JPWO2016098237A1 - グレーティング、グレーティングの製造方法及びグレーティングの再生方法 - Google Patents
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Abstract
Description
1.概要
2.グレーティングを有するレーザ装置
2.1 レーザチャンバ
2.2 狭帯域化モジュール
2.3 出力結合ミラー
3.ALD法によって成膜された保護膜を含むグレーティング(第1の実施形態)
4.蒸着膜の上にALD法による保護膜を含むグレーティング(第2の実施形態)
5.ALD法による2つの保護膜を含むグレーティング(第3の実施形態)
6.グレーティングの再生(第4の実施形態)
7.グレーティングの再生(第5の実施形態)
8.レプリカの溝形成部材を有しないグレーティング(第6の実施形態)
9.その他(ALD法成膜装置)
狭帯域化レーザ装置における狭帯域化素子としてグレーティングが使用されてもよい。グレーティングは、表面に溝形状を有するアルミニウム金属膜の上に、MgF2などの保護膜が形成されたものでもよい。しかしながら、グレーティングが長時間にわたって真空紫外域のパルスレーザ光に曝されると、グレーティングの回折効率が低下する場合がある。例えば、グレーティングが配置されている容器中の微量の酸素が、保護膜を透過してアルミニウム金属膜の表面を酸化させる可能性がある。
なお、グレーティングの説明において、「上」とは、グレーティング基板の一方の面側から、当該一方の面と反対の面側に向かう方向を意味し得る。例えば、グレーティング基板の「上」に溝形成部材が形成されると記述した場合に、溝形成部材はグレーティング基板の上記反対の面に直接接している場合に限られず、グレーティング基板の上記反対の面側に、他の層を介して溝形成部材が形成される場合も含み得る。
図1A及び図1Bは、第1の実施形態に係るレーザ装置の構成を模式的に示す。図1Aに示されるレーザ装置は、レーザチャンバ10と、一対の放電電極11a及び11bと、狭帯域化モジュール14と、出力結合ミラー15と、を含んでもよい。レーザ装置は、図示しない増幅器に入射させるシード光をレーザ発振して出力するマスターオシレータであってもよい。
レーザチャンバ10は、例えばレアガスとしてアルゴンガス、ハロゲンガスとしてフッ素ガス、バッファガスとしてネオンガス等を含むレーザ媒質としてのレーザガスが封入されるチャンバでもよい。レーザチャンバ10の両端にはウインドウ10a及び10bが設けられてもよい。
狭帯域化モジュール14は、2つのプリズム14a及び14bと、グレーティング14cと、ホルダ16a〜−16cと、を含んでもよい。プリズム14aはホルダ16aに支持され、プリズム14bはホルダ16bに支持され、グレーティング14cはホルダ16cに支持されてもよい。
出力結合ミラー15の表面には、部分反射膜がコーティングされていてもよい。従って、出力結合ミラー15は、レーザチャンバ10のウインドウ10bから出力される光のうちの一部を透過させて出力し、他の一部を反射させてレーザチャンバ10内に戻してもよい。
図2は、本開示の第1の実施形態に係るグレーティングの一部の断面図である。第1の実施形態に係るグレーティング14cは、グレーティング基板21と、溝形成部材22と、第1のアルミニウム金属膜23と、第1の保護膜24と、を備えていてもよい。
溝形成部材22は、グレーティング基板21の上にエポキシ樹脂により形成されてもよい。溝形成部材22は、例えばグレーティング基板21の上に形成されたエポキシ樹脂層をマスターグレーティングからレプリカすることによって溝加工することにより形成されてもよい。
第1のアルミニウム金属膜23は、溝形成部材22の上に蒸着により形成されたものでもよい。
(1)第1のアルミニウム金属膜23の表面の溝形状や凹凸形状を、第1の保護膜24の表面においても忠実に再現し得る。
(2)膜厚がほぼ均一で、ピンホールの発生が抑制され得る。
(3)分子一層分の寸法オーダーで、所望の膜厚に調整し得る。
(4)アモルファスの膜を成膜し得る。
(5)低温で成膜し得る。
(6)分子一層ごとに成膜するので緻密な膜を成膜し得る。
図3は、本開示の第2の実施形態に係るグレーティングの一部の断面図である。第2の実施形態に係るグレーティング14dは、第1のアルミニウム金属膜23と、第1の保護膜24と、の間に蒸着膜25を備えている点で、第1の実施形態と異なってもよい。
他の点については、第1の実施形態と同様でよい。
図4は、本開示の第3の実施形態に係るグレーティングの一部の断面図である。第3の実施形態に係るグレーティング14eは、ALD法によって成膜された第1の保護膜24が、保護膜24aと保護膜24bとを含む点で第1の実施形態と異なってもよい。
(1)保護膜24aがSiO2を含み、保護膜24bがAl2O3を含む。
(2)保護膜24aがMgF2を含み、保護膜24bがAl2O3を含む。
(3)保護膜24aがMgF2を含み、保護膜24bがSiO2を含む。
図5A及び図5Bは、本開示の第4の実施形態に係るグレーティングの再生方法を示す工程断面図である。第4の実施形態においては、例えば、図2を参照しながら説明した第1の実施形態に係るグレーティング14cが劣化して回折効率が低下した場合に、グレーティングを再生することによって回折効率を回復可能であってもよい。
図6A〜図6Cは、本開示の第5の実施形態に係るグレーティングの再生方法を示す工程断面図である。第5の実施形態に係るグレーティングの再生方法は、第1の保護膜24を洗浄する代わりに、第1の保護膜24をエッチングする点で第4の実施形態と異なってもよい。
他の点については、第4の実施形態と同様でよい。
図7は、本開示の第6の実施形態に係るグレーティングの一部の断面図である。第6の実施形態に係るグレーティング14jは、樹脂による溝形成部材を有しない点で、第1〜第5の実施形態と異なってもよい。
図8は、上記各実施形態において用いられるALD法成膜装置の例を示す断面図である。ALD法成膜装置30は、成膜容器31と、加熱プレート32と、原料ガス供給ポート33と、原料ガス排気ポート34と、酸化剤供給ポート35と、余剰酸化剤及び反応生成物の排気ポート37と、を含んでもよい。
余剰酸化剤及び反応生成物の排気ポート37は、グレーティング表面の原料化合物と反応しなかった酸素ガスと、反応生成物との両方を排気してもよい。
(A)次に、原料ガス供給ポート33により、成膜容器31の内部にALD法による原料化合物のガスを供給してもよい。これにより、原料化合物をグレーティング基板21に吸着させてもよい。
(B)次に、原料ガス排気ポート34により、グレーティングの表面に吸着しなかった原料化合物のガスを成膜容器31の外に排気してもよい。
(D)次に、排気ポート37により、余剰酸化剤及び反応生成物を成膜容器31の外に排気してもよい。
(E)上記(A)〜(D)を1サイクルとして繰り返すことにより、1サイクルあたり一層の保護膜を形成し、所望の膜厚まで成膜し得る。
Claims (9)
- 真空紫外域の波長でレーザ装置から出力されるレーザ光を狭帯域化するためのグレーティングであって、
グレーティング基板と、
前記グレーティング基板の上に形成され、表面に溝形状を有する第1のアルミニウム金属膜と、
前記第1のアルミニウム金属膜の上にALD法により形成された第1の保護膜と、
を含むグレーティング。 - 前記グレーティング基板と前記第1のアルミニウム金属膜との間に形成された溝形成部材をさらに含む、請求項1記載のグレーティング。
- 前記第1の保護膜は、MgF2、SiO2及びAl2O3の内の少なくとも1つを含む、請求項1記載のグレーティング。
- 前記第1のアルミニウム金属膜と前記第1の保護膜との間に形成された蒸着膜をさらに含む、請求項1記載のグレーティング。
- 前記蒸着膜は、MgF2を含む、請求項4記載のグレーティング。
- 真空紫外域の波長でレーザ装置から出力されるレーザ光を狭帯域化するためのグレーティングであって、
グレーティング基板と、
前記グレーティング基板の上に形成され、表面に溝形状を有する第1のアルミニウム金属膜と、
前記第1のアルミニウム金属膜の上に形成された第1の保護膜と、
前記第1の保護膜の上に形成された第2のアルミニウム金属膜と、
前記第2のアルミニウム金属膜の上に形成された第2の保護膜と
を含むグレーティング。 - 真空紫外域の波長でレーザ装置から出力されるレーザ光を狭帯域化するためのグレーティングの製造方法であって、
グレーティング基板の上に、表面に溝形状を有する第1のアルミニウム金属膜を形成することと、
前記第1のアルミニウム金属膜の上にALD法により第1の保護膜を形成することと、
を含むグレーティングの製造方法。 - グレーティング基板と、前記グレーティング基板の上に形成され、表面に溝形状を有する第1のアルミニウム金属膜と、前記第1のアルミニウム金属膜の上に形成された第1の保護膜と、を含み、真空紫外域の波長でレーザ装置から出力されるレーザ光を狭帯域化するためのグレーティングの再生方法であって、
前記第1の保護膜の上に第2のアルミニウム金属膜を形成することと、
前記第2のアルミニウム金属膜の上に第2の保護膜を形成することと、
を含むグレーティングの再生方法。 - グレーティング基板と、前記グレーティング基板の上に形成され、表面に溝形状を有する第1のアルミニウム金属膜と、前記第1のアルミニウム金属膜の上に形成された第1の保護膜と、を含み、真空紫外域の波長でレーザ装置から出力されるレーザ光を狭帯域化するためのグレーティングの再生方法であって、
前記第1の保護膜の少なくとも一部をエッチングすることと、
前記第1のアルミニウム金属膜の上に第2のアルミニウム金属膜を形成することと、
前記第2のアルミニウム金属膜の上に第2の保護膜を形成することと、
を含むグレーティングの再生方法。
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