JP6066634B2 - エシェル型回折格子の製造方法およびエキシマレーザの製造方法 - Google Patents
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Description
0.025≦b/a≦0.400
前記取得するステップで取得した情報に基づいて、各格子のブレーズ面と格子平面とがなす角であるブレーズ角の初期値が取り得る範囲を提示するステップと、を有することを特徴とする。
本発明のエシェル型回折格子の製造方法は、複数の格子を有するエシェル型回折格子の製造方法において、紫外光を発する光源の波長の情報、前記光源からの入射光に対して設定されたブレーズ次数の情報、前記格子の繰り返しピッチの情報、前記格子の材料の情報を取得するステップと、前記取得するステップで取得した情報を用いて、前記ブレーズ次数の回折効率aとその一つ低次の回折効率bの比率である配向比b/aが以下の条件式を満足するように、各格子のブレーズ面と格子平面とがなす角であるブレーズ角の角度を決定するステップと、
0.025≦b/a≦0.400
前記ブレーズ角が該決定された角度となるようにエシェル型回折格子を製造するステップとを有することを特徴とする。
Claims (5)
- 紫外光を発する光源と、
複数の格子を有し、前記複数の格子が並ぶ断面において各格子は非対称な三角形形状を有する反射型のエシェル型回折格子と、
を有するエキシマレーザの製造方法であって、
前記光源の波長、前記波長を有する入射光に対して設定されたブレーズ次数、前記格子の繰り返しピッチ、前記格子の材料の情報、以下の条件式を満足する前記ブレーズ次数の回折効率aとその一つ低次の回折効率bの比率である配向比b/aを取得するステップと、
0.025≦b/a≦0.400
前記取得するステップで取得した情報に基づいて、各格子のブレーズ面と格子平面とがなす角であるブレーズ角の初期値が取り得る範囲を提示するステップと、
を有することを特徴とするエキシマレーザの製造方法。 - 複数の格子を有するエシェル型回折格子の製造方法において、
紫外光を発する光源の波長の情報、前記光源からの入射光に対して設定されたブレーズ次数の情報、前記格子の繰り返しピッチの情報、前記格子の材料の情報を取得するステップと、
前記取得するステップで取得した情報を用いて、前記ブレーズ次数の回折効率aとその一つ低次の回折効率bの比率である配向比b/aが以下の条件式を満足するように、各格子のブレーズ面と格子平面とがなす角であるブレーズ角の角度を決定するステップと、
0.025≦b/a≦0.400
前記ブレーズ角が該決定された角度となるようにエシェル型回折格子を製造するステップとを有することを特徴とするエシェル型回折格子の製造方法。 - 前記ブレーズ角の角度を決定するステップにおいて、前記ブレーズ角を、前記ブレーズ次数の回折効率を最大にする第1のブレーズ角よりも小さい角度に決定する、ことを特徴とする請求項2に記載の製造方法。
- 前記光源の波長は193.3nmであり、前記ブレーズ次数は96次から114次の間で設定されることを特徴とする請求項2に記載の製造方法。
- 前記光源の波長は248.4nmであり、前記ブレーズ次数は74次から89次の間で設定されることを特徴とする請求項2に記載の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012198065A JP6066634B2 (ja) | 2011-10-06 | 2012-09-10 | エシェル型回折格子の製造方法およびエキシマレーザの製造方法 |
EP20120006853 EP2579072B1 (en) | 2011-10-06 | 2012-10-02 | Echelle diffraction grating and its manufacturing method, excimer laser and its manufacturing method |
US13/633,351 US9031112B2 (en) | 2011-10-06 | 2012-10-02 | Echelle diffraction grating and its manufacturing method, excimer laser and its manufacturing method |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011222366 | 2011-10-06 | ||
JP2011222366 | 2011-10-06 | ||
JP2012198065A JP6066634B2 (ja) | 2011-10-06 | 2012-09-10 | エシェル型回折格子の製造方法およびエキシマレーザの製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013092754A JP2013092754A (ja) | 2013-05-16 |
JP2013092754A5 JP2013092754A5 (ja) | 2015-10-01 |
JP6066634B2 true JP6066634B2 (ja) | 2017-01-25 |
Family
ID=47018718
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012198065A Active JP6066634B2 (ja) | 2011-10-06 | 2012-09-10 | エシェル型回折格子の製造方法およびエキシマレーザの製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9031112B2 (ja) |
EP (1) | EP2579072B1 (ja) |
JP (1) | JP6066634B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5731811B2 (ja) * | 2010-12-15 | 2015-06-10 | キヤノン株式会社 | ブレーズ型回折格子の製造方法及びそのための型の製造方法 |
JP6032869B2 (ja) * | 2011-03-10 | 2016-11-30 | キヤノン株式会社 | ブレーズ型回折格子 |
DE102011015141A1 (de) * | 2011-03-16 | 2012-09-20 | Carl Zeiss Laser Optics Gmbh | Verfahren zum Herstellen eines reflektiven optischen Bauelements für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage und derartiges Bauelement |
JP6362364B2 (ja) * | 2014-03-10 | 2018-07-25 | キヤノン株式会社 | 回折格子、および回折格子の製造方法 |
JP6534398B2 (ja) * | 2014-12-18 | 2019-06-26 | ギガフォトン株式会社 | グレーティング、グレーティングの製造方法及びグレーティングの再生方法 |
JP6695550B2 (ja) * | 2016-10-11 | 2020-05-20 | 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 | ラミナー型回折格子 |
KR101923821B1 (ko) * | 2017-06-05 | 2018-11-29 | 국방과학연구소 | 유전체 다층박막 회절격자의 설계방법 |
JP2018139300A (ja) * | 2018-04-09 | 2018-09-06 | キヤノン株式会社 | レーザ装置、および分光方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07261010A (ja) * | 1994-03-18 | 1995-10-13 | Shimadzu Corp | レプリカ回折格子 |
US6511703B2 (en) * | 1997-09-29 | 2003-01-28 | Cymer, Inc. | Protective overcoat for replicated diffraction gratings |
US20010003035A1 (en) * | 1998-09-10 | 2001-06-07 | Robert G. Ozarski | Diffraction grating and fabrication technique for same |
US6067197A (en) * | 1998-12-23 | 2000-05-23 | Spectronic Instruments, Inc. | Difraction grating having enhanced blaze performance at two wavelengths |
DE10025694C2 (de) * | 2000-05-24 | 2003-06-05 | Zeiss Carl | Verwendung eines Beugungsgitters |
DE10158638A1 (de) * | 2001-11-29 | 2003-06-26 | Zeiss Carl Laser Optics Gmbh | Optische Anordnung, Littrow-Gitter zur Verwendung in einer optischen Anordnung sowie Verwendung eines Littrow-Gitters |
JP4475501B2 (ja) * | 2003-10-09 | 2010-06-09 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション | 分光素子、回折格子、複合回折格子、カラー表示装置、および分波器 |
DE102007032371A1 (de) | 2007-07-06 | 2009-01-15 | Carl Zeiss Laser Optics Gmbh | Verfahren zum Beschichten eines optischen Bauelements für eine Laseranordnung |
DE102009031688B4 (de) * | 2009-06-26 | 2013-12-24 | Carl Zeiss Laser Optics Gmbh | Verfahren zum Bestimmen eines Beugungsgitters |
JP5637702B2 (ja) * | 2010-03-09 | 2014-12-10 | キヤノン株式会社 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
-
2012
- 2012-09-10 JP JP2012198065A patent/JP6066634B2/ja active Active
- 2012-10-02 US US13/633,351 patent/US9031112B2/en active Active
- 2012-10-02 EP EP20120006853 patent/EP2579072B1/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2579072A2 (en) | 2013-04-10 |
EP2579072A3 (en) | 2013-04-17 |
US9031112B2 (en) | 2015-05-12 |
JP2013092754A (ja) | 2013-05-16 |
US20130089118A1 (en) | 2013-04-11 |
EP2579072B1 (en) | 2014-07-16 |
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