JP2011091160A - 基板搬送装置及び基板処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】
設置面積を小さくすることが可能な基板搬送装置及び該基板搬送装置を備える基板処理装置を提供する。
【解決手段】
基板搬送チャンバ４は、基板保持部１３の旋回を許容する第１の空間Ｅ１を形成する第１の空間形成部４ａと、第１の空間形成部４ａの側壁４Ｂより軸方向に直交する方向（Ｘ方向）で軸部１１に近い位置に第１の開口１５が形成された第２の空間形成部４ｂとを備える。このため、基板搬送チャンバ４の側壁４Ｂと第１の開口１５との間のＸ方向の長さＬ１の分、基板搬送装置１を基板処理部３０に近づけて配置することができる。この結果、基板搬送装置１の設置面積を小さくすることができる。また、駆動部３等により、軸部１１を軸に沿う方向に伸縮させ、軸の周りに回動させ、関節アーム１２を伸縮させることで、ロードロック５と第１の開口１５との間で基板Ｗを搬送することができる。
【選択図】図２

Description

本発明は、基板を搬送する基板搬送装置及び該基板搬送装置を備える基板処理装置に関する。

従来、半導体等の基板を処理する基板処理装置は、処理される基板を収容するキャリア、ロードロック、基板を搬送する搬送ロボットを備える基板搬送装置、及び基板を処理する基板処理部等で構成されている。キャリアに収容された基板は、ロードロックを介して基板搬送装置内の搬送ロボットにより基板処理部に搬送される。

このような基板処理装置において、例えば基板搬送装置の上方にロードロックを設けることにより、ロードロックの減圧及び通気に要する時間を短縮しスループットの低下を防止する技術が開示されている。
また、一方で、半導体等の基板の大型化に伴う基板処理装置の大型化の結果、基板処理装置の設置面積の省スペース化の要求がある。

特許第３４４７６９８号（段落００３５、図４）

しかしながら、上記特許文献の技術では、ロードロックが基板搬送装置の上に積層されているためロードロックの分だけ設置面積を小さくすることができるものの、基板搬送装置の隣に基板処理部が配置されるため、基板搬送装置の設置面積を小さくすることはできない、という問題がある。
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、設置面積を小さくすることが可能な基板搬送装置及び該基板搬送装置を備える基板処理装置を提供することにある。

上記目的を達成するため、本発明の一形態に係る基板搬送装置は、第１のチャンバと、軸と、軸駆動機構と、基板保持部と、進退機構と、移動機構と、第２のチャンバとを具備する。
上記軸は、上記第１のチャンバ内に設けられている。
上記軸駆動機構は、上記軸を回動させる。
上記基板保持部は、上記第１のチャンバ内に設けられ、基板を保持する。
上記進退機構は、上記軸に設けられ、上記基板保持部を支持し上記軸の軸方向に対して直交する方向に進退させる。上記移動機構は、上記軸方向に上記進退機構を移動させる。
上記第２のチャンバは、上記軸方向で上記第１のチャンバに近接して配置され、上記基板保持部との間で受け渡される上記基板を収容可能である。上記第１のチャンバは、第１の空間形成部と、第２の空間形成部とを有する。上記第１の空間形成部は、上記軸駆動機構による上記軸の回動による上記軸周りの上記基板保持部の旋回を許容する第１の空間を形成する。上記第２の空間形成部は、上記第１の空間形成部と上記軸方向に連設され、上記基板保持部の上記第１の空間との間での移動を許容する第２の空間を形成し、上記第１の空間形成部の上記軸方向に沿った第１の側壁より上記軸方向に直交する方向で上記軸に近い位置に上記直交する方向への上記基板の通過を許容する第１の開口が形成されている。

本発明の一実施形態に係る基板搬送装置を示す斜視図である。 図１に示す基板搬送装置のＡ−Ａ断面図である。 図１に示す基板搬送装置の平面図である。 図１に示す基板搬送装置を備える基板処理装置を示す平面図である。 図４に示す基板処理装置のＢ−Ｂ断面図である。 ステージが下降した状態を示す基板処理装置の断面図である。 軸部の回動によるステージ上の基板の受け取り動作を説明する図である。 基板保持部により受取った基板を退避した状態を示す図である。 ステージが退避した後の軸部の回動後の状態を示す図である。 軸部が収縮し基板保持部が下降した状態を示す図である。 収縮した軸部の回動、関節アームの伸張した状態を示す図である。 第２の実施の形態の基板搬送装置の断面図である。 図１２に示す基板搬送装置を備える基板処理装置を示す断面図である。 軸部の回動によりロードロック内の基板を受取る動作を説明する図である。 基板を受取った基板保持部が退避領域に退避した状態を示す図である。 軸部が収縮した後、回動した状態を示す図である。 軸部が収縮し、基板保持部が下降した状態を示す図である。 軸部が回動し、関節アームが伸張した状態を示す図である。 本発明に係る第３の実施の形態の基板搬送装置を示す断面図である。 図１９に示す基板搬送装置を備える基板処理装置の断面図である。

本発明の一実施形態に係る基板搬送装置は、第１のチャンバと、軸と、軸駆動機構と、基板保持部と、進退機構と、移動機構と、第２のチャンバとを具備する。
上記軸は、上記第１のチャンバ内に設けられている。
上記軸駆動機構は、上記軸を回動させる。
上記基板保持部は、上記第１のチャンバ内に設けられ、基板を保持する。
上記進退機構は、上記軸に設けられ、上記基板保持部を支持し上記軸の軸方向に対して直交する方向に進退させる。上記移動機構は、上記軸方向に上記進退機構を移動させる。
上記第２のチャンバは、上記軸方向で上記第１のチャンバに近接して配置され、上記基板保持部との間で受け渡される上記基板を収容可能である。上記第１のチャンバは、第１の空間形成部と、第２の空間形成部とを有する。上記第１の空間形成部は、上記軸駆動機構による上記軸の回動による上記軸周りの上記基板保持部の旋回を許容する第１の空間を形成する。上記第２の空間形成部は、上記第１の空間形成部と上記軸方向に連設され、上記基板保持部の上記第１の空間との間での移動を許容する第２の空間を形成し、上記第１の空間形成部の上記軸方向に沿った第１の側壁より上記軸方向に直交する方向で上記軸に近い位置に上記直交する方向への上記基板の通過を許容する第１の開口が形成されている。

本発明では、第１のチャンバは、第１の空間形成部の軸方向に沿った第１の側壁より軸方向に直交する方向で軸に近い位置にこの軸方向に直交する方向への基板の通過を許容する第１の開口が形成された第２の空間形成部を有する。このため、この第１の開口に対応させて例えば基板処理部を配置することができる。この結果、基板搬送装置の設置面積を小さくすることができる。また、軸駆動機構により、軸部を軸の周りに回動させ、軸に沿う方向に移動させ、進退機構により基板保持部を軸方向に直交する方向に進退させることで、第１のチャンバに軸方向で近接して設けられた第２のチャンバと第１の開口との間で基板をスムーズに搬送し、第１の開口を介して基板を基板処理部側に搬送することができる。このように、異なる高さにある第２のチャンバと、第１の開口との間で、基板をスムーズに搬送することができる。

上記第１の側面に直交する方向での上記軸と上記第１の側壁の内面との間隔は、上記軸駆動機構による上記軸の回動による上記軸周りの上記基板保持部の最小旋回半径であるにしてもよい。これにより、基板搬送装置の設置面積をより小さくすることができる。

上記第２のチャンバは、上記軸方向に直交する方向で上記軸の上記第１の側壁側とは反対側で前記第１のチャンバに積層されているようにしてもよい。これにより、軸を中心として一方の側に配置された第２のチャンバから第１の開口を介して他方の側に基板を搬送することができる。

上記第１の空間形成部は、上記第２の空間形成部の上に連設され、上記第２のチャンバ内と上記第１の空間とを連通する第２の開口が形成された上壁を有し、上記第２のチャンバは、上記第２の開口に配置され当該第２のチャンバを密閉可能なステージを有し、当該基板搬送装置は、上記第２のチャンバを密閉状態にする第１の位置と、上記基板保持部との間で基板を受け渡し可能な第２の位置との間で上記ステージを昇降させる昇降駆動機構を更に具備するようにしてもよい。

これにより、昇降駆動機構により、第２のチャンバを密閉状態にする第１の位置と、基板保持部との間で基板を受け渡し可能な第２の位置との間でステージを昇降させ、基板の受け渡しをすることができる。

上記進退機構は、一端が上記軸に連結された第１のアームと、一端が上記第１のアームに回動自在に連結され他端が上記基板保持部側に回動自在に連結された第２のアームとを有するにしてもよい。これにより、フログレグ型の多関節アームを用いる場合に比べて、基板の受け渡しに必要となる領域を小さくすることができる。

上記基板の載置された上記ステージが上記第２の位置に下降している状態で上記軸駆動機構を駆動させ上記軸を回動させることで、上記第１の空間内で上記基板保持部に上記基板を受取らせ、上記軸駆動機構を駆動させ上記軸を回動させることで、上記基板を受取った上記基板保持部を上記ステージから退避させ、上記ステージが上記第１の位置に退避した状態で上記軸駆動機構を駆動させ上記軸を回動させることで、上記基板を保持する上記基板保持部を上記ステージの下方に旋回させ、上記移動機構を駆動させ上記進退機構を上記軸方向に移動させることで、上記第１の空間から上記第２の空間に上記進退機構を下降させ、上記軸駆動機構を駆動させ上記軸を回動させることで、上記基板保持部に保持された基板を上記第１の開口内に位置させ、上記進退機構を駆動させ上記基板を上記第１の開口を介して進退させる制御部を更に具備するようにしてもよい。

これにより、第１のチャンバのサイズを、基板保持部に保持された基板を軸の周りに旋回させるために必要な最小のサイズとしつつ、軸の回動、移動、進退機構による基板保持部の進退により基板を搬送させることができる。

上記基板の載置された上記ステージが上記第２の位置に下降している状態で上記軸駆動機構を駆動させ上記軸を回動させることで、上記第１の空間内で上記基板保持部に上記基板を受取らせ、上記軸駆動機構を駆動させ上記軸を回動させることで、上記基板を受取った上記基板保持部を上記ステージから退避させ、上記ステージが上記第１の位置に退避した状態で上記軸駆動機構を駆動させ上記軸を回動させることで、上記基板を保持する上記基板保持部を上記ステージの下方に旋回させ、上記移動機構を駆動させ上記進退機構を上記軸方向に移動させると共に、上記軸駆動機構を駆動させ上記軸を回動させることで、上記第１の空間から上記第２の空間に上記進退機構を下降させつつ上記基板保持部に保持された基板を前記第１の開口内に位置させ、上記進退機構を駆動させ上記基板を上記第１の開口を介して進退させる制御部を更に具備するようにしてもよい。

これにより、第１のチャンバのサイズを、基板保持部に保持された基板を軸の周りに旋回させるために必要な最小のサイズとしつつ、軸の回動と、移動（昇降）とを同時に行うことで、より短時間で基板を搬送することができる。
本発明の一実施形態に係る基板処理装置は、基板搬送装置と、基板処理部とを有する。

上記基板搬送装置は、第１のチャンバと、上記第１のチャンバ内に設けられた軸と、上記軸を回動させる軸駆動機構と、上記第１のチャンバ内に設けられ、基板を保持するための基板保持部と、上記軸に設けられ、上記基板保持部を支持し上記軸の軸方向に対して直交する方向に進退させる進退機構と、上記軸方向に上記進退機構を移動させる移動機構と、上記軸方向で上記第１のチャンバに近接して配置され、上記基板保持部との間で受け渡される上記基板を収容可能な第２のチャンバとを備え、上記第１のチャンバは、上記軸駆動機構による上記軸の回動による上記軸周りの上記基板保持部の旋回を許容する第１の空間を形成する第１の空間形成部と、上記第１の空間形成部と上記軸方向に連設され、上記基板保持部の上記第１の空間との間での移動を許容する第２の空間を形成し、上記第１の空間形成部の上記軸方向に沿った第１の側壁より上記軸方向に直交する方向で上記軸に近い位置に上記直交する方向への上記基板の通過を許容する第１の開口が形成された第２の空間形成部とを有する。

上記基板処理部は、上記第１の開口に対向して設けられた第２の開口が形成され、上記第１の開口及び上記第２の開口を介して上記基板保持部により搬送された上記基板に処理を施すことが可能である。

本発明では、基板搬送装置の第１のチャンバの第１の開口に基板処理部の第２の開口を対応させて配置することができる。この結果、基板搬送装置の設置面積を小さくすることができ、結果的に、基板処理装置の設置面積を小さくすることができる。

以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。
（基板搬送装置の構成）
図１は本発明の一実施形態に係る基板搬送装置を示す斜視図、図２は図１に示す基板搬送装置のＡ−Ａ断面図、図３は図１に示す基板搬送装置の平面図である。
基板搬送装置１は、基板を搬送する搬送ロボット２、搬送ロボット２を駆動する駆動部３、搬送ロボット２を収容する基板搬送チャンバ４（第１のチャンバ）、基板搬送チャンバ４に積層されたロードロック５（第２のチャンバ）、及び制御部６を備える。

搬送ロボット２は、ＳＣＡＲＡ（Selective Compliance Assembly Robot Arm）型の搬送ロボットであり、軸部１１と、関節アーム１２と、基板保持部１３とを備える。

軸部１１は、駆動部３により、軸（図２に示すＺ軸）の周りに回動（回転）可能であり、かつこの高さ方向（Ｚ方向）に伸縮可能である。つまり、軸部１１の内部に軸部１１を伸縮させる伸縮機構（移動機構）を備える。基板保持部１３は、軸部１１の伸縮により、基板搬送チャンバ４の高さ方向で昇降する。

関節アーム１２は、複数のアームが折り畳み可能に設けられた折り畳み型の関節アームである。具体的には、関節アーム１２は、互いに回動自在に連結された第１のアーム１２Ａと第２のアーム１２Ｂとを備える（図１１参照）。第１のアーム１２Ａの一端は、軸部１１に連結され他端は第２のアーム１２Ｂの一端に回動自在に連結されている。第２のアーム１２Ｂの他端は、ハンド１２Ｃに回動自在に連結されている（図１１参照）。関節アーム１２は、軸部１１の軸方向（図２に示すＺ方向）に直交する方向（図２、図１１に示すＸ方向）に基板保持部１３を進退させる。関節アーム１２は、第１のアーム１２Ａと第２のアーム１２Ｂとの連結箇所等に設けられたアーム駆動機構（進退機構）により駆動される。

基板保持部１３は、基板を保持（支持）する保持部である。基板保持部１３は、第２のアーム１２Ｂに固定されたハンド１２Ｃに支持されている。第１のアーム１２Ａ、第２のアーム１２Ｂの回動駆動により、基板保持部１３は、軸部１１を中心にして水平面内で（図２に示すＸ方向等に）進退する。

軸部１１から基板保持部１３の先端までの長さが最小になるように第１のアーム１２Ａと、第２のアーム１２Ｂと、基板保持部１３とを互いに折り畳んだ状態を図１、図２に示す。このときの軸部１１から基板保持部１３の先端までの長さは、基板保持部１３が軸部１１の周りで旋回するときに必要となる最小旋回半径Ｒである。図３に示すように軸部１１を中心として最小旋回半径Ｒの円周Ｃで囲まれる領域が最小旋回領域である。
駆動部３は、基板搬送チャンバ４の底面の下に設けられており、軸部１１を伸縮、回動させる軸駆動機構の一部を構成する。

基板搬送チャンバ４は、搬送ロボット２を収容する。基板搬送チャンバ４の長さ方向（図３に示すＸ方向）の長さは長さＬである。具体的には、長さＬは、例えば５００ｍｍ以下程度である。

基板搬送チャンバ４は、図示しない真空ポンプに接続されることで、内部が真空排気可能に構成されている。基板搬送チャンバ４は、図２に示すように第１の空間Ｅ１を形成する第１の空間形成部４ａと、第２の空間Ｅ２を形成する第２の空間形成部４ｂとを備える。

第１の空間Ｅ１は、駆動部３による軸部１１の回動による軸周りの基板保持部１３の旋回を許容する。軸部１１と側壁４Ｂの内面との間隔は、駆動部３による軸部１１の回動による軸周りの基板保持部１３の最小旋回半径Ｒと略同じである。

第２の空間形成部４ｂは、第１の空間形成部４ａと軸方向に連設され一体的に形成されている。第２の空間Ｅ２は、基板保持部１３の第１の空間Ｅ１との間での移動を許容する。第２の空間形成部４ｂは、第１の空間形成部４ａの軸方向に沿った側壁４Ｂより軸方向に直交する方向（Ｘ方向）で軸部１１に近い位置に第１の開口１５が形成されている。第１の開口１５は、Ｘ方向で基板保持部１３の最小旋回半径Ｒより、軸部１１に近い位置に形成されている。第１の開口１５は、図２に示すＺ方向に所定の高さを有すると共に、奥行き方向（図２に示すＹ方向）に所定の長さを有する。つまり、第１の開口１５は、図２に示すＹＺ平面に平行な開口である。第１の開口１５の奥行き方向の長さは、最小回転半径Ｒにおける旋回の過程で基板保持部１３が第１の開口１５の内部に進入できる程度の長さが少なくとも必要である。つまり、本実施形態では基板搬送チャンバ４のＹ方向に対向する一対の側壁間にわたって第１の開口１５が形成されている。第１の開口１５は、ＸＹ平面に平行な開口１５Ａと繋がっている。なお、この開口１５Ａは基板搬送チャンバ４に形成されていなくてもよい。つまり、基板搬送装置１に後述する基板処理部３０を接続したときに（図５参照）、開口１５Ａは、基板処理部３０の端部３２の上面により塞がれる。

つまり、第１の空間形成部４ａのＸ方向の一端部の底面（図２に示す開口１５Ａが形成されている面）と、第２の空間形成部４ｂの一端部とで段差部１４が形成されている。段差部１４は、基板搬送装置１の高さ方向（図２に示すＺ方向）で下部側かつ長さ方向（図２に示すＸ方向）で一側に設けられている。基板搬送チャンバ４の一方の側壁４Ｂと、第１の開口１５との間のＸ方向の長さは長さＬ１とされている。具体的には、長さＬ１は、例えば１００ｍｍ程度であるがこの長さは特に限定されない。第１の開口１５と、他方の側壁４Ｂとの間のＸ方向の長さは、長さＬ２である。具体的には、長さＬ２は、４００ｍｍ以下程度であるがこの長さは特に限定されない。

基板搬送チャンバ４の上壁４Ａには第２の開口１６が形成されている。第２の開口１６は、長さ方向（図２に示すＸ方向）で、軸部１１を中心にして第１の開口１５が形成された側とは反対側に形成されている。第２の開口１６は、最小旋回領域に平面的に一部が重なる位置に形成されている。

ロードロック５は、基板搬送チャンバ４の上に積層して複数、配設されている。ロードロック５は、長さ方向（Ｘ方向）では軸部１１を中心にして第１の開口１５が形成されている側とは反対側に配置されている。ロードロック５は、ロードロック５の内部を真空状態にすることが可能であり、図示しないキャリアと基板搬送チャンバ４との間で基板を搬送するために用いられる。２個のロードロック５のうちの一方は、例えば後述する基板処理部での処理が未処理の基板が収容され、他方は、基板処理部での処理が済んだ処理済の基板が収容される。
ロードロック５は、筺体２０、ステージ２１、及びゲート２２を備える。
筺体２０は、基板搬送チャンバ４の上に設けられており、内部に基板を収容可能な空間を形成する。

ステージ２１は、基板を載置した状態で高さ方向（図２に示すＺ方向）に昇降可能である。ステージ２１の上面側には、複数のピン２３が設けられている。複数のピン２３は、図３に示すように基板保持部１３の後述する旋回時に基板保持部１３との干渉を避ける位置に配設されている。ステージ２１は、図２に示すように基板搬送チャンバ４の第２の開口１６に嵌り、ロードロック５を密閉する。図２に示すステージ２１の位置を第１の位置という。
ゲート２２は、図示しないキャリアとロードロック５との間で基板を受け渡しするための開口を形成することができるように移動可能に設けられている。

第２の駆動部２４は、ロードロック５の上壁の上に設けられている。第２の駆動部２４は、複数の軸部２５に接続されており、これらの軸部２５を伸縮駆動させる。

複数の軸部２５は、それぞれの一端がステージ２１に固定されており、それぞれの他端が第２の駆動部２４に接続されている。複数の軸部２５は、図３に示すように基板保持部１３の後述する旋回時に基板保持部１３との干渉を避ける位置に形成されている。なお、図３に示す一対の軸部２５の配設位置は、基板保持部１３との干渉を避けることが可能な位置であれば特に限定されず適宜変更可能である。

制御部６は、ロードロック５と第１の開口１５との間での基板の搬送に必要となる搬送ロボット２の制御及び第２の駆動部２４の駆動制御を行う。具体的には、制御部６は、軸部１１の回動制御、軸部１１の伸縮制御、及び関節アーム１２の伸縮制御をするために駆動部３等を制御する。なお、制御部６の詳細な制御については後で詳述する。

（基板処理装置の構成）
図４は図１に示す基板搬送装置１を備える基板処理装置を示す平面図、図５は図４に示す基板処理装置のＢ−Ｂ断面図である。
基板処理装置１００は、上述した基板搬送装置１と、基板処理部３０とを備える。

基板処理部３０は、基板に対して所定の処理を施すことが可能な処理装置である。基板処理部３０の長さ方向（図４に示すＸ方向）の長さは長さＬ３程度である。基板処理部３０の奥行き方向（図４に示すＹ方向）の長さは長さＬ４である。具体的には、長さＬ４は、例えば８００ｍｍ程度であるがこれに限定されない。基板処理部３０の側面には、基板搬送装置１の第１の開口１５に対応して配置される第３の開口３１が形成されている。具体的には、第１の開口１５と、第３の開口３１とは、ほぼ同形状である矩形状を有する。例えば第３の開口３１の高さ及び幅は、第１の開口１５の高さ及び幅とほぼ同一である。第１の開口１５と第３の開口３１とは、基板搬送装置１内と基板処理部３０内との間での軸部１１に直交する方向（Ｘ方向）の基板の搬送を可能にする。

基板処理部３０の第３の開口３１が形成されている側の端部３２は、図５に示すように基板搬送装置１の段差部１４に嵌るように設けられている。つまり、基板搬送装置１は、側壁４Ｂと第１の開口１５との間のＸ方向の長さＬ１の分、長さ方向（図５に示すＸ方向）に基板処理部３０に近づけて配置されている。
基板搬送装置１の第１の開口１５と、基板処理部３０の第３の開口３１とは対面し、基板Ｗが通過可能な開口が形成されている。

（基板処理装置１００の動作）
次に、基板処理装置１００の基板の搬送動作を図面を参照しながら説明する。

図６はステージ２１が下降した状態、図７は軸部１１が回動した状態、図８は基板保持部１３により受取った基板Ｗを退避した状態、図９はステージ２１が退避した後の軸部１１の回動後の状態、図１０は軸部１１が収縮し基板保持部１３が下降した状態、図１１は収縮した軸部１１の回動、関節アーム１２の伸張した状態を示す図である。なお、図５に示すようにロードロック５のステージ２１がロードロック５内を密閉可能な第１の位置にあり、ステージ２１上に基板Ｗが載置されており、搬送ロボット２が最小旋回半径Ｒを有する状態でステージ２１の下降を妨げない第１の空間Ｅ１に配置されているものとする。以下、この状態でロードロック５から基板処理部３０内に基板Ｗを搬送する場合について説明する。なお、基板処理部３０からロードロック５への基板Ｗの搬送については、同様であるのでその説明を省略する。

第２の駆動部２４は、軸部２５を伸張させ、ステージ２１を図５に示す第１の位置から図６に示す第２の位置に下降させる。これにより、図６に示すように高さ方向（図６に示すＺ方向）でステージ２１と基板Ｗとの間に基板保持部１３が位置する。

駆動部３は、軸部１１を回動させ、図７に示すようにステージ２１と基板Ｗとの間に基板保持部１３を入り込ませる。このとき、軸部２５やピン２３は、図３に示すように基板保持部１３と干渉を避ける位置に配置されているので、基板保持部１３の旋回動作がスムーズに行われる。

ここで、基板Ｗの下方に基板保持部１３が位置する状態で、関節アーム１２が僅かに伸張するようにしてもよい。これにより、基板保持部１３による基板Ｗの受け取りに最も適した位置に基板保持部１３を位置させることができる。具体的には、基板Ｗの中心と、基板保持部１３の中心とを平面的に一致させることができる。
次いで、第２の駆動部２４がステージ２１を下降させる、又は駆動部３が軸部１１を僅かに伸張させる。これにより、基板保持部１３が基板Ｗを受取る。
次いで、駆動部３は、軸部１１を回動させ、図８に示すように基板Ｗを支持する基板保持部１３をステージ２１から退避させる。

次に、図９に示すように第２の駆動部２４は、軸部２５を収縮させて、ステージ２１を上昇させ、第１の位置に配置させ、駆動部３は、軸部１１を回動させ、基板保持部１３を第１の空間Ｅ１内で旋回させる。これにより、基板Ｗを支持する基板保持部１３が図９に示すようにステージ２１の下方に位置する。
次いで、駆動部３は、図１０に示すように軸部１１を収縮させ、基板Ｗを支持する基板保持部１３を第２の空間Ｅ２内に下降させる。

そして、駆動部３は、軸部１１を回動させ、基板Ｗを支持する基板保持部１３を第１の開口１５及び第３の開口３１を介して基板処理部３０内に配置し、続いて、図１１に示すようにアーム駆動機構の駆動により第１のアーム１２Ａ、第２のアーム１２Ｂを伸張させることで、基板保持部１３に支持された基板Ｗを基板処理部３０の所望の位置に搬送することができる。

（作用等）
このように本実施形態によれば、基板搬送チャンバ４は、基板保持部１３の旋回を許容する第１の空間Ｅ１を形成する第１の空間形成部４ａと、第１の空間形成部４ａと軸方向に連設され第１の空間形成部４ａの側壁４Ｂより軸方向に直交する方向（図２に示すＸ方向）で軸部１１に近い位置に第１の開口１５が形成された第２の空間形成部４ｂとを備える。つまり、基板搬送チャンバ４が第１の開口１５が形成された段差部１４を備え、第１の開口１５が、軸部１１の周りの基板保持部１３の側壁４Ｂ（最小旋回半径Ｒ）より軸部１１に近い位置に形成されている。このため、基板搬送チャンバ４の側壁４Ｂと第１の開口１５との間のＸ方向の長さＬ１の分、基板搬送装置１を基板処理部３０に近づけて配置することができる。この結果、基板搬送装置１の設置面積を小さくすることができる。つまり、基板処理装置１００の設置面積を小さくすることができる。また、駆動部３等により、軸部１１を軸に沿う方向に伸縮させ、軸の周りに回動させ、関節アーム１２を伸縮させることで、基板搬送チャンバ４に軸方向で近接して設けられたロードロック５と第１の開口１５との間で基板Ｗを搬送し、第１の開口１５を介して基板Ｗを基板処理部３０との間で搬送することができる。

側面１５ａに直交する方向（図２に示すＸ方向）での軸部１１と側壁４Ｂの内壁との間隔は、駆動部３による軸部１１の回動による軸周りの基板保持部１３の最小旋回半径とほぼ同じ長さである。このため、基板搬送装置１自体のサイズを最小にすることができる。
ロードロック５は、基板搬送チャンバ４に積層するように設けられている。これにより、基板搬送装置１の設置面積を小さくすることができる。

ロードロック５は、基板搬送チャンバ４の第２の開口１６の中に配置されてロードロック５を密閉可能なステージ２１を備える。基板搬送装置１は、ロードロック５を密閉状態にする図５に示す第１の位置と、基板保持部１３との間で基板Ｗを受け渡し可能な図６に示す第２の位置との間でステージ２１を昇降させる軸部２５を伸縮駆動する第２の駆動部２４を備える。これにより、第２の駆動部２４により、第１の位置と第２の位置との間でステージ２１を昇降させることができる。

ロードロック５の内部に第２の駆動部２４が設けられておらずロードロック５の外部に第２の駆動部２４が設けられている。このため、第２の駆動部２４による軸部２５の駆動に起因するロードロック５の内部でのパーティクルの発生を防止することができる。

搬送ロボット２は、互いに回動自在に設けられた第１のアーム１２Ａと、第２のアーム１２Ｂとを備えるＳＣＡＲＡ型の関節アームを備える。これにより、基板搬送装置がフログレグ型の関節アームを備える場合に比べて、基板Ｗの受け渡しに必要となる領域を小さくすることができる。この結果、基板搬送装置１の設置面積を小さくすることができる。

なお、上記第１の実施形態では、駆動部３が、基板保持部１３を図９に示す位置から図１１に示す位置に移動させるときに、図１０に示す下降位置に一旦基板保持部１３を下降させ、その後、軸部１１の周りに回動させる例を示した。しかし、制御部６が駆動部３を制御し、軸部１１に沿って軸部１１を下降させつつ軸部１１を回動させるようにしてもよい。これにより、基板Ｗの搬送時間を短縮することができ、基板処理部３０でのスループットを向上させることができる。

（第２の実施の形態）
図１２は第２の実施の形態の基板搬送装置の断面図である。

次に、本発明に係る第２の実施の形態の基板搬送装置について説明する。なお、本実施形態以降では、上記第１の実施の形態と同一の構成部材等には同一の符号を付し、その説明を省略し、異なる箇所を中心に説明する。
（基板搬送装置の構成）

基板搬送装置２００は、図２に示す基板搬送装置１に比べて、ロードロック５０と、第４の開口４１が形成されると共に退避領域Ｅ´を有する基板搬送チャンバ４０とを備える点が異なる。

ロードロック５０は、基板搬送チャンバ４０の上部側の位置でかつ長さ方向（図１２に示すＸ方向）で搬送ロボット２の軸部１１を中心として第１の開口１５側とは反対側に配置されている。ロードロック５０の底壁には、基板Ｗを支持するためのピン５１が複数設けられている。ロードロック５０は、ロードロック５０と基板搬送チャンバ４０とを連通させたり、ロードロック５０を密閉したりするためのゲート５３を備える。

基板搬送チャンバ４０の第４の開口４１は、軸部１１の上方でかつ長さ方向（図１２に示すＸ方向）で軸部１１を中心として第１の開口１５側とは反対側に設けられている。第４の開口４１は、高さ方向（図１２に示すＺ方向）に所定の高さを有し、奥行き方向（図１２に示すＹ方向）に所定の長さを有する。第４の開口４１は、ＹＺ平面に平行である。第４の開口４１は、ゲート５３により開閉される。第４の開口４１は、ロードロック５０内と退避領域Ｅ´との間で基板Ｗを長さ方向（図１２に示すＸ方向）に搬送可能にする。

基板搬送チャンバ４０の退避領域Ｅ´は、ロードロック５０との間で基板Ｗの受け渡しをするために基板保持部１３が退避する領域であり、段差部１４の上方でロードロック５０と同じ高さの位置に配置されている。
基板搬送装置２００は、図２に示す昇降可能なステージ２１、複数の軸部２５、及び第２の駆動部２４等を備えていない。

（基板処理装置の構成）
図１３は図１２の基板搬送装置２００を備える基板処理装置を示す断面図である。
本実施形態の基板処理装置３００は、上記第１の実施形態の基板処理装置１００に比べて、基板搬送装置１の代わりに基板搬送装置２００を備える点が異なる。

（基板Ｗの搬送動作）
次に、基板処理装置３００による基板Ｗの搬送動作について図面を参照しながら説明する。

図１４は軸部１１の回動によりロードロック５０内の基板Ｗを受取る動作を説明する図、図１５は基板Ｗを受取った基板保持部１３が退避領域Ｅ´に退避した状態を示す図、図１６は軸部１１が収縮した後、回動した状態を示す図、図１７は軸部１１が収縮し、基板保持部１３が下降した状態を示す図、図１８は軸部１１が回動し、関節アーム１２が伸張した状態を示す図である。なお、ロードロック５０内に予め基板Ｗが収容されているものとして説明する。

駆動部３は、図１３に示すように軸部１１を伸張させる。これにより、基板保持部１３が図１３に示す上昇位置に上昇する。これにより、基板保持部１３は、基板Ｗと、ロードロック５０の底壁との間に位置する。

次いで、ゲート５３を開いた状態で、駆動部３は、図１４に示すように軸部１１を軸の周りに回動させる。これにより、図１４に示すように基板保持部１３が第４の開口４１を介してロードロック５０内に入り込む。このとき、基板保持部１３は、ロードロック５０の底壁と、基板Ｗの底面との間に、複数のピン５１に干渉することなく入り込む。

続いて、駆動部３は、軸部１１を僅かに伸張させ、軸部１１の周りに回動させる。これにより、基板保持部１３は、基板Ｗを支持した状態で図１５に示す退避領域Ｅ´に基板Ｗを退避させる。

次いで、駆動部３は、図１６に示すように軸部１１を収縮させる。これにより、基板Ｗを支持する基板保持部１３が、第１の空間４ａで図１６で点線で示す中央位置に位置する。駆動部３は、軸部１１を軸の周りに回動させる。これにより、図１６で実線で示すように基板Ｗを支持する基板保持部１３がロードロック５０の下方に位置する。

次いで、駆動部３は、軸部１１を収縮させる。これにより、基板Ｗを支持する基板保持部１３は、第２の空間４ｂ内である図１７に示す基板搬送チャンバ４０の下降位置に位置する。

続いて、駆動部３は、軸部１１を軸の周りに回動させる。これにより、基板Ｗを支持する基板保持部１３は、軸の周りで旋回し、第１の開口１５及び第３の開口３１を介して基板処理部３０内に入り込む。

そして、駆動部３等は、関節アーム１２を図１８に示すように基板処理部３０内に伸張させる。これにより、基板Ｗは基板処理部３０内の所定の位置に搬送される。

（作用等）
このように本実施形態によれば、基板搬送装置２００の基板搬送チャンバ４０に第１の開口１５及び第４の開口４１が形成されており、第４の開口４１は、軸部１１の上方でかつ図１２に示すＸ方向で軸部１１を中心として第１の開口１５側とは反対側に設けられている。また、基板搬送チャンバ４０は、ロードロック５０とほぼ同じ高さに設けられた退避領域Ｅ´を備える。このため、上記第１の実施形態と同様に基板搬送装置２００の設置面積を小さくすることができると共に、図１３〜図１８に示したようにロードロック５０内の基板Ｗをスムーズに基板処理部３０内に搬送することができる。

また、基板搬送装置２００は、ステージ２１、複数の軸部２５、及び第２の駆動部２４を備える必要がない。このため、低コスト化を図ることができる。また、図１２に示すようにロードロック５０の内部には、駆動機構が設けられていないので、ロードロック５の内部での駆動機構に起因するパーティクルの発生を防止することができる。

（第３の実施の形態）
次に、本発明に係る第３の実施形態の基板搬送装置について説明する。
（基板搬送装置の構成）
図１９は本発明に係る第３の実施の形態の基板搬送装置を示す斜視図である。

基板搬送装置４００は、上記第１の実施形態の基板搬送装置１に比べて、基板搬送チャンバ４の代わりに基板搬送チャンバ４１０を備え、ロードロック５の代わりに軸方向で基板搬送チャンバ４１０の下方に設けられたロードロック４５０を備える点が異なる。
基板搬送チャンバ４１０は、第３の空間Ｅ３を形成する第３の空間形成部４１０ａと、第４の空間Ｅ４を形成する第４の空間形成部４１０ｂとを備える。

第３の空間Ｅ３は、駆動部３による軸部１１の回動による軸周りの基板保持部１３の旋回を許容する。軸部１１と側壁４１０Ｂの内面との間隔は、駆動部３による軸部１１の回動による軸周りの基板保持部１３の最小旋回半径Ｒと略同じである。

第４の空間形成部４１０ｂは、第３の空間形成部４１０ａと軸方向に連設されている。第４の空間Ｅ４は、基板保持部１３の第３の空間Ｅ３との間での移動を許容する。第４の空間形成部４１０ｂには、第３の空間形成部４１０ａの軸方向に沿った側壁４１０Ｂより軸方向に直交する方向（Ｘ方向）で軸部１１に近い位置に開口４１５が形成されている。開口４１５は、Ｘ方向で基板保持部１３の最小旋回半径Ｒより、軸部１１に近い位置に形成されている。開口４１５は、ＸＹ平面に平行な開口４１６と繋がっている。なお、この開口４１６は基板搬送チャンバ４１０に形成されていなくてもよい。

軸方向に直交する方向（図１９に示すＸ方向）での軸部１１と側壁４１０Ｂの内面との間隔は、駆動部３による軸部１１の回動による軸周りの基板保持部１３の最小旋回半径Ｒと略同じである。

つまり、第３の空間形成部４１０ａのＸ方向の一端部の上面（開口４１６の形成された面）と、第４の空間形成部４１０ｂの一端部とで段差部４１４が形成されている。段差部４１４は、基板処理部の一端部が嵌る形状を有する。

ロードロック４５０は、軸方向で基板保持部１３の最小旋回領域の一部に平面的に重なる位置であって基板搬送チャンバ４１０の底壁４１１の下側に配置されている。ロードロック４５０は、基板搬送チャンバ４１０の長さ方向（図１９に示すＸ方向）で軸部１１を中心として開口４１５側とは反対側に配置されている。
ロードロック４５０は、筺体４５１、第３の駆動部４５２、複数の軸部４５３（図２０参照）、ステージ４５４、ゲート４５５及びゲート４５６を備える。

筺体４５１は、内部にステージ４５４及び基板Ｗを収容可能な空間を形成する。第３の駆動部４５２は複数の軸部４５３を伸縮駆動する。ステージ４５４は、軸部４５３の伸縮により昇降する。ゲート４５５は、基板搬送チャンバ４１０の開口４２０を開閉する。具体的には、ゲート４５５は、開口４２０を塞ぎロードロック４５０内を密閉する。ゲート４５６は、図示しないキャリアとの間で基板Ｗの受け渡しを行うための開口を形成する。

（基板処理装置の構成）
図２０は図１９に示す基板搬送装置４００を備える基板処理装置の断面図である。

基板処理装置５００は、基板搬送装置４００の開口４１５に基板処理部３０の第３の開口３１が対応する状態で、基板搬送装置４００と基板処理部３０とが連結されて構成されている。

（基板処理装置５００の基板Ｗの搬送動作）
次に、基板処理装置５００を用いた基板Ｗの搬送動作について説明する。

図１９に示す第３の空間Ｅ３に基板保持部１３を退避させた状態で、第３の駆動部４５２は、軸部４５３を伸張させ、基板Ｗを支持するステージ４５４を、図１９に示す下降位置から第３の空間Ｅ３内の図２０に示す上昇位置まで上昇させる。駆動部３は、軸部１１を軸の周りに回動させる。これにより、第３の空間Ｅ３内で、基板保持部１３がステージ４５４と、基板Ｗとの間に入り込む。この状態で、第３の駆動部４５２は、軸部４５３を下降させる。これにより、基板保持部１３に基板Ｗが受け渡される。次いで、駆動部３は、軸部１１を伸張させる。これにより、基板保持部１３に支持された基板Ｗが、第４の空間Ｅ４内の開口４１５に対応する位置に位置する。次いで、駆動部３は、軸部１１を回動させる。これにより、図２０に示すように基板保持部１３に支持された基板Ｗが開口４１５を介して基板処理部３０内に搬送される。そして、駆動部３等は、関節アーム１２を伸張させる。これにより、基板処理部３０内の所定の位置に基板Ｗが搬送される。

（作用等）
このように本実施形態によれば、上述した第１の実施の形態と同様に基板搬送装置４００の設置面積及び基板処理装置５００の設置面積を小さくすることができると共に、軸部１１の下降の回数及び回動の回数を減少させて、より短時間に基板Ｗを搬送することができる。
なお、本発明に係る実施形態は、以上説明した実施形態に限定されず、他の種々の実施形態が考えられる。

例えば上記各実施形態では、ロードロック５を２個備える基板搬送装置１、２００、４００を例示した。しかし、これに限定されず、例えば基板搬送装置が１個、又は３個以上のロードロックを備えるようにしてもよい。例えばロードロックが１個の場合には、基板搬送装置の設置面積を容易により小さくすることができる。

上記各実施形態では、複数のロードロック５のうちの一方は、基板処理部３０での処理が未処理の基板が収容され、他方のロードロック５は、基板処理部３０での処理済みの基板が収容される例を示した。しかし、各ロードロック５の用い方はこれに限定されず、適宜変更可能である。

上記各実施形態では、基板搬送装置１、２００、４００に、それぞれ基板処理部３０を１個接続する例を示した。しかし、これに限定されず、例えば基板搬送チャンバ４等に第１の開口１５とは異なる開口を形成し、この開口に別の基板処理部を接続するようにしてもよい。これにより、更に基板搬送装置１、２００、４００の設置面積を小さくすることができると共に、各基板処理部での処理の効率を図ることができる。

上記第１の実施形態では図２に示すようにステージ２１が一段配置され、上記第３の実施形態では図１９に示すようにステージ４５４が１段配置されている例を示した。しかし、ステージの段数はこれに限定されず、例えば高さ方向（図２や図１９に示すＺ方向）に離間して設けられた多段のステージを備えるようにしてもよい。このような構成によれば、基板搬送装置の設置面積を小さくしたままで、基板の搬送効率を向上させることができる。

上記各実施形態では、基板処理部３０は、第３の開口３１を開閉可能なゲートを備えない例を示した。しかし、これに限定されず、例えば第３の開口３１を開閉可能なゲートを備える基板処理装置を設置するようにしてもよい。つまり、基板処理部３０は、基板Ｗに対して所定の処理を施すことが可能な装置であれば、特に限定されない。具体的には、基板処理部３０として、測長ＳＥＭ（Scanning Electron Microscope）、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）、スパッタ装置等を例示することができる。

上記実施形態では、ＳＣＡＲＡ型の搬送ロボット２を例示した。しかし、これに限定されず、基板搬送装置が、ＳＣＡＲＡ型の搬送ロボット２の代わりに、フログレグ型の搬送ロボットを備えるようにしてもよい。

上記第１の実施形態及び第２の実施形態では、基板搬送チャンバ４、４０の上側にロードロック５が配置され、上記第３の実施形態では、基板搬送チャンバ４１０の下側にロードロック４５０が配置されている例を示した。しかし、第１の実施形態の基板搬送チャンバ４の上側のロードロックに加えて下側にもロードロックを備えるようにしてもよい。また、第２の実施形態の基板搬送チャンバ４０の上側のロードロックに加えて下側にもロードロックを備えるようにしてもよい。また、第３の実施形態の基板搬送チャンバ４１０の下側のロードロックに加えて上側にもロードロックを備えるようにしてもよい。これにより、更に基板の搬送効率及び基板処理部でのスループットを向上させることができる。

Ｅ１…第１の空間、Ｅ２…第２の空間、Ｅ´…退避領域、Ｗ…基板、１、２００、４００…基板搬送装置、２…搬送ロボット、３…駆動部、４、４０、４１０…基板搬送チャンバ、４ａ…第１の空間形成部、４ｂ…第２の空間形成部、５、５０、４５０…ロードロック、６…制御部、１１、２５、４５３…軸部、１２…関節アーム、１２Ａ…第１のアーム、１２Ｂ…第２のアーム、１３…基板保持部、１４、４１４…段差部、１５…第１の開口、１６…第２の開口、２１、４５４…ステージ、２４…第２の駆動部、３０…基板処理部、４１…第４の開口、１００、３００、５００…基板処理装置、４１５、４２０…開口、４５２…第３の駆動部

Claims (8)

1. 第１のチャンバと、
   前記第１のチャンバ内に設けられた軸と、
   前記軸を回動させる軸駆動機構と、
   前記第１のチャンバ内に設けられ、基板を保持するための基板保持部と、
   前記軸に設けられ、前記基板保持部を支持し前記軸の軸方向に対して直交する方向に進退させる進退機構と、
   前記軸方向に前記進退機構を移動させる移動機構と、
   前記軸方向で前記第１のチャンバに近接して配置され、前記基板保持部との間で受け渡される前記基板を収容可能な第２のチャンバと
   を具備し、
   前記第１のチャンバは、
   前記軸駆動機構による前記軸の回動による前記軸周りの前記基板保持部の旋回を許容する第１の空間を形成する第１の空間形成部と、
   前記第１の空間形成部と前記軸方向に連設され、前記基板保持部の前記第１の空間との間での移動を許容する第２の空間を形成し、前記第１の空間形成部の前記軸方向に沿った第１の側壁より前記軸方向に直交する方向で前記軸に近い位置に前記直交する方向への前記基板の通過を許容する第１の開口が形成された第２の空間形成部と
   を有する
   基板搬送装置。
2. 請求項１に記載の基板搬送装置であって、
   前記第１の側面に直交する方向での前記軸と前記第１の側壁の内面との間隔は、前記軸駆動機構による前記軸の回動による前記軸周りの前記基板保持部の最小旋回半径である
   基板搬送装置。
3. 請求項２に記載の基板搬送装置であって、
   前記第２のチャンバは、前記軸方向に直交する方向で前記軸の前記第１の側壁側とは反対側で前記第１のチャンバに積層されている基板搬送装置。
4. 請求項３に記載の基板搬送装置であって、
   前記第１の空間形成部は、
   前記第２の空間形成部の上に連設され、
   前記第２のチャンバ内と前記第１の空間とを連通する第２の開口が形成された上壁を有し、
   前記第２のチャンバは、前記第２の開口に配置され当該第２のチャンバを密閉可能なステージを有し、
   当該基板搬送装置は、
   前記第２のチャンバを密閉状態にする第１の位置と、前記基板保持部との間で基板を受け渡し可能な第２の位置との間で前記ステージを昇降させる昇降駆動機構を更に具備する
   基板搬送装置。
5. 請求項４に記載の基板搬送装置であって、
   前記進退機構は、
   一端が前記軸に連結された第１のアームと、
   一端が前記第１のアームに回動自在に連結され他端が前記基板保持部側に回動自在に連結された第２のアームとを有する
   基板搬送装置。
6. 請求項５に記載の基板搬送装置であって、
   前記基板の載置された前記ステージが前記第２の位置に下降している状態で前記軸駆動機構を駆動させ前記軸を回動させることで、前記第１の空間内で前記基板保持部に前記基板を受取らせ、
   前記軸駆動機構を駆動させ前記軸を回動させることで、前記基板を受取った前記基板保持部を前記ステージから退避させ、
   前記ステージが前記第１の位置に退避した状態で前記軸駆動機構を駆動させ前記軸を回動させることで、前記基板を保持する前記基板保持部を前記ステージの下方に旋回させ、
   前記移動機構を駆動させ前記進退機構を前記軸方向に移動させることで、前記第１の空間から前記第２の空間に前記進退機構を下降させ、
   前記軸駆動機構を駆動させ前記軸を回動させることで、前記基板保持部に保持された基板を前記第１の開口内に位置させ、
   前記進退機構を駆動させ前記基板を前記第１の開口を介して進退させる
   制御部を更に具備する基板搬送装置。
7. 請求項５に記載の基板搬送装置であって、
   前記基板の載置された前記ステージが前記第２の位置に下降している状態で前記軸駆動機構を駆動させ前記軸を回動させることで、前記第１の空間内で前記基板保持部に前記基板を受取らせ、
   前記軸駆動機構を駆動させ前記軸を回動させることで、前記基板を受取った前記基板保持部を前記ステージから退避させ、
   前記ステージが前記第１の位置に退避した状態で前記軸駆動機構を駆動させ前記軸を回動させることで、前記基板を保持する前記基板保持部を前記ステージの下方に旋回させ、
   前記移動機構を駆動させ前記進退機構を前記軸方向に移動させると共に、前記軸駆動機構を駆動させ前記軸を回動させることで、前記第１の空間から前記第２の空間に前記進退機構を下降させつつ前記基板保持部に保持された基板を前記第１の開口内に位置させ、
   前記進退機構を駆動させ前記基板を前記第１の開口を介して進退させる
   制御部を更に具備する基板搬送装置。
8. 第１のチャンバと、前記第１のチャンバ内に設けられた軸と、前記軸を回動させる軸駆動機構と、前記第１のチャンバ内に設けられ、基板を保持するための基板保持部と、前記軸に設けられ、前記基板保持部を支持し前記軸の軸方向に対して直交する方向に進退させる進退機構と、前記軸方向に前記進退機構を移動させる移動機構と、前記軸方向で前記第１のチャンバに近接して配置され、前記基板保持部との間で受け渡される前記基板を収容可能な第２のチャンバとを備え、前記第１のチャンバは、前記軸駆動機構による前記軸の回動による前記軸周りの前記基板保持部の旋回を許容する第１の空間を形成する第１の空間形成部と、前記第１の空間形成部と前記軸方向に連設され、前記基板保持部の前記第１の空間との間での移動を許容する第２の空間を形成し、前記第１の空間形成部の前記軸方向に沿った第１の側壁より前記軸方向に直交する方向で前記軸に近い位置に前記直交する方向への前記基板の通過を許容する第１の開口が形成された第２の空間形成部とを有する基板搬送装置と、
   前記第１の開口に対向して設けられた第２の開口が形成され、前記第１の開口及び前記第２の開口を介して前記基板保持部により搬送された前記基板に処理を施すことが可能な基板処理部と
   を具備する基板処理装置。

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