JP2011119176A - 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】少なくとも陽極層、有機発光層を含む有機発光媒体層、陰極層からなる有機EL素子が形成された基板と封止基板とをフリットガラスを介して封止してなる有機ELディスプレイであって、前記基板は、前記有機EL素子が形成される部分の厚さが厚い部分と、前記基板の外縁部に設けられた厚さが薄い部分とが設けられ、前記基板の厚さが厚い部分と薄い部分との間に段差を有しており、前記フリットガラスは、前記基板の厚さが薄い部分と前記封止基板とが接する部分に形成されていることを特徴とする有機ELディスプレイとしたものである。
【選択図】図1
Description
また、フリットガラス封止層の内側に樹脂封止層を設けることによって、大面積で、機密性がよく、寿命の長い有機ELディスプレイの封止方法を提供することができる。
また、フリットガラスの封止層を画面に対して垂直方向である段差部分に形成することにより、画面に対して垂直方向への耐衝撃性を高くすることができる。
図5では基板及び封止基板の断面図のみ示すが、上記の段差は基板及び封止基板の外周に沿うように形成される。段差61を有する基板11又は接合部を端面に有する基板14と、封止基板12又は嵌合部66を有する封止基板13とは、段差61と嵌合部66とを同じ高さにするなど、互いの接合部または段差に嵌合するように成形される。
また、図1(b)は、本発明の有機ELディスプレイ101を示す断面模式図である。本発明の有機ELディスプレイ101は、外周に段差61を有する基板11上に有機EL素子31を形成し、基板との接着部に嵌合部66を有する封止基板13によりフリットガラスと接着剤を介して封止する構造を有する。
また、図2(b)は、本発明の有機ELディスプレイ201を示す断面模式図である。本発明の有機ELディスプレイ201は、外周に段差61を有する基板11上に有機EL素子31を形成し、基板との接着部に嵌合部66を有する封止基板13によりフリットガラスと接着剤を介して封止する構造を有する。
また、図3(b)は、本発明の有機ELディスプレイ301を示す断面模式図である。本発明の有機ELディスプレイ201は、外周に段差61を有する基板11上に有機EL素子31を形成し、基板との接着部に嵌合部66を有する封止基板13によりフリットガラスと接着剤を介して封止する構造を有する。
また、図4(b)は、本発明の有機ELディスプレイ401を示す断面模式図である。本発明の有機ELディスプレイ201は、接合部を端面に有する基板14上に有機EL素子31を形成し、基板との接着部に嵌合部66を有する封止基板13によりフリットガラスと接着剤を介して封止する構造を有する。
具体的には、有機EL素子31が形成される部分の基板の厚さを1mmとした場合、段差61の高さは0.1mm以上0.5mm以下であればよい。
封止基板は、基板と同様に公知のフォトリソグラフィ法により成形される。
封止工程は、有機EL素子を劣化させる酸素・水分の混入を防ぐために充分に乾燥させた不活性ガス雰囲気中で行うことが好ましい。不活性ガスを用いる場合は、アルゴンなどの希ガスを用いることもできるが、経済性などから窒素ガスを用いることが好ましい。
そのような例として、以下に図1(b)に基づく実施の形態を例に説明する。
12・・・封止基板
13・・・接着部64、65と嵌合部66を有する封止基板
14・・・基板
21・・・陽極層
22・・・陰極層
23・・・有機発光層を含む有機発光媒体層
31・・・有機EL素子
41・・・フリットガラス
42・・・フリットガラス
43・・・フリットガラス
44・・・フリットガラス
51・・・紫外線硬化型樹脂接着剤
61・・・基板11の外周にある段差
62・・・封止基板12の接着部
63・・・封止基板12の接着部
64・・・封止基板13の接着部
65・・・封止基板13の接着部
66・・・封止基板13の嵌合部
71・・・レーザー光
100・・本発明の有機ELディスプレイ
101・・本発明の有機ELディスプレイ
200・・本発明の有機ELディスプレイ
201・・本発明の有機ELディスプレイ
300・・本発明の有機ELディスプレイ
301・・本発明の有機ELディスプレイ
400・・本発明の有機ELディスプレイ
401・・本発明の有機ELディスプレイ
500・・従来の有機ELディスプレイ
Claims (9)
- 少なくとも陽極層、有機発光層を含む有機発光媒体層、陰極層からなる有機EL素子が形成された基板と封止基板とをフリットガラスを介して封止してなる有機ELディスプレイであって、
前記基板は、前記有機EL素子が形成される部分の厚さが厚い部分と、前記基板の外縁部に設けられた厚さが薄い部分とが設けられ、前記基板の厚さが厚い部分と薄い部分との間に段差を有しており、
前記フリットガラスは、前記基板の厚さが薄い部分と前記封止基板とが接する部分に形成されていることを特徴とする有機ELディスプレイ。 - 前記フリットガラスは、前記段差と前記封止基板とが接する部分に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の有機ELディスプレイ。
- 前記封止基板は、前記基板の段差に対応して嵌合する嵌合部を有しており、
前記基板の厚さが厚い部分と前記封止基板とが接する部分には、硬化型樹脂接着剤からなる接着層が形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機ELディスプレイ。 - 前記基板の段差の高さは0.1mm以上乃至前記基板の厚い部分の厚さの半分以下であることを特徴とする請求項1乃至3に記載の有機ELディスプレイ。
- 少なくとも陽極層、有機発光層を含む有機発光媒体層、陰極層からなる有機EL素子が形成された基板と封止基板とをフリットガラスを介して封止してなる有機ELディスプレイであって、
前記封止基板は、前記基板の厚さに対応して嵌合する嵌合部を有しており、
前記フリットガラスは、前記嵌合部と前記基板とが接する部分に形成されており、
前記フリットガラスよりも前記有機EL素子に近い前記基板と前記封止基板との間には硬化型樹脂接着剤からなる接着層が形成されていることを特徴とする有機ELディスプレイ。 - 前記硬化型樹脂接着剤は熱硬化型接着剤又は紫外線硬化型接着剤であることを特徴とする請求項3乃至5に記載の有機ELディスプレイ。
- 少なくとも陽極層、有機発光層を含む有機発光媒体層、陰極層からなる有機EL素子が形成された基板と封止基板とをフリットガラスを介して封止してなる有機ELディスプレイの製造方法であって、
前記基板の外周に段差を形成する工程と、
前記基板上に陽極層、有機発光層を含む有機発光媒体層、陰極層を形成する工程と、
前記封止基板と前記基板が接する部分に前記フリットガラスを塗布する工程と、
前記基板の段差の位置に前記封止基板を嵌合させる工程と、
前記フリットガラスにレーザー光を照射して前記基板と前記封止基板とを溶融接着する工程と、を有することを特徴とする有機ELディスプレイの製造方法。 - 請求項7に記載の有機ELディスプレイの製造方法であって、前記封止基板と前記基板が接する部分に前記フリットガラスを塗布する工程は、
前記封止基板に前記基板の段差に対応して嵌合する嵌合部を形成する工程と、
前記封止基板と前記基板が接する部分に前記フリットガラスを塗布する工程と、
からなることを特徴とする有機ELディスプレイの製造方法。 - 請求項7又は8に記載の有機ELディスプレイの製造方法であって、前記封止基板と前記基板が接する部分に前記フリットガラスを塗布する工程は、
前記封止基板と前記基板が接する部分にフリットガラスと硬化型樹脂接着剤を塗布する工程と、
からなることを特徴とする有機ELディスプレイの製造方法。
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