JP5847474B2 - 露光装置、それを用いたデバイスの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、露光装置、それを用いたデバイスの製造方法に関する。

露光装置は、半導体デバイスや液晶表示装置などの製造工程であるリソグラフィー工程において、原版（レチクルやマスク）のパターンを、投影光学系を介して感光性の基板（表面にレジスト層が形成されたウエハやガラスプレートなど）に転写する装置である。この露光装置は、原版を移動可能に保持する原版ステージを備えるものが一般的である。この原版ステージに原版を保持する機構としては、例えば、真空吸着や静電吸着などを利用するものや、押し付け力を発生させるアクチュエータなどを利用するものなどがある。いずれの機構においても、重力による原版の脱落防止の観点から、原版の保持面は、重力方向の下面とすることが望ましい。

この原版は、内側の有効面積を最大限に活用して形成された回路パターンを有し、この回路パターンの全面が露光光により照射されるため、一般にその外周部を保持面として矩形の保持枠で保持される。ここで、原版に露光光が照射されると、回路パターンにて露光光の一部が吸収されることにより、光エネルギーが熱エネルギーに変換される。この熱エネルギーは、原版の熱変形を引き起こし、原版自体および保持枠を介した固体伝熱、周辺の空気を介した対流熱伝達、あるいは輻射伝熱により周囲環境へと拡散する。例えば、原版と保持枠とに囲まれた空間に滞留している気体は、これらの熱伝達によって加熱され、原版の位置決めを実施するアライメント計測系などの計測精度を低下させたり、原版から投影光学系に向かう光にゆらぎを発生させたりする可能性がある。また、原版自体の熱変形も、直接結像性能に影響を及ぼす可能性がある。そこで、特許文献１は、原版（レチクル）近傍に気体の流路を設けることで、原版に蓄積された熱の回収速度を向上させ、周囲環境の乱れを低減させる露光装置を開示している。この露光装置では、原版とこの原版に設けられる付着防止膜（ペリクル）との間に温調流体を強制導入することで原版の熱変形を抑制する。このとき、温調流体は、付着防止膜の固定枠（ペリクルフレーム）に直接設置された配管から導入される。

特開２００２−３５３１２７号公報

しかしながら、特許文献１に示す温調流体を導入する配管は、原版と物理的に結合されているため、温調流体の導入に伴う配管自体の振動あるいは配管を介して伝達してきた外部振動によって、その振動が原版に伝達される。例えば、原版に伝達される振動が数百〜数千Ｈｚ程度の周波数を有する場合には、解像度に影響する指標であるＭＳＤ（Ｍｏｖｉｎｇ Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｄｅｖｉａｔｉｏｎ：移動標準偏差）の悪化を招く。また、温調流体の供給量と回収量との不均一に起因する流体振動または圧力変動も、原版に影響を及ぼし、これにより付着防止膜を破損する可能性もある。また、本来、付着防止膜は、原版にパーティクルが付着するのを抑止するものであるが、付着防止膜の内側に温調流体を導入することで、パーティクルの付着が却って促進される可能性もある。さらに、配管の実装の観点からすると、原版ステージ周辺での配管の引き回しが複雑となり、また、原版ステージへの力学的負荷が増大する。また、このような構成によると、原版の交換時には配管を着脱しなければならないので、原版の搬送機構の冗長化を招き、さらにはパーティクルの発生原因ともなり得る。

本発明は、このような状況を鑑みてなされたものであり、原版に対する熱および振動の影響を抑えるのに有利な露光装置を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、本発明は、照明系からの光を原版に形成されたパターンに照射し、投影光学系を介してパターンの像を基板上に投影して基板を露光する露光装置であって、原版の外周部を保持する保持枠を有し、第１方向と該第１方向に対して反対方向の第２方向とに移動する原版保持部と、原版保持部の位置を計測する計測装置と、を有し、保持枠は、第１方向の側の側面と第２方向の側の側面にそれぞれ、原版と保持枠とに囲まれた空間に存在する気体を空間から流出、または空間に気体を流入可能とする貫通部を有し、計測装置は、原版保持部に対して第２方向に配置され、貫通部のそれぞれは、気体の第１方向の流れの圧力損失が、気体の第２方向の流れの圧力損失よりも小さくなる形状または構成を有することを特徴とする。

本発明によれば、原版に対する熱および振動の影響を抑えるのに有利な露光装置を提供することができる。

本発明の一実施形態に係る露光装置の構成を示す図である。 第１実施形態に係るマスクステージの構成を示す図である。 従来の露光装置にてマスク下部に滞留した気体の流れを説明する図である。 第２実施形態に係るマスクステージの構成を示す図である。 第３実施形態に係るマスクステージの構成を示す図である。 第３実施形態に係る透過板を支持する支持部の構成を示す図である。

以下、本発明を実施するための形態について図面等を参照して説明する。

（第１実施形態）
まず、本発明の第１実施形態に係る露光装置について説明する。図１は、本実施形態に係る露光装置１の構成を示す概略図である。この露光装置１は、マスク（原版）と被処理基板であるガラスプレート（基板）とを同期走査させ、マスクに形成されたパターンをガラスプレートに露光する走査型露光装置とする。露光装置１は、まず、照明光学系２と、拡大光学系３と、アライメント計測系４と、所定のパターンが形成されたマスクＭを保持するマスクステージ５と、投影光学系６と、感光剤が塗布されたガラスプレートＰを保持する基板ステージ７と、制御部８とを備える。

照明光学系（照明系）２は、不図示の光源を有し、マスクステージ５に保持されたマスクＭに対してスリット状の露光光を照射し、マスクＭに形成されたパターン像を、投影光学系６を介してガラスプレートＰ上（基板上）へ投影させる。光源としては、例えばＨｇランプが採用されるが、ｉ線、ｈ線、ｇ線などのＨｇランプの出力波長の一部を用いる場合もある。拡大光学系３は、照明光学系２から照射された露光光の光束を拡大させる。アライメント計測系４は、マスクＭとガラスプレートＰとにそれぞれ形成された位置決め用のアライメントマークを観察する。この場合、照明光学系２がマスクＭに対して露光光を照射するときに、露光光が遮られることがないように、アライメント計測系４は、その一部または全体を駆動可能な構成を有し、適宜、露光光の光束外に退避することが可能である。マスクステージ（原版保持部）５は、マスクＭを保持し、かつＸＹ平面内で移動可能とする。なお、このマスクステージ５の構成および作用については、以下で詳説する。投影光学系６は、基板ステージ７上のガラスプレートＰに対してパターン像を投影し、その内部に、平板型透過素子９と、反射ミラー１０と、凹面ミラー１１と、凸面ミラー１２とを含む。平板型透過素子９は、投影光学系６の入射側および出射側に配置され、投影光学系６などの結像性能を補助的に改善するために設置する光学薄体である。平板型透過素子９の材質としては、露光光に対して内部吸収がほぼゼロとなる石英ガラスなどが採用可能である。反射ミラー１０、凹面ミラー１１および凸面ミラー１２は、パターン像を反射する部材であり、その材質は、線膨張係数の小さいガラスである。ここで、投影光学系６の投影倍率を等倍とすると、露光装置１は、マスクＭに対する露光光の照射領域を変更させつつマスクＭとガラスプレートＰとをＸ軸方向に同期走査させて露光を行うことで、マスクＭ上のパターンをガラスプレート上に転写することができる。基板ステージ（基板保持部）７は、ガラスプレートＰを、例えば真空吸着により保持し、かつＸＹ平面内で移動可能とする。また、制御部８は、露光装置１の各構成要素の動作および調整などを制御し得る。制御部８は、例えばコンピュータなどで構成され、露光装置１の各構成要素に回線を介して接続されて、プログラムなどに従い各構成要素の制御を実行し得る。本実施形態の制御部８は、少なくともマスクステージ５の動作を制御する。なお、制御部８は、露光装置１の他の部分と一体で構成してもよいし、露光装置１の他の部分とは別の場所に設置してもよい。

次に、マスクステージ５の構成について詳説する。図２は、マスクステージ５の構成を示す概略断面図である。マスクステージ５は、図２（ａ）に示すように、マスクＭを引き付けて保持する保持枠２０と、この保持枠２０が固定され、マスクステージ定盤（以下「定盤」という）２１を基準平面としてＸＹ方向に移動可能である駆動部２２とを含む。また、定盤２１の中央部には、マスクＭと光学的に対向可能となるように、投影光学系６の光入射部が位置している。

図２（ｂ）は、マスクＭと保持枠２０との形状を示す斜視図である。マスクＭは、照射された露光光の出射面に、クロムなどの遮光物質を用いて予め描画された回路パターン２３を有する。この回路パターン２３は、描画面積を最大限とするように、その外周部に位置するマスクＭの保持領域２４を除く有効面積の全面に描画される。露光処理時には、この回路パターン２３の全面をステップ・アンド・スキャン方式で照明されるため、回路パターン２３を遮蔽するような部材が存在してはならない。したがって、保持枠２０は、例えば内抜きされたような、矩形の枠体形状を有する。また、保持枠２０は、重力によるマスクＭの脱落防止の観点から、マスクＭの保持領域２４が重力方向の下面となるように吸着部（圧着部）を有する。この保持枠２０の形状から、結果的にマスクＭの光出射面側にはマスクＭと保持枠２０とに囲まれた空間２５が形成されることになる。なお、保持枠２０におけるマスクＭの保持機構としては、例えば、真空吸着や静電吸着などを利用するものや、押し付け力を発生させるアクチュエータなどを利用するものが採用可能であるが、本発明では、特に限定するものではない。

ここで、本実施形態の保持枠２０は、走査駆動時（同期走査時）の移動方向（走査方向）の前後の側面、例えばＸ軸方向の両方の側面に、貫通部２６を有する。この貫通部２６は、空間２５とマスクステージ５の周辺部とを連通するものであり、駆動部２２の走査駆動に伴い、空間２５内の気体を外部へ自然に排出可能とする。この場合、貫通部２６の形状は、図２（ｂ）に示すように複数の孔を並べて配置した形状としてもよいし、またはスリットとしてもよい。このように、貫通部２６の形状や設置数は、特に限定するものではないが、保持枠２０の剛性や、装置使用時の通気性などを考慮して決定することが望ましい。例えば、貫通部２６の形状がスリットである場合、図２（ｃ）に示すように、貫通部２６の開口幅（開口高さ）をＨとし、貫通部２６の流れ方向の長さ（厚さ）をＬとし、また、駆動部２２の駆動速度をＶ_Ｓとし、動粘性係数をνとする。このとき、平板層流境界厚さの観点から、開口幅Ｈは、以下の（数１）で現される関係を満たすことが望ましい。さらに、貫通部２６の貫通領域近傍に、マスクステージ５の周辺部から空間２５へのパーティクルなどの流入を抑止するフィルターを設置してもよい。

また、保持枠２０は、マスクＭを保持する側とは反対の側に、マスクＭを透過または反射した光を透過可能としつつ、空間２５の開口面を遮蔽する透過板（透過部材）２７を備える。この透過板２７は、予め保持枠２０に固定してもよいし、または、露光装置１内で保持枠２０とは別に相対的に移動もしくは着脱可能としてもよい。例えば、アライメント計測系４によりマスクＭの表面を計測する際に透過板２７が障害となる場合には、透過板２７を一時的に移動させた後に計測を実施し、再度透過板２７を所定の位置に戻した後に露光処理を実施する構成もあり得る。

駆動部２２は、例えば、図２（ａ）に示すように、保持枠２０をその側面から固定し移動可能とする。なお、本実施形態においては、保持枠２０と駆動部２２とを便宜上区別しているが、予め一体として構成されていてもよい。あるいは、駆動部２２は、保持枠２０を微動位置決め可能な構成を有するものであってもよい。また、駆動部２２の駆動機構としては、例えば、定盤２１を基準としたリニアモータなどが採用可能である。なお、スキャン駆動に伴う気流の攪乱を抑制するため、保持枠２０、駆動部２２、および透過板２７などの移動可能な構成要素の底面は、略同面とすることが望ましい。また、マスクステージ５の位置は、光計測装置２８により計測される。例えば、Ｘ軸方向にマスクステージ５が移動する際には、光計測装置２８は、図２（ａ）に示すようにＸ軸方向に沿った位置に設置することが望ましい。光計測装置２８としては、例えばエンコーダ方式やレーザ干渉方式のものが採用可能である。

次に、本実施形態に係る露光装置１の特徴であるマスクステージ５の作用について説明する。一般に、露光処理時にマスクに対して露光光が照射されると、回路パターンにて露光光の一部が吸収されることにより、光エネルギーが熱エネルギーに変換される。したがって、この熱エネルギーは、マスクの熱変形を引き起こし、マスク自体および保持枠を介した固体伝熱、周辺の空気を介した対流熱伝達、あるいは輻射伝熱により周囲環境へと拡散する可能性がある。特にステップ・アンド・スキャン方式を採用する露光装置では、図２（ａ）に示す空間２５のような空間に存在する気体がマスクにより加熱され、この気体が、マスクステージ（駆動部）の走査駆動に伴い漏出し、周囲環境を乱す可能性が高い。図３は、従来の露光装置におけるマスクステージ１００の構成を示す概略断面図であり、マスク１０１の下部に滞留した気体１０２の流れを説明する図である。図３（ａ）〜図３（ｅ）では、この滞留した気体１０２の流れを時系列で示しており、マスクステージ１００は、マスクステージ定盤１０３上を駆動部１０４によりＸ軸方向で紙面右側から左側へ走査駆動されている状態にある。まず、図３（ａ）に示すように、マスク１０１を保持しつつ駆動部１０４に固定された保持枠１０５と、マスク１０１とで囲まれた空間１０６には、加熱された気体１０２が滞留している。この状態から、図３（ｂ）〜図３（ｅ）に示すように駆動部１０４が徐々に移動すると、空間１０６内に滞留していた気体１０２は、投影光学系１０７およびマスクステージ定盤１０３と、保持枠１０５との隙間から周囲環境へ漏れ、拡散する。このように、加熱された気体１０２が周囲環境に拡散すると、周辺の各構成要素に熱の影響が生じる。具体的には、例えば、アライメント計測系の計測精度を低下させたり、または、特に計測光路上の熱ゆらぎに対する敏感度がより高いレーザ干渉方式の光計測装置を採用した場合、この光計測装置の計測精度を低下させたりする。また、マスク１０１から投影光学系１０７に向かう光にゆらぎを発生させたりする可能性がある。また、マスク１０１自体の熱変形も、直接結像性能に影響を及ぼす可能性がある。

そこで、本実施形態の露光装置１では、マスクステージ５における保持枠２０は、図２を用いて上述したように貫通部２６を有する。この貫通部２６の設置により、例えば、駆動部２２がＸ軸方向に走査駆動すると、一方の側の貫通部２６からその周囲の気体が流入し、空間２５内に存在していた気体は、他方の側の貫通部２６からその周囲へ流出する。したがって、空間２５内の気体は、滞留したまま加熱が促進されることがなく、露光処理中にある程度加熱されても空間２５の外部に排出されるため、過度に加熱されることがない。これにより、上記のような熱影響を極力抑えることができる。また、露光装置１の内部、例えばマスクステージ５の周囲に、空調装置２９を設置してもよい。この空調装置２９は、少なくともマスクＭの近傍を通過しつつ、所定の方向、例えば駆動部２２の走査方向とは反対方向に気体を供給するのが望ましい。これにより、空間２５から流出した気体を露光装置１の外部に効率良く排出することができ、マスクステージ５が存在する空間全体の環境を、より好適に維持することができる。

また、マスクステージ５は、空間２５の下部に設置された透過板２７を有するので、空間２５内に存在する気体が投影光学系６や定盤２１上へ漏出することを抑止できる。さらに、この透過板２７は、マスクＭとは別体であるため、マスクＭの交換による影響を受けない上、マスクＭの構成を特殊なものとする必要がない。

さらに、本実施形態の貫通部２６は、例えば、空間２５に強制的に温調気体を導入させたり、空間２５内の気体を強制的に排除させたりするための外部装置（温調装置や排気装置）から接続されるような配管を有しない。したがって、配管自体の振動あるいは配管を介して伝達してきた外部振動が、マスクＭに伝達されることがない。これにより、マスクＭに対する振動の影響を抑止し、また、保持枠２０に付着防止膜（ペリクル）を設置している場合には、振動による付着防止膜の破損も抑止できる。さらに、上記のような配管を設置していないことから、配管の引き回し、配管の接続によるマスクＭへの力学的負荷、マスクＭの交換時の配管の着脱およびそれに伴うパーティクルの発生など、露光装置１に対する種々の負荷を軽減させることができる。

以上のように、本実施形態によれば、マスクＭに対する熱および振動の影響を抑えるのに有利な露光装置を提供することができる。

（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係る露光装置について説明する。上記の第１実施形態では、マスクステージ５の保持枠２０に貫通部２６を設置したが、空間２５内に滞留した気体を効率良く外部に排出させるためには、貫通部２６を介して空間２５を通過する気体の流れを一定の方向とするのが望ましい。例えば、マスクステージ５の周囲かつ側方から空調装置２９を用いて気体の流れを発生させる場合、気体は、空調装置２９からの主たる流れ方向に沿いつつ空間２５を通過するのがよい。そこで、本実施形態では、保持枠２０にて、ある軸方向の両側面に設置された２箇所の貫通部の形状または構成を、空間２５を通過する気体の流れが一定の方向となるものとする。すなわち、本実施形態の貫通部は、上記ある軸方向の一方の側から気体が向かう方向（第１方向）に対して、他方の側から気体が向かう方向（第２方向）の圧力損失が大きくなるような形状および構成とする。

図４は、本実施形態に係るマスクステージ５の構成を示す概略断面図である。まず、図４（ａ）に示すマスクステージ５は、第１例としての貫通部３０を有する。なお、図４において、第１実施形態に係る図２に示す構成と同一のものには同一の符号を付し、説明を省略する。この貫通部３０は、第１実施形態の貫通部２６の形状を変更し、その形状を、ある一方の方向に開いたテーパ形状とすることで流抵抗に異方性を持たせるものである。この形状により、駆動部２２の往復速度が等しい場合には、貫通部３０の拡大方向に対する気体の流量が小さく、縮小方向に対する気体の流量が大きくなる。この流量の相違は、貫通部３０における局所的な圧力分布、または剥離現象による。この図４（ａ）に示す例では、Ｘ軸方向を走査方向とし、かつ、空調装置２９による気体の流れ方向は、Ｘ軸方向において走査方向とは反対方向となる紙面右側から左側への方向とする。この場合、貫通部３０のテーパ形状は、紙面右側の気体の流入側の開口を広くし、紙面左側の気体の流出側を狭くすることが望ましい。これにより、紙面右側から左側への気体の圧力損失が小さくなるため、空間２５内の気体は、左側の貫通部３０から流出しやすくなる。

一方、図４（ｂ）に示すマスクステージ５は、第２例としての貫通部３１を有する。この貫通部３１は、第１実施形態の貫通部２６の構成を変更し、気体の流れ方向をある一定の方向、例えば上記第１方向に限定する逆止弁３２を含む。この逆止弁３２としては、例えば、その開閉が電気的手段により制御され、気体の流量を適宜調節可能なものであってもよいし、駆動部２２のスキャン駆動による気体の流体力によって自然に開閉するものであってもよい。この場合も、上記第１例と同様に、空間２５内の気体は、左側の貫通部３１から流出しやすくなる。

（第３実施形態）
次に、本発明の第３実施形態に係る露光装置について説明する。図５は、本実施形態に係るマスクステージ５の構成を示す概略断面図である。なお、図５において、第１実施形態に係る図２に示す構成と同一のものには同一の符号を付し、説明を省略する。一般にマスクＭの位置は、駆動部２２の駆動による微動位置決めにより決定される。したがって、保持枠２０などのマスクＭの周辺の部材は、この微動位置決めに影響が出ないよう外部からの力学的負荷を極力受けないようにすることが望ましい。そこで、本実施形態では、図５に示すように、透過板２７を、保持枠２０とは直接接触させず、駆動部２２に支持させることにより、保持枠２０に対する透過板２７からの力学的負荷を低減させる。このような構成は、特に透過板２７を露光装置１内で保持枠２０とは別に移動もしくは着脱可能とするような場合に有効となる。

さらに、事実上光学系の一部となる透過板２７は、熱影響を受けると変形が生じ、光学性能に影響する可能性がある。そこで、以下のような構成により、透過板２７に対する熱影響を抑える。図６は、保持枠２０における透過板２７を支持する支持部（接続部）の構成を示す概略断面図である。まず、図６（ａ）に示す保持枠２０は、透過板２７に対する熱伝達を抑止して、透過板２７の変形を抑える支持部３３を有する。この支持部３３としては、例えば、透過板２７を柔軟に支持する弾性部材３４や、透過板２７に発生した変形を力学的に補正可能とするアクチュエータ（形状補正機構）３５などが採用可能である。一方、図６（ｂ）に示す保持枠２０は、透過板２７を第１実施形態と同様に支持しつつ、透過板２７の温度を調節可能な温度調節部３６を有する。この温度調節部３６としては、例えば、ペルチェ素子が採用可能である。このペルチェ素子は、吸熱面と発熱面とを有する熱移動素子であり、吸熱面を透過板２７の表面に接触させることで冷却させ、発熱面を空間２５に露出させることで不要な熱を発散させて、透過板２７に対する熱影響を低減させることができる。

なお、上記実施形態の露光装置１は、ステップ・アンド・スキャン方式を採用するものとしているが、本発明は、これに限定するものではない。例えば、マスクステージ５と基板ステージ７とを同期走査させないステップ・アンド・リピート方式の露光装置においても、マスクＭの交換時などにマスクステージ５が移動する際の気体の流れにより、保持枠２０が貫通部２６を有することは有利となり得る。

また、上記実施形態では、保持枠２０に透過板２７を設置する構成としているが、透過板２７の設置は、必須ではない。上記のとおり、透過板２７は、空間２５内に存在する気体が投影光学系６や定盤２１上へ漏出することを抑止できる点で有利である。これに対して、例えば、保持枠２０に透過板２７を設置せず、貫通部２７を設置するのみでも、空間２５内に存在する気体を外部へ排出できる点で有利となり得る。

（デバイスの製造方法）
次に、本発明の一実施形態のデバイス（半導体デバイス、液晶表示デバイス等）の製造方法について説明する。半導体デバイスは、ウエハに集積回路を作る前工程と、前工程で作られたウエハ上の集積回路チップを製品として完成させる後工程を経ることにより製造される。前工程は、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたウエハを露光する工程と、ウエハを現像する工程を含む。後工程は、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）と、パッケージング工程（封入）を含む。液晶表示デバイスは、透明電極を形成する工程を経ることにより製造される。透明電極を形成する工程は、透明導電膜が蒸着されたガラス基板に感光剤を塗布する工程と、前述の露光装置を使用して感光剤が塗布されたガラス基板を露光する工程と、ガラス基板を現像する工程を含む。本実施形態のデバイス製造方法によれば、従来よりも高品位のデバイスを製造することができる。

以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、これらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。

１ 露光装置
２ 照明光学系
５ マスクステージ
６ 投影光学系
２０ 保持枠
２２ 駆動部
２３ 回路パターン
２４ 保持領域
２５ 空間
２６ 貫通部
Ｍ マスク
Ｐ ガラスプレート

Claims (14)

1. 照明系からの光を原版に形成されたパターンに照射し、投影光学系を介して前記パターンの像を基板上に投影して前記基板を露光する露光装置であって、
   前記原版の外周部を保持する保持枠を有し、第１方向と該第１方向に対して反対方向の第２方向とに移動する原版保持部と、
   前記原版保持部の位置を計測する計測装置と、を有し、
   前記保持枠は、前記第１方向の側の側面と前記第２方向の側の側面にそれぞれ、前記原版と前記保持枠とに囲まれた空間に存在する気体を前記空間から流出、または前記空間に気体を流入可能とする貫通部を有し、
   前記計測装置は、前記原版保持部に対して前記第２方向に配置され、
   前記貫通部のそれぞれは、前記気体の第１方向の流れの圧力損失が、前記気体の第２方向の流れの圧力損失よりも小さくなる形状または構成を有することを特徴とする露光装置。
2. 前記貫通部は、前記側面を貫通する孔またはスリットであることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 前記原版保持部が前記第２方向に移動するのに伴い、
   前記第２方向の側の側面に有する貫通部は、前記保持枠の周囲から前記空間へ気体を流入させ、
   前記第１方向の側の側面に有する貫通部は、前記空間から前記保持枠の周囲へ、前記空間に存在する前記気体を流出させることを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
4. 前記基板を移動可能に保持する基板保持部を有し、
   前記原版保持部と前記基板保持部とを同期走査させて露光処理を実施する場合、
   前記第２方向が前記原版保持部を走査させる走査方向であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の露光装置。
5. 前記貫通部は、前記第１方向の前記気体の流入側の開口が広く、流出側の開口が狭いテーパ形状を有することを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の露光装置。
6. 前記貫通部は、前記気体の流れの方向を前記第１方向とする逆止弁を有することを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の露光装置。
7. 前記保持枠に支持され、前記投影光学系に向かう前記空間の面を、前記光を透過可能として遮蔽する透過部材を有することを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の露光装置。
8. 前記透過部材は、前記保持枠に対して相対的に移動可能であることを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
9. 前記透過部材は、弾性部材を介して支持されることを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
10. 前記透過部材は、形状補正機構を介して支持されることを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
11. 前記透過部材は、その表面に、前記透過部材の温度を調節する温度調節部を有することを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
12. 前記原版保持部の周囲に設置され、前記原版保持部の周囲環境の温度を調節する空調装置を有し、
    前記空調装置は、前記原版の周囲を通過しつつ、所定の方向に気体を供給することを特徴とする請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の露光装置。
13. 照明系からの光を原版に形成されたパターンに照射し、投影光学系を介して前記パターンの像を基板上に投影して前記基板を露光する露光装置であって、
    前記原版の外周部を保持する保持枠を有し、第１方向と該第１方向に対して反対方向の第２方向とに移動する原版保持部と、
    前記原版保持部の位置を計測する計測装置と、を有し、
    前記保持枠は、前記第１方向の側の側面と前記第２方向の側の側面にそれぞれ、前記原版と前記保持枠とに囲まれた空間に存在する気体を前記空間から流出、または前記空間に気体を流入可能とする貫通部を有し、
    前記計測装置は、前記原版保持部に対して前記第２方向に配置され、
    前記貫通部のそれぞれは、第１方向に前記貫通部を流れる気体の量が、第２方向に前記貫通部を流れる気体の量よりも多くなる形状または構成を有することを特徴とする露光装置。
14. 請求項１ないし１３のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
    その露光した基板を現像する工程と、
    を含むことを特徴とするデバイス製造方法。

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