JP2011124450A - 半導体受光素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明の半導体受光素子1は、基板101上に、光吸収領域105を含む半導体層110が配置され、さらに、前記半導体層110よりも光入射側にレンズ120が配置され、前記レンズ120は、光入射側に凸面を有し、前記凸面は、中心領域121と、前記中心領域121を取り囲む外周領域122とを有し、前記外周領域122は、前記光吸収領域105への集光に必要な曲率半径を有し、前記中心領域121は、平面であり、前記中心領域121から入射した光の前記光吸収領域105における光入射面積が、前記光吸収領域105の面積以下であることを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
基板上に、光吸収領域を含む半導体層が配置され、
さらに、前記半導体層よりも光入射側にレンズが配置され、
前記レンズは、光入射側に凸面を有し、
前記凸面は、中心領域と、前記中心領域を取り囲む外周領域とを有し、
前記外周領域は、前記光吸収領域への集光に必要な曲率半径を有し、
前記中心領域は、平面または前記外周領域よりも曲率半径が大きい曲面であり、
前記中心領域から入射した光の前記光吸収領域における入射光面積が、前記光吸収領域の面積以下であることを特徴とする。
図1および図2に、本発明の半導体受光素子の一例の構成を示す。図1は、本実施形態の半導体受光素子の断面図であり、図2は、本実施形態の半導体受光素子の平面図である。本実施形態の半導体受光素子は、半導体層が、基板を挟んでレンズと反対側に配置された裏面入射構造のメサ型APDである。図示のとおり、この半導体受光素子1は、n型半導体基板101、レンズ120、メサ状の受光領域110、p型電極112およびn型電極113を主要構成部材として有する。前記受光領域110は、前記n型半導体基板101の光入射側と反対側の面上に形成されており、光入射側から順に、n型バッファ層102、増倍層103、p+型電界緩和層104、光吸収層105、p型キャップ層106およびp型コンタクト層107が積層された構造である。前記p型電極112は、前記受光領域110のメサ上面に直接接触するように形成されている。前記n型電極113は、前記n型バッファ層102上に形成されている。前記受光領域110のメサ側壁は、保護膜118によって被覆されている。前記n型半導体基板101の光入射側の面上には、凸面を光入射側としてレンズ120が前記受光領域110のメサの直上に位置するように配置されている。前記レンズ120の凸面を含む光入射面130は、AR(Anti Reflective)コート119で被覆されている。なお、前記n型半導体基板101は、前記「基板」に相当し、前記受光領域110は、前記「半導体層」に相当する。
図6および図7に、本発明の半導体受光素子のその他の例の構成を示す。図6Aは、本実施形態の半導体受光素子の断面図であり、図7は、本実施形態の半導体受光素子の平面図である。また、図6Bは、本実施形態の半導体受光素子のレンズの曲率半径を説明するための模式図である。図6Cは、本実施形態の半導体受光素子において、レンズ凸面の中心領域から入射した光の光吸収領域における入射光面積と、光吸収領域の面積との関係について示す模式図である。本実施形態の半導体受光素子は、裏面入射構造のメサ型APDである。図示のとおり、本実施形態の半導体受光素子2は、レンズ220の凸面の中心領域221が、外周領域222よりも曲率半径が大きい曲面である点を除き、図1〜3に示す半導体受光素子1と同様の構成である。前記曲面221の曲率半径nRは、前記外周領域222の曲率半径Rの1.5倍以上であることが好ましく、より好ましくは、3倍以上である。前記曲面221から入射した光は、集光する位置までの距離が長くなる。このため、前記曲面221から入射した光は、前記半導体受光素子2内で集光せずに直進に近い状態で光吸収層205に到達する。具体的には、図6Cの模式図に示すとおりである。同図では、簡略化のために、レンズ凸面の中心領域221、外周領域222と、光吸収層205以外の構成要素は省略している。図示のとおり、中心領域(曲面)221から入射した光の前記光吸収領域における入射光面積Faは、中心領域221の面積よりも若干小さくなる。また、図6Aに示したとおり、前記曲面221の光入射側と反対側の面の直径Fと、前記光吸収層205の光入射側の面の直径Eとの関係は、F≦Eである。この結果、前記入射光面積Faと、前記光吸収領域の面積Eaとの関係は、図6Cに示すとおり、Fa≦Eaの関係となっている。このため、この半導体受光素子2では、中心領域221から入射した光の受光不能が発生しない。これらの結果、本実施形態の半導体受光素子2は、図1〜3に示す半導体受光素子1と同様の作用・効果を奏する。なお、図6および図7において、201は、n型半導体基板を、202は、n型バッファ層を、203は、増倍層を、204は、p+型電界緩和層を、206は、p型キャップ層を、207は、p型コンタクト層を、210は、受光領域(半導体層)を、212は、p型電極を、213は、n型電極を、218は、保護膜を、219は、ARコートを、221aは、前記曲面221の中心を、230は、光入射面を、231aは、前記n型バッファ層202の光入射側の面の中心を示す。本実施形態の半導体受光素子2は、前記レンズ220の凸面の中心領域221を、外周領域222よりも曲率半径が大きい曲面として形成する点を除き、図1〜3に示す半導体受光素子1と同様にして製造できる。
図8の断面図に、本発明の半導体受光素子のさらにその他の例の構成を示す。本実施形態の半導体受光素子は、半導体層が、基板を挟んでレンズと反対側に配置された裏面入射構造のメサ型PIN−PDである。図示のとおり、本実施形態の半導体受光素子3は、n型半導体基板301、レンズ320、メサ状の受光領域310、p型電極312およびn型電極313を主要構成部材として有する。前記受光領域310は、前記n型半導体基板301の光入射側と反対側の面上に形成されており、光入射側から順に、n型バッファ層302、アンドープInGaAs層(光吸収層)305、p型InP層306およびp型コンタクト層307が積層された構造である。前記受光領域310の構造を除き、本実施形態の半導体受光素子3は、図1〜3に示す半導体受光素子1と同様の構成である。本実施形態の半導体受光素子3も、図1〜3に示す半導体受光素子1と同様の作用・効果を奏する。なお、図8において、318は、保護膜を、319は、ARコートを、321は、平面を、321aは、前記平面321の中心を、330は、光入射面を、331aは、前記n型バッファ層302の光入射側の面の中心を示す。本実施形態の半導体受光素子3は、増倍層およびp+型電界緩和層を積層せず、p型キャップ層に代えてp型InP層306を積層する点を除き、図1〜3に示す半導体受光素子1と同様にして製造できる。
図9の断面図に、本発明の半導体受光素子のさらにその他の例の構成を示す。本実施形態の半導体受光素子は、半導体層が、基板とレンズとの間に配置された表面入射構造のプレーナ型PIN−PDである。図示のとおり、この半導体受光素子4は、n型半導体基板401、n型バッファ層402、光吸収層405、n型ウインドウ層441、p+型拡散層404、保護膜418、レンズ420、ARコート419、p型電極412、パッド電極442およびn型電極413を主要構成部材として有する。前記n型バッファ層402、前記光吸収層405、および前記n型ウインドウ層441は、前記n型半導体基板401の光入射側の面上に、前記順序で積層されている。前記p+型拡散層404は、前記n型ウインドウ層441内に形成されている。前記保護膜418は、前記n型ウインドウ層441および前記p+型拡散層404上に、断面が凸形状となるように形成されている。前記p型電極412は、前記p+型拡散層404に向けて前記保護膜418に形成された溝の中に、前記p+型拡散層404下面に直接接触するように、かつ、高さが前記保護膜418の素子端部側と同じになるように形成されている。前記パッド電極442は、前記p型電極412の保護のために、前記p型電極412を覆うように前記溝の中に形成されるとともに、外部回路との接続のために、前記保護膜418の素子端部側下面に直接接触した状態で、素子端部に向かって延びている。前記レンズ420は、凸面を光入射側として前記保護膜418および前記パッド電極442上に形成されている。前記レンズ420の凸面は、ARコート419で被覆されている。前記n型電極413は、前記n型半導体基板401の前記n型バッファ層402とは反対側の面上に形成されている。なお、前記n型半導体基板401は、前記「基板」に相当し、前記n型バッファ層402、前記光吸収層405、前記n型ウインドウ層441および前記p+型拡散層404を合わせたものが、前記「半導体層」に相当する。また、図9において、430は、光入射面を表す。
図1〜3に示す半導体発光素子1を作製する。まず、n型InP基板101の光入射側と反対側の面上に、ガスソースMBE法を用いて、約1μmのn型InPバッファ層102、0.2μm〜0.5μmのInAlAs増倍層103、0.05μm以下のp+型InAlAs電界緩和層104、0.5μm〜1μmのInGaAs光吸収層105、0.3μmのp型InAlAsキャップ層106、0.1μmのp型InGaAsコンタクト層107を、前記順序で積層する。つぎに、ブロム系等のエッチング液を用いたエッチングにより、pn接合の直径が30μmのメサ状の受光領域110を形成する。つぎに、前記受光領域110のメサ側壁をSiNxからなる保護膜118により被覆する。つぎに、前記p型InGaAsコンタクト層107上に、Ti/Pt/Auからなるp型電極112を形成し、前記受光領域110のメサ上面に直接接触するようにTi/Pt/Auからなるn型電極113を形成する。つぎに、前記n型InP基板101を、150μm〜200μm程度の厚さまで研磨する。つぎに、ブロム系等のエッチング液による2段階のエッチングにより、レンズ120を形成する。前記レンズ120の凸面の平面121の直径は、20μm〜28μm程度、外周領域122の曲率半径は、80μm〜100μmとする。つぎに、前記レンズ120の凸面を含む光入射面130をARコート119で被覆する。このようにして、本実施例の半導体受光素子1(裏面入射構造のメサ型APD)を得る。
図6および図7に示す半導体発光素子2を作製する。まず、n型InP基板201の光入射側と反対側の面上に、ガスソースMBE法を用いて、約1μmのn型InPバッファ層202、0.2μm〜0.5μmのInAlAs増倍層203、0.05μm以下のp+型InAlAs電界緩和層204、0.5μm〜1μmのInGaAs光吸収層205、0.3μmのp型InAlAsキャップ層206、0.1μmのp型InGaAsコンタクト層207を、前記順序で積層する。つぎに、ブロム系等のエッチング液を用いたエッチングにより、pn接合の直径が30μmのメサ状の受光領域210を形成する。つぎに、前記受光領域210のメサ側壁をSiNxからなる保護膜218により被覆する。つぎに、前記p型InGaAsコンタクト層207上に、Ti/Pt/Auからなるp型電極212を形成し、前記受光領域210のメサ上面に直接接触するようにTi/Pt/Auからなるn型電極213を形成する。つぎに、前記n型InP基板201を、150μm〜200μm程度の厚さまで研磨する。つぎに、ブロム系等のエッチング液による2段階のエッチングにより、レンズ220を形成する。前記レンズ220の凸面の曲面221の光入射側と半対話の面の直径は、20μm〜28μm程度、曲率半径は、170〜200μm、外周領域222の曲率半径は、80μm〜100μmとする。つぎに、前記レンズ220の凸面を含む光入射面230をARコート219で被覆する。このようにして、本実施例の半導体受光素子2(裏面入射構造のメサ型APD)を得る。
図8に示す半導体発光素子3を作製する。まず、n型InP基板301の光入射側と反対側の面上に、ガスソースMBE法を用いて、約1μm〜1.5μmのn型InPバッファ層302、1μm〜2μmのアンドープInGaAs層305、0.3μm〜0.5μmのp型InP層306、0.1μmのp型InGaAsコンタクト層307を、前記順序で積層する。つぎに、ブロム系等のエッチング液を用いたエッチングにより、pn接合の直径が30μmのメサ状の受光領域310を形成する。つぎに、前記受光領域310のメサ側壁をSiNxからなる保護膜318により被覆する。つぎに、前記p型InGaAsコンタクト層307上に、Ti/Pt/Auからなるp型電極312を形成し、前記受光領域310のメサ上面に直接接触するようにTi/Pt/Auからなるn型電極313を形成する。つぎに、前記n型InP基板301を、150μm〜200μm程度の厚さまで研磨する。つぎに、ブロム系等のエッチング液による2段階のエッチングにより、レンズ320を形成する。前記レンズ320の凸面の平面321の直径は、20μm〜28μm程度、外周領域322の曲率半径は、80μm〜100μmとする。つぎに、前記レンズ320の凸面を含む光入射面330をARコート319で被覆する。このようにして、本実施例の半導体受光素子3(裏面入射構造のメサ型PIN−PD)を得る。
60 光出射装置
101、201、301、401、1101 n型半導体基板
102、202、302、402、1102 n型バッファ層
103、203、1103 増倍層
104、204、1104 p+型電界緩和層
105、205、305、405、505、1105 光吸収層
106、206、1106 p型キャップ層
107、207、307、1107 p型コンタクト層
110、210、310、1110 受光領域
112、212、312、412、512、1112 p型電極
113、213、313、413、1113 n型電極
118、218、318、418、1118 保護膜
119、219、319、419、1119 ARコート
120、220、320、420、520、1120 レンズ
121、321、421、521 平面
121a、321a、421a 平面の中心
122、222、322、422、522 外周領域
130、230、330、430、1130 光入射面
131a、231a、331a n型バッファ層の光入射側の面の中心
221 曲面
221a 曲面の中心
306 p型InP層
404 p+型拡散層
431a p+型拡散層の中心
441 n型ウインドウ層
442 パッド電極
600 結合距離
Claims (4)
- 基板上に、光吸収領域を含む半導体層が配置され、
さらに、前記半導体層よりも光入射側にレンズが配置され、
前記レンズは、光入射側に凸面を有し、
前記凸面は、中心領域と、前記中心領域を取り囲む外周領域とを有し、
前記外周領域は、前記光吸収領域への集光に必要な曲率半径を有し、
前記中心領域は、平面または前記外周領域よりも曲率半径が大きい曲面であり、
前記中心領域から入射した光の前記光吸収領域における入射光面積が、前記光吸収領域の面積以下であることを特徴とする半導体受光素子。 - 前記中心領域が、平面であり、前記中心領域の面積が、前記光吸収領域の面積以下であることを特徴とする請求項1記載の半導体受光素子。
- 前記半導体層が、前記基板を挟んで前記レンズと反対側に配置されていることを特徴とする請求項1または2記載の半導体受光素子。
- 前記半導体層が、前記基板と前記レンズとの間に配置されていることを特徴とする請求項1または2記載の半導体受光素子。
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