JP2011128646A5 - - Google Patents
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- パターンを感光基板に転写する露光装置であって、
マスクの面を境界とする空間を定義する空間定義部材とともに前記マスクを移動させるマスクステージと、前記空間の圧力を制御する圧力制御器と、複数の空間定義部材のうち露光処理に使用すべきマスクに適合した空間定義部材を当該マスクに組み合わせるための操作機構と、を備え、
前記マスクステージは、前記空間定義部材の接続部に形成された流路と連通可能な流路が形成された接続部とマスクを支えるマスクホルダとを有し、
前記圧力制御器によって前記空間の圧力を制御しながら、前記マスクホルダに搭載されたマスクのパターンを感光基板に転写することを特徴とする露光装置。 - 前記マスクステージは、
前記第1のサイズのマスクの周辺部を4辺において保持可能なマスクホルダと、
前記第1のサイズよりも小さい第2のサイズのマスクを保持する場合に、該マスクの周辺部のうち前記マスクホルダによって保持されない部分の全体または一部を支持する支持機構と、を備えることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記操作機構は、複数のマスクが収容されたストッカーから前記マスクステージにマスクを搬送する途中において、当該搬送に係るマスクに対して空間定義部材を組み合わせることを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置。
- 前記マスクステージに一対のマスク及び空間定義部材が搬送された後に、前記空間定義部材に設けられた第1流路と前記マスクステージに設けられた第2流路とが接続され、前記第1及び第2流路を通じて前記圧力制御器が前記空間の圧力を制御可能になることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の露光装置。
- マスクを一時的に保持するバッファを更に備え、前記操作機構は、露光処理の終了後に前記マスクステージに配置されているマスク及び空間定義部材を前記バッファに搬送し、その後、次に使用すべく所定位置に準備されているマスク及び空間定義部材を前記マスクステージに搬送することを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記操作機構は、露光処理の終了後に前記マスクステージに配置されているマスク及び空間定義部材を前記バッファに搬送した後に前記バッファによって保持されている空間定義部材を次に使用すべく前記所定位置に準備されているマスクに組み合わせ、次いで、前記所定位置に準備されているマスク及び空間定義部材を前記マスクステージに搬送することを特徴とする請求項5に記載の露光装置。
- 次に使用すべきマスクをストッカーから取り出して前記所定位置に配置する第2操作機構を更に備えることを特徴とする請求項5又は請求項6に記載の露光装置。
- 前記ストッカーは、複数のマスクを収容する第1収容部と、複数の空間定義部材を収容する第2収容部とを含み、前記第2操作機構は、前記第1収容部から任意のマスクを取り出して、前記第2収容部に収容されている複数の空間定義部材のうちの1つと組み合わせ、その後、組み合わせに係る一対のマスク及び空間定義部材を前記所定位置に搬送するように駆動されることを特徴とする請求項7に記載の露光装置。
- 空間定義部材を清浄化するクリーナを更に備えることを特徴とする請求項1乃至請求項8のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記クリーナは、空間定義部材に付着している異物を検知するセンサと、空間定義部材に付着している異物を除去する異物除去機構とを含むことを特徴とする請求項9に記載の露光装置。
- デバイス製造方法であって、請求項1乃至請求項10のいずれか1項に記載の露光装置を使用して感光基板にマスクのパターンを転写する工程と、パターンが転写された感光基板を現像処理する工程と、を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
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