JP6941403B1 - 半導体受光素子 - Google Patents
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Abstract
Description
上記構成によれば、集光レンズにおける窓部の外側部分に第2反射部が形成されているので、窓部に入射する光が第2反射部に遮られずに受光部に入射する。そして、受光部に入射した光は、第1反射部によって反射されて光吸収層を複数回透過するので、量子効率が向上し、受光感度の低下を軽減することができる。
上記構成によれば、集光レンズの外側に第2反射部が形成されているので、集光レンズに入射する光が第2反射部に遮られない。それ故、集光レンズから入射した光を第1反射部によって反射して光吸収層を複数回透過させることにより量子効率が向上するので、受光感度の低下を軽減することができる。
上記構成によれば、第2反射部が平面状なので、第1反射部で反射された光をその第1反射部の反射点の近傍に戻るように反射させる第2反射部を容易に形成することができる。そして、光吸収層を透過した光を第2反射部で反射させて光吸収層に再入射させることができるので、高速化のために光吸収層を薄くした場合に受光感度の低下を軽減することができる。
上記構成によれば、第1反射部で反射した光を第2反射部で反射させたときに、この第2反射部で反射した光を元の第1反射部の反射点に一致又は接近させて入射させることができる。従って、光吸収層を透過した光を第2反射部で反射させて光吸収層に再入射させることができ、高速化のために光吸収層を薄くした場合に受光感度の低下を軽減することができる。
(1)x0=r1×sin(α)
(2)y0=r1×cos(α)
(3)γ=θ+α
(4)θ=sin-1(x0/(x02+(r1+h−y0)2)1/2)
(5)β=sin-1(sin(γ)/n)
(6)δ=φ+α−β
(7)σ=π/2+α−β+2φ
(8)m1=−1/tan(σ)
(9)m1a=−x2/y2
(10)y1+t=x1×tan(φ)
(11)y1−y0=(x1−x0)×tan(π/2−α+β)
(12)x22+y22=r12
(13)y2−y1=(x2−x1)×tan(σ)
半導体受光素子1A〜1Cの窓部14から受光部3に入射して光吸収層6を透過した光は、第1反射部8によって反射されて光吸収層6を再度透過する。この光吸収層6を再度透過した光は、第2反射部17,27,37によって反射されて受光部3に再入射する。
2 :半導体基板
2a :第1面
2b :第2面
3 :受光部
4 :集光レンズ
5 :第1半導体層
6 :光吸収層
7 :第2半導体層
7a :表面
8 :第1反射部
8a :誘電体膜
8b :金属膜
11 :電極
12 :反射防止膜
14 :窓部
15 :外側部分
15a,35a :投光領域
16,36 :金属膜
17,27,37 :第2反射部
25,35 :傾斜面
CL :中心線
Claims (5)
- 半導体基板の第1面に第1半導体層と光吸収層と第2半導体層をこの順に積層させて形成された受光部を有し、前記半導体基板の前記第1面に対向する第2面側に前記受光部の中心線と同心のレンズ中心線を備えた集光レンズを有する半導体受光素子において、
前記第2半導体層の表面に、前記集光レンズに入射した光を反射する第1反射部であって前記光吸収層に対して傾斜した平面状の第1反射部を備え、
前記集光レンズに入射して前記第1反射部で反射された光が前記半導体基板の前記第2面側に到達する投光領域に第2反射部を備え、
前記集光レンズから前記受光部に入射して前記光吸収層を透過した光が、前記第1反射部によって反射されて前記光吸収層を再度透過し、前記光吸収層を再度透過した光が、前記第2反射部によって反射されて前記受光部に再入射するように構成したことを特徴とする半導体受光素子。 - 前記集光レンズは、前記中心線の近傍に光が入射する窓部を有し、
前記第2反射部は、前記集光レンズにおける前記窓部の外側部分に形成されたことを特徴とする請求項1に記載の半導体受光素子。 - 前記第2反射部は、前記集光レンズの外側に形成されたことを特徴とする請求項1に記載の半導体受光素子。
- 前記第2反射部は、平面状に形成されたことを特徴とする請求項1に記載の半導体受光素子。
- 前記第1反射部で反射された光が前記第2反射部に入射する入射点において、入射する光線と前記第2反射部の法線が重なる又は接近するように前記第2反射部の曲率半径が設定されたことを特徴とする請求項2に記載の半導体受光素子。
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JP2011077165A (ja) * | 2009-09-29 | 2011-04-14 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 光検出素子、光検出装置及び赤外線検出素子、赤外線検出装置 |
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CN109461778A (zh) * | 2018-10-31 | 2019-03-12 | 中国电子科技集团公司第四十四研究所 | 一种提高背照式光电二极管响应度的结构及制作方法 |
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2020
- 2020-10-16 JP JP2021523314A patent/JP6941403B1/ja active Active
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