기판의 포지션을 조정하도록 구성될 수 있다. 특히, 정렬 시스템(750)은 도 3, 4a, 및 4b에 관하여 설명되는 바와 같이 구성될 수 있다. 유기 재료의 증착 동안에 기판과 마스크 사이에 적절한 정렬을 제공하기 위해, 기판이 마스크에 대해 이동될 수 있다는 점이 이해되어야 한다. 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 결합될 수 있는 추가적인 실시예에 따르면, 대안적으로 또는 부가적으로, 마스크를 홀딩하는 마스크 캐리어(140)가 정렬 시스템(750)에 연결될 수 있다. 이에 따라, 마스크가 기판에 대해 포지셔닝될 수 있거나, 마스크와 기판 둘 모두가 서로에 대해 포지셔닝될 수 있다. 본원에서 설명되는 바와 같은 정렬 시스템은, 증착 프로세스 동안에 마스킹의 적절한 정렬을 허용할 수 있고, 이는 고품질 또는 OLED 디스플레이 제조에 유익하다.
[00101] 기판 및 마스크의 서로에 대한 정렬의 예들은, 기판의 평면 및 마스크의 평면에 대해 본질적으로 평행한 평면을 정의하는 적어도 2개의 방향들로의 상대 정렬을 허용할 수 있는 정렬 유닛들, 예컨대, 도 3, 4a, 4b, 및 5에 관하여 설명된 정렬 디바이스들을 포함한다. 예컨대, 정렬은 적어도, x-방향 및 y-방향, 즉, 상기-설명된 평행한 평면을 정의하는 2개의 직교 방향들(Cartesian directions)로 수행될 수 있다. 전형적으로, 마스크와 기판은 서로에 대해 본질적으로 평행할 수 있다. 특히, 정렬은, 기판의 평면 및 마스크의 평면에 대해 본질적으로 수직인 방향으로 추가적으로 수행될 수 있다. 그러므로, 정렬 유닛은 적어도, 마스크 및 기판의 서로에 대한 X-Y-정렬을 위해, 그리고 특히, X-Y-Z-정렬을 위해 구성된다. 본원에서 설명되는 다른 실시예들과 결합될 수 있는 일 특정 예는, 기판을, 진공 프로세싱 챔버에서 정지된 상태로 홀딩될 수 있는 마스크에 대해, x-방향, y-방향, 및 z-방향으로 정렬하는 것이다.
[00102] 도 8은, 본원에서 설명되는 실시예들에 따른 진공 챔버에서의 기판 캐리어 및 마스크 캐리어의 운송을 위한 방법(800)의 흐름도를 도시한다. 방법(800)은 본 개시내용에 따른 장치들 및 시스템들을 활용할 수 있다.
[00103] 방법(800)은, 블록(810)에서, 기판 캐리어를 제1 트랙 어레인지먼트 상에서 그리고 마스크 캐리어를 제2 트랙 어레인지먼트 상에서 비접촉식으로(contactlessly) 운송하는 단계, 및 블록(820)에서, 기판 캐리어를 제2 트랙 어레인지먼트 상에서 그리고 마스크 캐리어를 제 1 트랙 어레인지먼트 상에서 비접촉식으로 운송하는 단계를 포함한다.
[00104] 본원에서 설명되는 실시예들에 따르면, 진공 챔버에서의 기판 캐리어 및 마스크 캐리어의 운송을 위한 방법은, 컴퓨터 프로그램들, 소프트웨어, 컴퓨터 소프트웨어 제품들, 및 상호 관계된 제어기들을 사용하여 수행될 수 있으며, 상호 관계된 제어기들은, 장치의 대응하는 컴포넌트들과 통신하는, CPU, 메모리, 사용자 인터페이스, 및 입력 및 출력 디바이스들을 가질 수 있다.
[00105] 본 개시내용은, 적어도 하나의 치수가 동등하게 크기가 정해진, 기판 캐리어를 위한 제1 트랙 어레인지먼트, 및 마스크 캐리어를 위한 제2 트랙 어레인지먼트를 제공한다. 다시 말해서, 마스크 캐리어는 제1 트랙 어레인지먼트 내에 끼워맞춤되고(fit), 기판 캐리어는 제2 트랙 어레인지먼트 내에 끼워맞춤된다. 제1 트랙 어레인지먼트 및 제2 트랙 어레인지먼트는, 진공 시스템을 통해 캐리어들의 정확하고 매끄러운 운송을 제공하면서 유연하게 사용될 수 있다. 홀딩 어레인지먼트는, 마스크에 대한 기판의, 또는 역으로 기판에 대한 마스크의 정밀한 정렬을 허용한다. 예컨대, 고해상도 OLED 디바이스들의 생산을 위한 고품질 프로세싱 결과들이 달성될 수 있다.
[00106] 전술한 내용은 본 개시내용의 실시예들에 관한 것이지만, 본 개시내용의 다른 그리고 추가적인 실시예들이 본 개시내용의 기본적인 범위로부터 벗어나지 않고 안출될 수 있으며, 본 개시내용의 범위는 이하의 청구항들에 의해서 결정된다.

Claims (17)

  1. 기판의 진공 프로세싱을 위한 장치로서,
    진공 챔버;
    상기 진공 챔버에서 기판 포지션으로의 기판 캐리어(120)의 비접촉식 운송을 위해 구성되고, 기판(10)의 제1 단부에서 상기 기판 캐리어(120)를 지지하도록 구성된 제1 부분, 및 상기 기판의 제1 단부 반대편의, 상기 기판(10)의 제2 단부에서 상기 기판 캐리어(120)를 지지하도록 구성된 제2 부분을 포함하는, 제1 트랙 어레인지먼트(110);
    상기 진공 챔버에서 마스크 포지션으로의 마스크 캐리어(140)의 비접촉식 운송을 위해 구성되고, 마스크(20)의 제1 단부에서 상기 마스크 캐리어(140)를 지지하도록 구성된 추가적인 제1 부분, 및 상기 마스크(20)의 제1 단부 반대편의, 상기 마스크(20)의 제2 단부에서 상기 마스크 캐리어(140)를 지지하도록 구성된 추가적인 제2 부분을 포함하는 제2 트랙 어레인지먼트(130) ― 상기 제1 트랙 어레인지먼트(110)의 제1 부분과 제2 부분 사이의 제1 거리(D) 및 상기 제2 트랙 어레인지먼트(130)의 추가적인 제1 부분과 추가적인 제2 부분 사이의 제2 거리(D')는 본질적으로 동일함 ―; 및
    상기 기판 캐리어(120) 및 상기 마스크 캐리어(140)를 서로에 대해 포지셔닝하도록 구성되고 상기 기판 포지션에 도달한 상기 기판 캐리어(120)와 상기 마스크 포지션에 도달한 상기 마스크 캐리어(140)를 접촉 방식으로 홀딩하도록 구성된 홀딩 어레인지먼트(310)를 포함하는,
    기판의 진공 프로세싱을 위한 장치.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 홀딩 어레인지먼트(310)는 척킹(chucking), 정합 연결(mating connection), 또는 그래빙(grabbing)에 의해 상기 기판 캐리어(120) 및 상기 마스크 캐리어(140) 각각을 홀드하도록 구성되는,
    기판의 진공 프로세싱을 위한 장치.
  3. 제1 항 또는 제2 항에 있어서,
    상기 홀딩 어레인지먼트(310)는 기판 캐리어(120) 및 마스크 캐리어(140)를 서로에 대해 정렬하기 위한 하나 또는 그 초과의 압전 액츄에이터들을 포함하는,
    기판의 진공 프로세싱을 위한 장치.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 트랙 어레인지먼트(110) 및 상기 제2 트랙 어레인지먼트(130)는 제1 방향으로 연장되고, 상기 제1 트랙 어레인지먼트(110)는 적어도 상기 제1 방향으로의 상기 기판 캐리어(120)의 운송을 위해 구성되며, 상기 제2 트랙 어레인지먼트(130)는 적어도 상기 제1 방향으로의 상기 마스크 캐리어(140)의 운송을 위해 구성되는,
    기판의 진공 프로세싱을 위한 장치.
  5. 제4 항에 있어서,
    상기 제1 부분 및 상기 추가적인 제1 부분은, 상기 제1 방향 및 상기 제1 방향에 대해 수직인 다른 방향에 의해 정의된 제1 평면에 정렬되고, 상기 제2 부분 및 상기 추가적인 제2 부분은, 상기 제1 방향 및 상기 다른 방향에 의해 정의된 제2 평면에 정렬되는,
    기판의 진공 프로세싱을 위한 장치.
  6. 제5 항에 있어서,
    상기 제1 방향은 수평 방향이고, 상기 다른 방향은 수직 방향인,
    기판의 진공 프로세싱을 위한 장치.
  7. 제6 항에 있어서,
    상기 제1 거리(D) 및 상기 제2 거리(D')는 상기 제1 방향 및 상기 다른 방향에 대해 수직인 방향으로 정의되는,
    기판의 진공 프로세싱을 위한 장치.
  8. 제4 항 내지 제7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판 캐리어(120) 및 상기 마스크 캐리어(140)를 상기 제1 방향으로 비접촉식으로(contactlessly) 이동시키도록 구성된 구동(drive) 구조를 더 포함하고, 상기 구동 구조는 상기 제1 부분 및 상기 추가적인 제1 부분을 포함하는,
    기판의 진공 프로세싱을 위한 장치.
  9. 제4 항 내지 제7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판 캐리어(120) 및 상기 마스크 캐리어(140)를 상기 진공 챔버에서 비접촉식으로 공중부양시키도록(levitating) 구성된 안내 구조를 더 포함하고, 상기 안내 구조는 상기 제2 부분 및 상기 추가적인 제2 부분을 포함하는,
    기판의 진공 프로세싱을 위한 장치.
  10. 제4 항 내지 제7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 홀딩 어레인지먼트(310)는, 상기 기판 캐리어(120) 및 상기 마스크 캐리어(140)를, 상기 제1 방향과 상이한 방향으로, 서로에 대해 포지셔닝하도록 구성되는,
    기판의 진공 프로세싱을 위한 장치.
  11. 제1 항에 있어서,
    상기 홀딩 어레인지먼트(310)는 상기 진공 챔버의 바닥부 벽 및 정상부 벽 중 적어도 하나에 배열되는,
    기판의 진공 프로세싱을 위한 장치.
  12. 제1 항에 있어서,
    상기 홀딩 어레인지먼트(310)는, 상기 제1 트랙 어레인지먼트(110) 또는 상기 제2 트랙 어레인지먼트(130)에 인접한, 상기 진공 챔버의 측벽에 배열되는,
    기판의 진공 프로세싱을 위한 장치.
  13. 제1 항에 있어서,
    상기 홀딩 어레인지먼트(310)는, 상기 제1 트랙 어레인지먼트(110)와 상기 제2 트랙 어레인지먼트(130) 사이에 적어도 부분적으로 배열되는,
    기판의 진공 프로세싱을 위한 장치.
  14. 제1 항에 있어서,
    상기 홀딩 어레인지먼트(310)는 상기 마스크 캐리어(140)를 홀딩하도록 구성된 제 1 홀딩 디바이스 및 상기 기판 캐리어(120)를 홀딩하도록 구성된 제 2 홀딩 디바이스를 포함하는,
    기판의 진공 프로세싱을 위한 장치.
  15. 기판의 진공 프로세싱을 위한 시스템으로서,
    제1 항에 따른 장치(200, 300);
    기판 캐리어(120); 및
    마스크 캐리어(140)를 포함하는,
    기판의 진공 프로세싱을 위한 시스템.
  16. 제15 항에 있어서,
    상기 제1 트랙 어레인지먼트(110)는 상기 기판 캐리어(120) 및 상기 마스크 캐리어(140)의 운송을 위해 구성되고, 그리고 상기 제2 트랙 어레인지먼트(130)는 상기 기판 캐리어(120) 및 상기 마스크 캐리어(140)의 운송을 위해 구성되는,
    기판의 진공 프로세싱을 위한 시스템.
  17. 진공 챔버에서 본질적으로 수직 배향으로의 기판 캐리어 및 마스크 캐리어의 운송을 위한 방법으로서,
    기판 캐리어(120)를 제1 트랙 어레인지먼트(110) 상에서, 그리고 마스크 캐리어(140)를 제2 트랙 어레인지먼트(130) 상에서 비접촉식으로 운송하는 단계; 및
    상기 기판 캐리어(120)를 제2 트랙 어레인지먼트(130) 상에서, 그리고 상기 마스크 캐리어(140)를 제1 트랙 어레인지먼트(110) 상에서 비접촉식으로 운송하는 단계를 포함하고,
    상기 기판 캐리어(120)의 높이(H)와 마스크 캐리어(140)의 높이(H')는 본질적으로 동일한,
    진공 챔버에서의 기판 캐리어 및 마스크 캐리어의 운송을 위한 방법.
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