JP2011065113A - 位相シフトマスク、その製造方法及び半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】露光光を透過する基板2と、基板2上に設けられ、露光光に対する透過率が基板2よりも低く、露光光の位相をシフトさせる半透明膜3と、半透明膜の表面を覆い、露光光を透過する保護膜5と、を備えたことを特徴とする位相シフトマスクを提供する。さらに、保護膜5は、Al、Si、Ti、Hf、Zr、Cr、Ta、Y、CeおよびNiよりなる群から選択された少なくともいずれかの元素の酸化物、または、AlまたはSiの窒化物を含むことを特徴とする。
【選択図】図1
Description
また、本発明の別の一態様によれば、露光光を透過する基板の上に設けられ前記露光光に対する透過率が前記基板よりも低く前記露光光の位相をシフトさせる半透明膜の上に、前記半透明膜の表面を覆う保護膜を原子層堆積法、熱CVD法及びプラズマCVD法のいずれかを用いて形成することを特徴とする位相シフトマスクの製造方法が提供される。
また、本発明の別の一態様によれば、半導体基板上に、被加工体を形成する工程と、前記被加工体上にフォトレジスト膜を形成する工程と、上記の位相シフトマスクを介して前記露光光により前記フォトレジスト膜を露光する工程と、前記露光されたフォトレジスト膜を現像して、前記被加工体上にレジストマスクを形成する工程と、前記レジストマスクを介して前記被加工体を加工する工程と、を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法が提供される。
本実施形態に係る位相シフトマスク1は、図1に示すように、露光光を透過する基板2と、基板2上に設けられ、露光光に対する透過率が基板2よりも低く、露光光の位相をシフトさせる半透明膜と、半透明膜の表面を覆い、露光光を透過する保護膜5と、を備えている。すなわち、基板2の上に保護膜2が設けられた構成の透明領域4と、基板2上に半透明膜3および保護膜が設けられた半透明領域8と、によってマスクパターンが形成される。また、透明領域4と半透明領域8の両方に保護膜5が設けられているため、透明領域4と半透明領域8との間で、透過する露光光の位相差が変化することがない。したがって、保護膜5を形成することによる、位相シフト露光への影響は生じない。
基板2には、例えば、石英基板を用いることができる。また、半透明膜3aには、例えば、表1に示す金属や金属酸化膜、金属窒化膜などが使用できる。
図3は、例えば、シリコン基板12の表面に形成された被加工体であるシリコン酸化膜13をパターニングする工程を模式的に示す断面図である。
図5(a)に示すように、位相シフトマスク22に、波長193nmの露光光が照射される場合、透過率が高い透明領域4に照射された露光光は、位相シフトマスク22の入射面側から出射面側へ、減衰することなく透過する。一方、半透明膜3が設けられた半透明領域8においても、半透明膜3に吸収されて強度が低下するものの、位相シフトマスク22の出射面側へ透過する。
図6は、波長193nmのArFレーザ光を照射して半透明膜3を強制酸化する試験槽30を示す模式図である。
2 石英基板
3 半透明膜
4 透明領域
5 保護膜
8 半透明領域
12 シリコン基板
13 シリコン酸化膜
14 レジストマスク
23 表面酸化層
Claims (5)
- 露光光を透過する基板と、
前記基板上に設けられ、前記露光光に対する透過率が前記基板よりも低く、前記露光光の位相をシフトさせる半透明膜と、
前記半透明膜の表面を覆い、前記露光光を透過する保護膜と、
を備えたことを特徴とする位相シフトマスク。 - 前記保護膜は、Al、Si、Ti、Hf、Zr、Cr、Ta、Y、Ce及びNiよりなる群から選択された少なくともいずれかの元素の酸化物を含むことを特徴とする請求項1記載の位相シフトマスク。
- 前記保護膜は、AlまたはSiの窒化物を含むことを特徴とする請求項1記載の位相シフトマスク。
- 露光光を透過する基板の上に設けられ前記露光光に対する透過率が前記基板よりも低く前記露光光の位相をシフトさせる半透明膜の上に、
前記半透明膜の表面を覆う保護膜を原子層堆積法、熱CVD法およびプラズマCVD法のいずれかを用いて形成することを特徴とする位相シフトマスクの製造方法。 - 半導体基板上に、被加工体を形成する工程と、
前記被加工体上にフォトレジスト膜を形成する工程と、
請求項1〜3のいずれか1つに記載の位相シフトマスクを介して前記露光光により前記フォトレジスト膜を露光する工程と、
前記露光されたフォトレジスト膜を現像して、前記被加工体上にレジストマスクを形成する工程と、
前記レジストマスクを介して前記被加工体を加工する工程と、
を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法。
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