JP2011097070A - 投影露光装置、投影露光方法、及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】実露光に先立って、ウェハ面形状のフォーカス・レベリング軌道を求め、前記軌道を用いた場合のレチクルステージとウェハステージ2との相対位置誤差を推定する。更にスキャン速度算出手段6により、同期誤差の移動平均・移動標準偏差の期待値を、代表的なスキャン速度複数通りに対してそれぞれ算出した後、プロセスに見合った同期誤差のしきい値を満たす最大スキャン速度を各ショット毎に求め、それに応じた露光量等を再設定し、コンソール8に実際に設定された1ショット毎のスキャン速度を表示する。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明による第1の実施形態のスキャン露光装置の概略構成を示すブロック図である。図1において、1は第2の駆動機構としてのレチクルステージ、2は第1の駆動機構としてのウェハステージであり、両者が同期走査する。3はフォーカス検出系であり、スキャンするウェハ表面と像面との相対距離をチップ内にて多点計測する。4はレチクルステージ1及びウェハステージ2の制御を司るステージ制御系であり、同期制御部もこれに含まれる。5は同期誤差推定器、6はスキャン速度設定器である。同期誤差推定器5及びスキャン速度設定器6を含むシステムコントローラ7にて、スキャン速度及びその他の露光条件等を設定し、コンソール8がオペレータとのユーザインターフェースを受け持つ。
一般的に、例えばステージをチルト駆動したときの並進方向への影響のようないわゆる他成分への影響は、チルト方向に加振した時の加振入力から並進方向の制御偏差までの伝達特性、即ち周波数特性G(s)として規定することができる。更にこの特性は、通常、図3に示すような低域微分・高域積分特性を示す。周波数特性はステージユニット特有のものであり、FFTアナライザもしくはそれに準ずる周波数解析計算により、極めて精度良く求めることが可能である。従って、この特性を予め求めておき、これにステップS7で求めたフォーカス・レベリング軌道を入力した場合の出力、即ち並進方向制御偏差を、図4に示すブロック線図の順序に従って正確に計算することができる。フォーカス・レベリング軌道はウェハ表面形状により規定されるものであり、その形状は各スキャン速度に対して同一であるから、スキャン速度に比例してその時間軸が変わるだけで常に相似形である。従って、各スキャン速度における制御偏差を、同じ手順の繰り返しで求めることができる。ここではチルト駆動した場合について述べたが、フォーカス駆動した場合についても同様の手順で求められるのは言うまでもない。フォーカス・レベリング駆動した時の制御偏差の期待値が得られれば、ステップS1〜S5で得られた、フォーカス・レベリング駆動の無い状態での同期誤差に対して劣化する分として加味することで、実露光時での同期精度の期待値を求めることができる。
先ず、ステップ1(回路設計)では半導体デバイスの回路設計を行なう。ステップ2(マスク製作)では設計した回路パターンを形成したマスクを製作する。一方、ステップ3(ウェハ製造)ではシリコン等の材料を用いてウェハを製造する。ステップ4(ウェハプロセス)は前工程と称され、上記の如く用意したマスクとウェハを用いて、フォトリソグラフィー技術によってウェハ上に実際の回路を形成する。次のステップ5(組み立て)は後工程と称され、ステップ4によって作製されたウェハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンプリ工程(ダイシング、ボンディング)、パッケージンク工程(チップ封入)等の工程を含む。ステップ6(検査)ではステップ5で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷(ステップ7)される。
ステップ11(酸化)ではウェハの表面を酸化させる。ステップ12(CVD)ではウェハ表面に絶縁膜を形成する。ステップ13(電極形成)ではウェハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップ14(イオン打込み)ではウェハにイオンを打ち込む。ステップ15(レジスト処理)ではウェハに感光剤を塗布する。ステップ16(露光)では上述したスキャン露光装置によってマスクの回路パターンをウェハに焼付露光する。ステップ17(現像)では露光したウェハを現像する。ステップ18(エッチング)では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ19(レジスト剥離)ではエッチングが終了して不要となったレジストを除去する。これらのステップを繰り返し行なうことによって、ウェハ上に多重に回路パターンが形成される。
続いて、本発明の第2の実施形態について説明する。ここでは、第1に実施形態で述べた露光方法に学習的な機能を奏するステップS13を付加する。
ステップS11で設定された条件にてスキャン露光動作を開始する。コンソール8には、実際に設定された1ショット毎のスキャン速度が表示され、同時に実際に露光した時の同期誤差をショット毎に記録する。
1回のウェハ処理が完了した時点で、各ショットにおいて露光前に計算した同期誤差の期待値と、実際に露光して得られた同期誤差とを比較する。期待値を下回った場合には、それに見合う分だけスキャン速度を上げ、期待値より劣化した場合にはスキャン速度を下げるような設定を、次のウェハ処理において行う。
前述のように、同期精度は水平方向のステージ相対位置であり、第1の実施形態においてはこれに着目しているが、同様の考え方を垂直方向にも適用することができる。フォーカス・レベリング駆動を行なった際に垂直方向に現れる制御偏差は、露光される像のコントラストを規定することが知られており、やはり半導体製造プロセスにおける着目線幅等によってその許容値が規定されるからである。
図8は、本発明による第4の実施形態のスキャン露光装置の概略構成を示すブロック図である。
図8において、31は第2の駆動機構としてのレチクルステージ、32は第1の駆動機構としてのウェハステージであり、両者が同期走査する。33はフォーカス検出系であり、スキャンするウェハ表面と像面との相対距離をチップ内にて多点計測する。34はレチクルステージ31及びウェハステージ32の制御を司るステージ制御系であり、同期制御部もこれに含まれる。35は同期誤差推定器、36はスキャン速度算出器である。同期誤差推定器35及びスキャン速度算出器36を含むシステムコントローラ37にて、スキャン速度及びその他の露光条件等を設定し、コンソール38がオペレータとのユーザインターフェースを受け持つ。
実露光に先立って、ウェハ上の複数ショット(サンプルショット)に着目してスキャン動作を行う。ここではフォーカス駆動を行わず、フォーカス計測のみを行い、ショット内複数点でのフォーカス計測値を得る。この時、ウェハステージとレチクルステージの相対位置誤差より、同期精度、更にはその移動平均・標準偏差を求めておく。
S31〜S35にて得られたフォーカス計測値より、ショット内のウェハ面形状を求める。このとき、例えば特開平09−045608号公報に開示されている手法を用いて、既に露光されたレジスト段差を除去することにより、更に正確にウェハ面形状を求めることができる。
同期誤差推定器35により、ステップS7で得られた駆動軌道を用いた場合のレチクルステージとウェハステージ2との相対位置誤差を推定し、更にスキャン速度算出器36により、同期誤差の移動平均・移動標準偏差の期待値を、代表的なスキャン速度複数通りに対してそれぞれ求める。
ステップS39〜S41による算出結果をコンソール38に表示する。スキャン速度と、その場合に得られる同期誤差の期待値を基に、オペレータが当該プロセスにマッチしたスキャン速度を選択する。選択されたスキャン速度より、露光量などを設定した後、スキャン露光動作を開始する。
続いて、本発明の第5の実施形態について説明する。ここでは、第4に実施形態で述べた露光方法のステップS42において、オペレータによる速度設定に替わり、これを自動的に行う。各露光ロットに対して必要な同期精度をしきい値として予め設定しておき、第4の実施形態で説明した同期精度予側を行った後、設定された同期精度しきい値を満足するようなスキャン速度のうち最も大きいものを自動的に選択するように、図8のシステムコントローラ37を構成すれば良い。これにより、第4の実施形態の奏する諸効果に加え、露光性能を維持しながら最大の生産性を極めて効率良く得ることが可能となる。
2,32…ウェハステージ
3,33…フォーカス検出系
4,34…ステージ制御系
5,35…同期誤差推定器
6,36…スキャン速度算出手段
7,37…システムコントローラ
8,38…コンソール
Claims (45)
- 基板面に描画された所定パターンをウェハ面に露光して転写する投影露光装置において、
前記基板を保持し、走査方向に沿って走査する第1の駆動機構と、
前記ウェハを保持し、走査方向に沿って走査する第2の駆動機構と、
前記第1及び第2の駆動機構を走査駆動し、前記ウェハ面形状に基いて前記第1の駆動機構と前記第2の駆動機構との相対位置偏差の期待値を算出して、前記期待値により走査露光時における前記第1及び第2の駆動機構の走査速度を1回の露光毎に可変に設定するコントローラと、
を備えることを特徴とする投影露光装置。 - 基板面に描画された所定パターンをウェハ面に露光して転写する投影露光装置において、
前記基板を保持し、走査方向に沿って走査する第1の駆動機構と、
前記ウェハを保持し、走査方向に沿って走査する第2の駆動機構と、
前記第1及び第2の駆動機構を走査駆動し、前記ウェハ面形状に基いて前記第1の駆動機構と前記第2の駆動機構との相対位置偏差の期待値を算出して、前記期待値により走査露光時における前記第1及び第2の駆動機構の走査速度を1回の露光毎に自動的に設定するコントローラと、
を備えることを特徴とする投影露光装置。 - 前記ウェハ面形状は、実際の露光に先立った前記第1及び第2の駆動機構の走査駆動により計測されるものであることを特徴とする請求項1又は2に記載の投影露光装置。
- 前記ウェハ面形状に対するフォーカス及びレベリング計測を行い、当該計測結果を用いて前記相対位置偏差の期待値を算出することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の投影露光装置。
- 露光に先立った前記走査駆動は、前記ウェハ1枚毎又は複数枚毎に行われることを特徴とする請求項3に記載の投影露光装置。
- 基板面に描画された所定パターンをウェハ面に露光して転写する投影露光装置において、
前記基板を保持し、走査方向に沿って走査する第1の駆動機構と、
前記ウェハを保持し、走査方向に沿って走査する第2の駆動機構と、
前記第1及び第2の駆動機構を走査駆動し、前記ウェハ面形状に基いて前記第1の駆動機構と前記第2の駆動機構との相対位置偏差の期待値を算出する誤差推定器と、前記期待値により走査露光時における前記第1及び第2の駆動機構の走査速度を1回の露光毎に可変に設定する走査速度設定器と、
を備えることを特徴とする投影露光装置。 - 基板面に描画された所定パターンをウェハ面に露光して転写する投影露光装置において、
前記基板を保持し、走査方向に沿って走査する第1の駆動機構と、
前記ウェハを保持し、走査方向に沿って走査する第2の駆動機構と、
前記第1及び第2の駆動機構を走査駆動し、前記ウェハ面形状に基いて前記第1の駆動機構と前記第2の駆動機構との相対位置偏差の期待値を算出する誤差推定器と、前記期待値により走査露光時における前記第1及び第2の駆動機構の走査速度を1回の露光毎に自動的に設定する走査速度設定器と、
を備えることを特徴とする投影露光装置。 - 前記ウェハ面形状は、実際の露光に先立った前記第1及び第2の駆動機構の走査駆動により計測されるものであることを特徴とする請求項6又は7に記載の投影露光装置。
- 前記誤差推定器は、前記ウェハ面形状に対するフォーカス及びレベリング計測を行い、当該計測結果を用いて前記相対位置偏差の期待値を算出することを特徴とする請求項6〜8のいずれか1項に記載の投影露光装置。
- 露光に先立った前記走査駆動は、前記ウェハ1枚毎又は複数枚毎に行われることを特徴とする請求項8に記載の投影露光装置。
- 基板面に描画された所定パターンをウェハ面に露光して転写する投影露光方法において、
前記基板を保持して走査方向に沿って走査する第1の駆動機構と、
前記ウェハを保持して走査方向に沿って走査する第2の駆動機構と、
を駆動制御するに際して、
前記第1及び第2の駆動機構を走査駆動し、前記ウェハ面形状に基いて前記第1の駆動機構と前記第2の駆動機構との相対位置偏差の期待値を算出して、前記期待値により走査露光時における前記第1及び第2の駆動機構の走査速度を1回の露光毎に可変に設定することを特徴とする投影露光方法。 - 基板面に描画された所定パターンをウェハ面に露光して転写する投影露光方法において、
前記基板を保持して走査方向に沿って走査する第1の駆動機構と、
前記ウェハを保持して走査方向に沿って走査する第2の駆動機構と、
を駆動制御するに際して、
前記第1及び第2の駆動機構を走査駆動し、前記ウェハ面形状に基いて前記第1の駆動機構と前記第2の駆動機構との相対位置偏差の期待値を算出して、前記期待値により走査露光時における前記第1及び第2の駆動機構の走査速度を1回の露光毎に自動的に設定することを特徴とする投影露光方法。 - 前記ウェハ面形状を、実際の露光に先立った前記第1及び第2の駆動機構の走査駆動により計測することを特徴とする請求項11又は12に記載の投影露光方法。
- 前記ウェハ面形状に対するフォーカス及びレベリング計測を行い、当該計測結果を用いて前記相対位置偏差の期待値を算出することを特徴とする請求項11〜13のいずれか1項に記載の投影露光方法。
- 露光に先立った前記走査駆動を、前記ウェハ1枚毎又は複数枚毎に行うことを特徴とする請求項13に記載の投影露光方法。
- 基板面に描画された所定パターンをウェハ面に露光して転写する投影露光方法において、
前記基板を保持して走査方向に沿って走査する第1の駆動機構と、
前記ウェハを保持して走査方向に沿って走査する第2の駆動機構と、
を駆動制御するに際して、
前記第1及び第2の駆動機構を走査駆動し、前記ウェハ面形状に基いて前記第1の駆動機構と前記第2の駆動機構との相対位置偏差の期待値を算出する工程と、
前記期待値により走査露光時における前記第1及び第2の駆動機構の走査速度を1回の露光毎に可変に設定する工程と、
を有することを特徴とする投影露光方法。 - 基板面に描画された所定パターンをウェハ面に露光して転写する投影露光方法において、
前記基板を保持して走査方向に沿って走査する第1の駆動機構と、
前記ウェハを保持して走査方向に沿って走査する第2の駆動機構と、
を駆動制御するに際して、
前記第1及び第2の駆動機構を走査駆動し、前記ウェハ面形状に基いて前記第1の駆動機構と前記第2の駆動機構との相対位置偏差の期待値を算出する工程と、
前記期待値により走査露光時における前記第1及び第2の駆動機構の走査速度を1回の露光毎に自動的に設定する工程と、
を有することを特徴とする投影露光方法。 - 前記走査速度を1回の露光毎に自動的に設定する工程において、各露光における前記期待値と、実際の露光で得られた同期誤差との比較に基いて走査速度を設定することを特徴とする請求項17に記載の投影露光方法。
- 前記ウェハ面形状を、実際の露光に先立った前記第1及び第2の駆動機構の走査駆動により計測することを特徴とする請求項16〜18のいずれか1項に記載の投影露光方法。
- 前記ウェハ面形状に対するフォーカス及びレベリング計測を行い、当該計測結果を用いて前記相対位置偏差の期待値を算出することを特徴とする請求項16〜19のいずれか1項に記載の投影露光方法。
- 露光に先立った前記走査駆動を、前記ウェハ1枚毎又は複数枚毎に行うことを特徴とする請求項19に記載の投影露光方法。
- ウェハ面に感光材料を塗布するステップと、
請求項11〜21のいずれか1項に記載の投影露光方法の各工程により、前記感光材料が塗布された前記ウェハ面に所定パターンの露光を行うステップと、
前記所定パターンの露光が行われた前記感光材料を現像するステップと、
を備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項11〜21のいずれか1項に記載の投影露光方法の各工程を実行させるためのプログラムをコンピュータ読み取り可能に格納したことを特徴とする記憶媒体。
- 請求項22に記載の半導体装置の製造方法の各ステップを実行させるためのプログラムをコンピュータ読み取り可能に格納したことを特徴とする記憶媒体。
- 基板面に描画された所定パターンをウェハ面に露光して転写する投影露光装置において、
前記基板を保持し、走査方向に沿って走査する第1の駆動機構と、
前記ウェハを保持し、走査方向に沿って走査する第2の駆動機構と、
を備え、
走査露光前に前記第1及び第2の駆動機構を走査駆動し、その計測結果を用いて走査露光時における前記第1の駆動機構と前記第2の駆動機構との相対位置偏差を予測することを特徴とする投影露光装置。 - 前記相対位置偏差の予測結果に基づき、前記第1及び第2の駆動機構の走査制御を行なうことを特徴とする請求項25に記載の投影露光装置。
- 前記走査駆動によりフォーカス及びレベリング計測を行い、当該計測結果を用いて前記相対位置偏差を予測することを特徴とする請求項26に記載の投影露光装置。
- 前記走査駆動は、前記ウェハ1枚毎又は複数枚毎に行われることを特徴とする請求項25〜27のいずれか1項に記載の投影露光装置。
- 基板面に描画された所定パターンをウェハ面に露光して転写する投影露光装置において、
前記基板を保持し、走査方向に沿って走査する第1の駆動機構と、
前記ウェハを保持し、走査方向に沿って走査する第2の駆動機構と、
走査露光前に前記第1及び第2の駆動機構を走査駆動し、その計測結果を用いて走査露光時における前記第1の駆動機構と前記第2の駆動機構との相対位置誤差を推定する誤差推定器と、
前記誤差推定器により推定された前記相対位置誤差の偏差を、所定の各走査速度に対応して算出する走査速度算出手段と、
を備えることを特徴とする投影露光装置。 - 前記各走査速度及びそれに対応して前記走査速度算出手段により算出された前記偏差に基づき、前記第1及び第2の駆動機構の走査制御を行なうことを特徴とする請求項29に記載の投影露光装置。
- 前記偏差が算出された前記各走査速度のうちから最適の走査速度を選択し、当該走査速度に基づいて前記第1及び第2の駆動機構の走査制御を行なうことを特徴とする請求項29に記載の投影露光装置。
- 前記誤差推定器は、前記走査駆動によりフォーカス及びレベリング計測を行い、当該計測結果を用いて前記相対位置誤差を予測することを特徴とする請求項29〜31のいずれか1項に記載の投影露光装置。
- 前記誤差推定器による前記走査駆動は、前記ウェハ1枚毎又は複数枚毎に行われることを特徴とする請求項29〜32のいずれか1項に記載の投影露光装置。
- 基板面に描画された所定パターンをウェハ面に露光して転写する投影露光方法において、
前記基板を保持して走査方向に沿って走査する第1の駆動機構と、
前記ウェハを保持して走査方向に沿って走査する第2の駆動機構と、
を駆動制御するに際して、
走査露光前に前記第1及び第2の駆動機構を走査駆動し、その計測結果を用いて走査露光時における前記第1の駆動機構と前記第2の駆動機構との相対位置偏差を予測することを特徴とする投影露光方法。 - 前記相対位置偏差の予測結果に基づき、前記第1及び第2の駆動機構の走査制御を行なうことを特徴とする請求項34に記載の投影露光方法。
- 前記走査駆動によりフォーカス及びレベリング計測を行い、当該計測結果を用いて前記相対位置偏差を予測することを特徴とする請求項35に記載の投影露光方法。
- 前記走査駆動は、前記ウェハ1枚毎又は複数枚毎に行われることを特徴とする請求項34〜36のいずれか1項に記載の投影露光方法。
- 基板面に描画された所定パターンをウェハ面に露光して転写する投影露光方法において、
前記基板を保持して走査方向に沿って走査する第1の駆動機構と、
前記ウェハを保持して走査方向に沿って走査する第2の駆動機構と、
を駆動制御するに際して、
走査露光前に前記第1及び第2の駆動機構を走査駆動し、その計測結果を用いて走査露光時における前記第1の駆動機構と前記第2の駆動機構との相対位置誤差を推定する工程と、
前記誤差推定器により推定された前記相対位置誤差の偏差を、所定の各走査速度に対応して算出する工程と、
を有することを特徴とする投影露光方法。 - 前記各走査速度及びそれに対応して算出された前記偏差に基づき、前記第1及び第2の駆動機構の走査制御を行なうことを特徴とする請求項38に記載の投影露光方法。
- 前記偏差が算出された前記各走査速度のうちから最適の走査速度を選択し、当該走査速度に基づいて前記第1及び第2の駆動機構の走査制御を行なうことを特徴とする請求項38に記載の投影露光方法。
- 前記走査駆動によりフォーカス及びレベリング計測を行い、当該計測結果を用いて前記相対位置誤差を予測することを特徴とする請求項38〜40のいずれか1項に記載の投影露光方法。
- 前記走査駆動は、前記ウェハ1枚毎又は複数枚毎に行われることを特徴とする請求項38〜41のいずれか1項に記載の投影露光方法。
- ウェハ面に感光材料を塗布するステップと、
請求項34〜42のいずれか1項に記載の投影露光方法の各工程により、前記感光材料が塗布された前記ウェハ面に所定パターンの露光を行うステップと、
前記所定パターンの露光が行われた前記感光材料を現像するステップと、
を備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項34〜42のいずれか1項に記載の投影露光方法の各工程を実行させるためのプログラムをコンピュータ読み取り可能に格納したことを特徴とする記憶媒体。
- 請求項43に記載の半導体装置の製造方法の各ステップを実行させるためのプログラムをコンピュータ読み取り可能に格納したことを特徴とする記憶媒体。
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