JP2011082510A - 分子性ガラス材料を用いたトポグラフィ上の平坦化 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 リソグラフィ処理のための、分子性ガラスをベースとする平坦化組成物を開示する。プロセスは一般に、少なくとも1つの分子性ガラス及び少なくとも1つの溶媒を含む平坦化組成物を、リソグラフィ構造体を含む表面上にキャストするステップと、平坦化組成物を、少なくとも1つの分子性ガラスのガラス転移温度より高い温度に加熱するステップとを含む。例示的な分子性ガラスには、かご型シルセスキオキサン誘導体、カリックスアレーン、シクロデキストリン誘導体、及び他の非ポリマー巨大分子が含まれる。
【選択図】 図1
Description
ここで、化学式(I)は式T8 R3で表され、TはR3SiO3/2を表す。
ここで、化学式(II)は式Q8M8 R1,R2,R3で表され、QはSiO4/2を表し、MR1,R2,R3はR1,R2,R3SiO1/2を表す。
ここで、化学式(III)は式T10 R3で表され、TはR3SiO3/2を表す。
ここで、化学式(IV)は式Q10M10 R1,R2,R3で表され、QはSiO4/2を表し、MR1,R2,R3はR1,R2,R3SiO1/2を表す。
ここで、化学式(V)は式T12 R3で表され、TはR3SiO3/2を表す。
ここで、化学式(VI)は式Q12M12 R1,R2,R3で表され、QはSiO4/2を表し、MR1,R2,R3はR1,R2,R3SiO1/2を表す。
式中、R1及びR2は独立に、水素、1乃至6個の炭素原子を有する直鎖アルキル基、2乃至12個の炭素原子を有する分岐アルキル基、3乃至17個の炭素原子を有するシクロアルキル基、2乃至12個の炭素原子を有するフッ素化直鎖アルキル基、2乃至12個の炭素原子を有するフッ素化分岐アルキル基、3乃至17個の炭素原子を有するフッ素化シクロアルキル基、4乃至23個の炭素原子を有するシクロアルキル置換アルキル基、及び4乃至23個の炭素原子を有するアルキル置換シクロアルキル基から成る群から選択され、
式中、R3は、1乃至6個の炭素原子を有する直鎖アルキル基、2乃至12個の炭素原子を有する分岐アルキル基、3乃至17個の炭素原子を有するシクロアルキル基、2乃至12個の炭素原子を有するフッ素化直鎖アルキル基、2乃至12個の炭素原子を有するフッ素化分岐アルキル基、3乃至17個の炭素原子を有するフッ素化シクロアルキル基、4乃至23個の炭素原子を有するシクロアルキル置換アルキル基、及び4乃至23個の炭素原子を有するアルキル置換シクロアルキル基、脂環式アルコール、脂環式酸、脂環式エステル、フェノール、脂肪族アルコール、脂肪酸、脂肪族エステル、フッ化炭素アルコール、アミン、アミド、ビニルエーテル、及びエポキシドから成る群から選択される。
及び
式中、n=0又は1、m=0、1、又は2であり、R4はC1〜C3のアルキル基である。
式中、ηは粘度であり、η0はゼロ剪断又はニュートン粘度であり、γは剪断速度であり、λは時間単位の定数であり、nはベキ乗則指数である。
以下の特許請求の範囲における全てのミーンズ又はステップ・プラス・ファンクション(means orstep plus function)要素の対応する構造、材料、及び均等物は、その機能を、明確に特許請求されているように他の特許請求された要素と組み合わせて実行するための、いかなる構造、材料、又は均等物をも含むことが意図される。本発明の説明は、例示及び説明の目的で提示されたものであるが、網羅的であることを意図するものではなく、或は本発明を開示された形態に限定することを意図するものでもない。本発明の範囲及び趣旨から逸脱することのない多くの変更及び変形が、当業者には明白であろう。実施形態は、本発明の原理及び実際の用途を最も良く説明するため、及び、当業者が本発明を種々の変更を有する種々の実施形態について企図される特定の使用に好適なものとして理解することを可能にするために、選択及び説明された。
12:トップコート膜(非平坦膜)
12’:平坦化膜
14:表面
16:リソグラフィ構造体
18:ギャップ
20:平面
Claims (21)
- 少なくとも1つの分子性ガラス及び少なくとも1つの溶媒を含む平坦化組成物を、リソグラフィ構造体を含む表面にキャストするステップと、
前記平坦化組成物を、前記少なくとも1つの分子性ガラスのガラス転移温度より高い温度に加熱するステップと
を含むリソグラフィ・プロセス。 - 前記分子性ガラスは20℃から200℃までの範囲内のガラス転移温度を有する、請求項1に記載のリソグラフィ・プロセス。
- 前記分子性ガラスは、かご型シルセスキオキサン誘導体、カリックスアレーン、及びシクロデキストリン誘導体のうちの少なくとも1つを含む、請求項1に記載のリソグラフィ・プロセス。
- 前記平坦化組成物は、架橋成分及び熱酸発生剤をさらに含む、請求項1に記載のリソグラフィ・プロセス。
- 前記架橋成分は、エポキシ誘導体及びグリコルリル誘導体から成る群から選択される、請求項4に記載のリソグラフィ・プロセス。
- 前記熱酸発生剤は、トリフルオロメチルスルホニルオキシフタルイミド、2,4,4,6−テトラブロモシクロヘキサジエノン、ベンゾイントシレート、2−ニトロベンジルトシレート、及びアンモニウムトリフラートから成る群から選択される、請求項4に記載のリソグラフィ・プロセス。
- 前記リソグラフィ・プロセスは逆階調プロセスである、請求項1に記載のリソグラフィ・プロセス。
- 前記かご型シルセスキオキサン誘導体は、以下の化学式(I)〜(VI)から成る群から選択され、
式中R1及びR2は独立に、水素、1乃至6個の炭素原子を有する直鎖アルキル基、2乃至12個の炭素原子を有する分岐アルキル基、3乃至17個の炭素原子を有するシクロアルキル基、2乃至12個の炭素原子を有するフッ素化直鎖アルキル基、2乃至12個の炭素原子を有するフッ素化分岐アルキル基、3乃至17個の炭素原子を有するフッ素化シクロアルキル基、4乃至23個の炭素原子を有するシクロアルキル置換アルキル基、及び4乃至23個の炭素原子を有するアルキル置換シクロアルキル基から成る群から選択され、
式中R3は、1乃至6個の炭素原子を有する直鎖アルキル基、2乃至12個の炭素原子を有する分岐アルキル基、3乃至17個の炭素原子を有するシクロアルキル基、2乃至12個の炭素原子を有するフッ素化直鎖アルキル基、2乃至12個の炭素原子を有するフッ素化分岐アルキル基、3乃至17個の炭素原子を有するフッ素化シクロアルキル基、4乃至23個の炭素原子を有するシクロアルキル置換アルキル基、及び4乃至23個の炭素原子を有するアルキル置換シクロアルキル基、脂環式アルコール、脂環式酸、脂環式エステル、フェノール、脂肪族アルコール、脂肪酸、脂肪族エステル、フッ化炭素アルコール、アミン、アミド、ビニルエーテル、及びエポキシドから成る群から選択される、
請求項3に記載のリソグラフィ・プロセス。 - 前記かご型シルセスキオキサン誘導体は、化学式(II)、(IV)、(VI)から成る群から選択され、
各々の前記化学式中の少なくとも1つのR基は以下の化学式(XIII)及び(XIV)から成る群から選択され、
請求項8に記載のプロセス。 - トポグラフィ構造体を含む層をリソグラフィによりパターン化するプロセスであって、
少なくとも1つの分子性ガラス及び少なくとも1つの溶媒を含む平坦化組成物を前記パターン化する層の上にキャストするステップと、
前記平坦化組成物を、前記分子性ガラスのガラス転移温度より高い温度で塗布後ベークするステップと、
前記平坦化組成物の一部分を選択にエッチングして、前記パターン化する層の表面により画定されるトポグラフィ構造体の頂面を露出させるステップと、
前記露出したパターン化する層を平坦化組成物に対して選択的にエッチングするステップと
を含むプロセス。 - 前記少なくとも1つの分子性ガラスは20℃から200℃までの範囲のガラス転移温度を有する、請求項10に記載のプロセス。
- 前記分子性ガラスは、かご型シルセスキオキサン誘導体、カリックスアレーン、及びシクロデキストリン誘導体のうちの少なくとも1つを含む、請求項10に記載のプロセス。
- 前記平坦化組成物は、架橋成分及び熱酸発生剤をさらに含む、請求項10に記載のプロセス。
- 前記架橋成分は、エポキシ誘導体及びグリコルリル誘導体から成る群から選択される、請求項13に記載のプロセス。
- 前記熱酸発生剤は、トリフルオロメチルスルホニルオキシフタルイミド、2,4,4,6−テトラブロモシクロヘキサジエノン、ベンゾイントシレート、2−ニトロベンジルトシレート、及びアンモニウムトリフラートから成る群から選択される、請求項13に記載のプロセス。
- 前記溶媒は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、シクロヘキサノン、並びに炭化水素アルコール、例えば、1−ブタノール、2,3−ジメチル−2−ブタノール、1−ペンタノール、4−メチル−2−ペンタノール、2−エチルヘキサノール、エチレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、及び4乃至8個の炭素を有する他の炭化水素アルコールから成る群から選択される、請求項10に記載のプロセス。
- 前記塗布後ベークするステップは20℃と200℃の間で行う、請求項10に記載のプロセス。
- 以下の化学式(I)〜(VI)から成る群から選択されるかご型シルセスキオキサンであって、
式中R1及びR2は独立に、水素、1乃至6個の炭素原子を有する直鎖アルキル基、2乃至12個の炭素原子を有する分岐アルキル基、3乃至17個の炭素原子を有するシクロアルキル基、2乃至12個の炭素原子を有するフッ素化直鎖アルキル基、2乃至12個の炭素原子を有するフッ素化分岐アルキル基、3乃至17個の炭素原子を有するフッ素化シクロアルキル基、4乃至23個の炭素原子を有するシクロアルキル置換アルキル基、及び4乃至23個の炭素原子を有するアルキル置換シクロアルキル基から成る群から選択され、
式中R3は、1乃至6個の炭素原子を有する直鎖アルキル基、2乃至12個の炭素原子を有する分岐アルキル基、3乃至17個の炭素原子を有するシクロアルキル基、2乃至12個の炭素原子を有するフッ素化直鎖アルキル基、2乃至12個の炭素原子を有するフッ素化分岐アルキル基、3乃至17個の炭素原子を有するフッ素化シクロアルキル基、4乃至23個の炭素原子を有するシクロアルキル置換アルキル基、及び4乃至23個の炭素原子を有するアルキル置換シクロアルキル基、脂環式アルコール、脂環式酸、脂環式エステル、フェノール、脂肪族アルコール、脂肪酸、脂肪族エステル、フッ化炭素アルコール、アミン、アミド、ビニルエーテル、及びエポキシドから成る群から選択される、
かご型シルセスキオキサンと、
少なくとも1つの溶媒と
を含む平坦化組成物。 - 前記かご型シルセスキオキサン誘導体は、化学式(II)、(IV)、(VI)から成る群から選択され、
各々の前記化学式中の少なくとも1つのR基は以下の化学式(XIII)及び(XIV)から成る群から選択され、
請求項18に記載の平坦化組成物。 - 以下の化学式(I)〜(VI)から成る群から選択されるかご型シルセスキオキサンであって、
式中R1及びR2は独立に、水素、1乃至6個の炭素原子を有する直鎖アルキル基、2乃至12個の炭素原子を有する分岐アルキル基、3乃至17個の炭素原子を有するシクロアルキル基、2乃至12個の炭素原子を有するフッ素化直鎖アルキル基、2乃至12個の炭素原子を有するフッ素化分岐アルキル基、3乃至17個の炭素原子を有するフッ素化シクロアルキル基、4乃至23個の炭素原子を有するシクロアルキル置換アルキル基、及び4乃至23個の炭素原子を有するアルキル置換シクロアルキル基から成る群から選択され、
式中R3は、1乃至6個の炭素原子を有する直鎖アルキル基、2乃至12個の炭素原子を有する分岐アルキル基、3乃至17個の炭素原子を有するシクロアルキル基、2乃至12個の炭素原子を有するフッ素化直鎖アルキル基、2乃至12個の炭素原子を有するフッ素化分岐アルキル基、3乃至17個の炭素原子を有するフッ素化シクロアルキル基、4乃至23個の炭素原子を有するシクロアルキル置換アルキル基、及び4乃至23個の炭素原子を有するアルキル置換シクロアルキル基、脂環式アルコール、脂環式酸、脂環式エステル、フェノール、脂肪族アルコール、脂肪酸、脂肪族エステル、フッ化炭素アルコール、アミン、アミド、ビニルエーテル、及びエポキシドから成る群から選択される、
かご型シルセスキオキサンと、
架橋成分と、
熱酸発生剤と、
少なくとも1つの溶媒と
を含む平坦化組成物。 - 前記かご型シルセスキオキサン誘導体は、化学式(II)、(IV)、(VI)から成る群から選択され、
各々の前記化学式中の少なくとも1つのR基は以下の化学式(XIII)及び(XIV)から成る群から選択され、
請求項20に記載の平坦化組成物。
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