JP2011094910A - 吸収式冷凍機 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】高温再生器1及び低温再生器2を備え、これら高温再生器1と低温再生器2とに稀液を分岐して流す吸収式冷凍機100において、高温再生器1と低温再生器2とに稀液を分配する配管20Dに分配弁41を設け、高温再生器1及び/又は低温再生器2の圧力を検出し、圧力の変化に応じて分配弁41の開度比率を変更し、高温再生器1及び低温再生器2に流れる稀液の量を所定量に維持する制御器60を備えた構成とする。
【選択図】図1
Description
ここで、抵抗は、冷房運転時の負荷が設計値の時(100%負荷時)を基準にして設けられているため、部分負荷時には、低温再生器の圧力が大きく低下することにより、低温再生器に流れる稀液の量が多くなり、その結果、高温再生器と低温再生器とに分配される稀液の比率のバランスが崩れて、部分負荷性能が低下してしまうおそれがある。
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであり、部分負荷性能を向上した吸収式冷凍機を提供することを目的とする。
以下、図面を参照して本発明の第一の実施の形態について説明する。
図1は、本発明の第一の実施の形態に係る吸収式冷凍機を示す回路図である。
吸収式冷凍機100は、例えば、冷媒に水、吸収液に臭化リチウム(LiBr)溶液を用いた二重効用吸収式冷凍機である。この吸収式冷凍機100は、高温再生器1、低温再生器2、凝縮器3、蒸発器4、吸収器5、高温熱交換器6、低温熱交換器7、及び冷媒ドレン熱回収器9等が配管接続され、吸収液及び冷媒の循環サイクルが構成されている。
蒸発器4には、凝縮器3から流入した冷媒が溜まる冷媒溜まり4Bが形成され、この冷媒溜まり4Bから上部に設けられた散布器4Aへと液冷媒を循環させる冷媒ポンプ14を備えた冷媒管27が接続されている。蒸発器4内には、冷温水管28が伝熱管として配置され、この冷温水管28を介して、ブライン(例えば、冷水又は温水)が図示しない熱負荷(例えば空気調和装置)に循環供給される。冷温水管28と冷却水管26とは、開閉弁33が設けられた接続管29によって接続されている。
吸収器5の下部には、蒸発器4からの冷媒蒸気が散布器5Aから散布された濃液に吸収された稀液が溜まる稀液溜まり5Bが形成されている。この稀液溜まり5Bには、冷媒管27から分岐して開閉弁34が設けられた分岐管30と、上記稀液管20とが接続されている。吸収器5内には、冷却水が流通する冷却水管26が伝熱管として配置されている。この冷却水管26は、この吸収器5内を経由して上記凝縮器3内を経由するように配設されている。
さらに、吸収式冷凍機100には、吸収式冷凍機100の制御を行う制御装置(制御器)60が設けられている。制御装置60は、液面検知器1Aにより検出される高温再生器1における吸収液の液面の高さ、温度センサ51,52により検出されるブライン及び吸収液の温度等を取得する。そして、制御装置60は、取得した値に基づいて、点火器10Aの点火制御、燃料制御弁10Bの開閉及び開度制御、第1吸収液ポンプ8、第2吸収液ポンプ13及び冷媒ポンプ14の運転/停止制御等を実行する。
本実施の形態の吸収式冷凍機100は、高温再生器1と低温再生器2とに稀液を分配する配管に設けられる稀液分配弁(分配弁)41と、高温再生器1から流出する濃液の流量を調整する流量調整弁(流量調整手段)42とを備えている。
そこで、制御装置60は、低温再生器2の圧力、すなわち、第1吸収液ポンプ8の運転周波数に応じて、稀液分配弁41及び流量調整弁42を制御する第1稀液分配処理を実行する。
本実施の形態では、100%負荷時に、第1吸収液ポンプ8の運転周波数は、例えば60Hzに設定され、稀液分配弁41及び流量調整弁42の開度は、例えば50%に設定される。これにより、本実施の形態では、100%負荷時に、低温再生器2に流れる稀液の量と、高温再生器1に流れる稀液の量とが略同一となる。
第1吸収液ポンプ8の運転周波数が第3低下閾値(例えば25Hz)まで低下すると、制御装置60は、稀液分配弁41及び流量調整弁42の開度をさらに所定開度α小さくして50%−3αとする。ここで、第1吸収液ポンプ8の運転周波数が50%−3αに設定される場合を段階Dとする。
第1吸収液ポンプ8の運転周波数が、第2低下閾値(35Hz)より例えば5Hz高い第2上昇閾値(40Hz)まで上昇すると、制御装置60は、稀液分配弁41及び流量調整弁42の開度をさらに所定開度α大きくして50%−αとする(段階B)。
第1吸収液ポンプ8の運転周波数が、第1低下閾値(45Hz)より例えば5Hz高い第1上昇閾値(50Hz)になると、制御装置60は、稀液分配弁41及び流量調整弁42の開度をさらに所定開度α大きくして50%とする(段階A)。
また、制御装置60は、稀液分配弁41及び流量調整弁42の開度を、同時に、かつ、同量変化させるため、稀液分配弁41及び流量調整弁42の開度を個別に制御する場合に比べ、制御ロジックを簡素化できる。
また、第1稀液分配処理では、第1吸収液ポンプ8の運転周波数に応じて、稀液分配弁41及び流量調整弁42を制御するため、低温再生器2の圧力を検出する圧力センサを設ける必要がないので、第1稀液分配処理を実行することによるコストアップを抑えることができる。
次に、第二の実施の形態について説明する。
上述したように、熱負荷の負荷が下がると、高温再生器1に投入される入熱量が減少するので、高温再生器1の温度は低下する。したがって、高温再生器1の温度は、低温再生器2の圧力に応じて変化する。具体的には、低温再生器2の圧力が低下するほど、高温再生器1の温度は低下する。
そこで、本実施の形態の制御装置60は、低温再生器2の圧力、すなわち、温度センサ52が検出した高温再生器1の温度に応じて、稀液分配弁41及び流量調整弁42を制御する第1稀液分配処理を実行する。
本実施の形態では、100%負荷時に、高温再生器1の温度は、例えば155℃になり、稀液分配弁41及び流量調整弁42の開度は、例えば50%に設定される。これにより、本実施の形態では、100%負荷時に、低温再生器2に流れる稀液の量と、高温再生器1に流れる稀液の量とが略同一となる。
高温再生器1の温度が第2低下閾値(例えば130℃)まで低下すると、制御装置60は、稀液分配弁41及び流量調整弁42の開度をさらに所定開度α小さくして50%−2αとする(段階C)。
高温再生器1の温度が第3低下閾値(例えば120℃)まで低下すると、制御装置60は、稀液分配弁41及び流量調整弁42の開度をさらに所定開度α小さくして50%−3αとする(段階D)。
高温再生器1の温度が、第2低下閾値(130℃)より例えば5℃高い第2上昇閾値(135℃)まで上昇すると、制御装置60は、稀液分配弁41及び流量調整弁42の開度をさらに所定開度α大きくして50%−αとする(段階B)。
高温再生器1の温度が、第1低下閾値(140℃)より例えば5℃高い第1上昇閾値(145℃)まで上昇すると、制御装置60は、稀液分配弁41及び流量調整弁42の開度をさらに所定開度α大きくして50%とする(段階A)。
また、制御装置60は、稀液分配弁41及び流量調整弁42の開度を、同時に、かつ、同量変化させるため、稀液分配弁41及び流量調整弁42の開度を個別に制御する場合に比べ、制御ロジックを簡素化できる。
また、第2稀液分配処理では、高温再生器1の温度に応じて、稀液分配弁41及び流量調整弁42を制御するため、低温再生器2の圧力を検出する圧力センサを設ける必要がないので、第2稀液分配処理を実行することによるコストアップを抑えることができる。
次に、第三の実施の形態について説明する。
図4は、第三の実施の形態に係る吸収式冷凍機200の概略構成図である。この吸収式冷凍機200は、第1冷媒蒸気管21Aの低温再生器2入口側に設けられて冷媒蒸気の温度を検出する温度センサ53を備える点で、上記した吸収式冷凍機100と構成を異にする。その他の構成は吸収式冷凍機100と同一であるため、同一の符号を付して説明を省略する。
そこで、制御装置60は、低温再生器2の圧力、すなわち、高温再生器1の濃液濃度に応じて、稀液分配弁41及び流量調整弁42を制御する第3稀液分配処理を実行する。
高温再生器1の濃液濃度は、温度センサ52,53が検出した温度に基づき算出される。温度と濃度との関係を示す情報は、予め実験等によって取得されており、制御装置60は、この情報に基づいて、温度センサ52,53から取得した温度に対応する高温再生器1の濃液濃度を特定する。
本実施の形態では、100%負荷時に、高温再生器1の濃液濃度は、例えば63%になり、稀液分配弁41及び流量調整弁42の開度は、例えば50%に設定される。これにより、本実施の形態では、100%負荷時に、低温再生器2に流れる稀液の量と、高温再生器1に流れる稀液の量とが略同一となる。
高温再生器1の濃液濃度が第2低下閾値(例えば45%)まで低下すると、制御装置60は、稀液分配弁41及び流量調整弁42の開度をさらに所定開度α小さくして50%−2αとする(段階C)。
高温再生器1の濃液濃度が第3低下閾値(例えば35%)まで低下すると、制御装置60は、稀液分配弁41及び流量調整弁42の開度をさらに所定開度α小さくして50%−3αとする(段階D)。
高温再生器1の濃液濃度が、第2低下閾値(45%)より例えば5%高い第2上昇閾値(50%)まで上昇すると、制御装置60は、稀液分配弁41及び流量調整弁42の開度をさらに所定開度α大きくして50%−αとする(段階B)。
高温再生器1の濃液濃度が、第1低下閾値(55%)より例えば5%高い第1上昇閾値(60%)まで上昇すると、制御装置60は、稀液分配弁41及び流量調整弁42の開度をさらに所定開度α大きくして50%とする(段階A)。
また、制御装置60は、稀液分配弁41及び流量調整弁42の開度を、同時に、かつ、同量変化させるため、稀液分配弁41及び流量調整弁42の開度を個別に制御する場合に比べ、第3稀液分配処理に係る制御ロジックを簡素化できる。
また、第3稀液分配処理では、高温再生器1の濃液濃度に応じて、稀液分配弁41及び流量調整弁42を制御するため、低温再生器2の圧力を検出する圧力センサを設ける必要がないので、第3稀液分配処理を実行することによるコストアップを抑えることができる。
また、第3稀液分配処理では、温度センサ52,53を用いて高温再生器1の濃液濃度を算出するため、高温再生器1の濃液濃度を検出する高価な濃度計を設ける必要がないので、第3稀液分配処理を実行することによるコストアップを抑えることができる。
また、本実施の形態では、温度センサ52,53が検出した温度に基づき高温再生器1の濃液濃度を算出したが、吸収液管22に濃度計を配置し、この濃度計により高温再生器1の濃液濃度を検出するようにしてもよい。
例えば、上記実施の形態では、稀液分配弁41は、低温再生器2へとつながる第4稀液管20Dに設けられていたが、高温再生器1へとつながる第3稀液管20Cに設けられてもよい。この場合、低温再生器2の圧力が低下するほど、稀液分配弁41の開度を大きくすればよい。
また、上記実施の形態では、流量調整弁42が設けられていたが、流量調整弁42を省略してもよい。
また、高温再生器1の空間Sの圧力を検出する圧力センサを設け、この圧力に応じて、稀液分配弁41及び流量調整弁42を制御するようにしてもよい。
2 低温再生器
5 吸収器
8 第1吸収液ポンプ(吸収液ポンプ)
8A インバータ
20D 第4稀液管(配管)
22A 第1吸収液管(配管)
41 稀液分配弁(分配弁)
42 流量調整弁(流量調整手段)
52 温度センサ
53 温度センサ
60 制御装置(制御器)
100 吸収式冷凍機
200 吸収式冷凍機
Claims (6)
- 高温再生器及び低温再生器を備え、これら高温再生器と低温再生器とに稀液を分岐して流す吸収式冷凍機において、
前記高温再生器と前記低温再生器とに稀液を分配する配管に分配弁を設け、前記高温再生器及び/又は前記低温再生器の圧力を検出し、前記圧力の変化に応じて前記分配弁の開度比率を変更し、前記高温再生器及び前記低温再生器に流れる稀液の量を所定量に維持する制御器を備えたことを特徴とする吸収式冷凍機。 - 吸収器の稀液を前記高温再生器及び前記低温再生器に循環させる吸収液ポンプを備え、
前記制御器は、前記吸収液ポンプの運転周波数の変化に応じて分配弁の開度比率を変更し、前記高温再生器及び前記低温再生器に流れる稀液の量を所定量に維持することを特徴とする請求項1に記載の吸収式冷凍機。 - 前記制御器は、前記高温再生器の温度を検出し、前記温度の変化に応じて分配弁の開度比率を変更し、前記高温再生器及び前記低温再生器に流れる稀液の量を所定量に維持することを特徴とする請求項1に記載の吸収式冷凍機。
- 前記制御器は、前記高温再生器の濃液濃度を検出し、前記濃度の変化に応じて分配弁の開度比率を変更し、前記高温再生器及び前記低温再生器に流れる稀液の量を所定量に維持することを特徴とする請求項1に記載の吸収式冷凍機。
- 前記制御器は、前記低温再生器の濃液濃度を検出し、前記濃度の変化に応じて分配弁の開度比率を変更し、前記高温再生器及び前記低温再生器に流れる稀液の量を所定量に維持することを特徴とする請求項1に記載の吸収式冷凍機。
- 前記高温再生器から前記吸収器につながる配管に流量を調整する流量調整手段を設け、
前記流量調整手段は、前記高温再生器及び/又は前記低温再生器の圧力の変化に応じて制御されることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の吸収式冷凍機。
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- 2009-10-30 JP JP2009250628A patent/JP2011094910A/ja active Pending
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