JP2011063712A - Surface protective film - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a surface protective film inhibiting the generation of static electricity itself on peeling and capable of inhibiting the soiling of an adherend by peeling electrostatic charge and the generation of hindrance caused by spark, etc., by the peeling electrostatic charge, even in the cases of applying the surface protective film on a hard coat treatment by using a fluorine-containing compound or silicon-containing compound, or on a functional layer formed by a low reflection treatment or an anti-fouling treatment as the adherend. <P>SOLUTION: This surface protective film pasted on the adherend by taking the functional layer formed by the treatment using the fluorine-containing compound or silicon-containing compound as the adherend is provided by having an adhesive layer formed on the substrate film surface and at least adding an antistatic agent and >0.005 and <5 pts.mass range compound containing fluorine or silicon in its structure from outside based on 100 pts.mass acrylic adhesive, to the acrylic adhesive constituting the adhesive layer. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、表面に機能性層が設けられた被着体に対しても優れた帯電防止性を有し、被着体汚染が少ない表面保護フィルムに関する。   The present invention relates to a surface protective film having excellent antistatic properties even on an adherend having a functional layer provided on the surface thereof, and less adherend adherent contamination.

近年、フラットパネルディスプレイ分野では、タッチパネルディスプレイにおける耐水・耐油適性の向上に対する要求や、大型テレビ等に応用されている液晶ディスプレイやプラズマディスプレイにおける表面の乱反射防止・防汚適性・耐擦過性等への要求から、表面に機能性層が積層されてなる製品が増えてきている。例えば、含フッ素化合物や含ケイ素化合物を表面に塗布したハードコート(HC)層を設けた偏光板や、低反射層を備えた反射防止(Anti Reflection:ARと略)フィルム、さらに、低反射層を備え且つアンチグレア処理(AG;防眩処理)が施されたAGLR(Anti Glare Low Reflection)偏光板等があり、目的に応じて適宜に選択され、広範に用いられている。より具体的には、例えば、タッチパネル用途の場合、パネル表面の傷つき防止のためにハードコート層を設けるが、同時に耐水性や指紋付着低減(防汚)の目的から含フッ素化合物や含ケイ素化合物を含んだ塗膜を設けたもの等が広く用いられている。また、ARフィルムは、反射率の低減と防汚性を兼ね備えたものであり、例えば、プラズマディスプレイの前面フィルターなどに使用されている。   In recent years, in the flat panel display field, there has been a demand for improvement in water resistance and oil resistance in touch panel displays, as well as surface reflection prevention, antifouling suitability, and scratch resistance in liquid crystal displays and plasma displays applied to large-sized televisions and the like. Due to demand, products having functional layers laminated on the surface are increasing. For example, a polarizing plate provided with a hard coat (HC) layer coated with a fluorine-containing compound or a silicon-containing compound on its surface, an antireflection (Anti Reflection: AR) film provided with a low reflection layer, and a low reflection layer And an anti-glare treatment (AG; anti-glare treatment) AGLR (Anti Glare Low Reflection) polarizing plate, etc., which are appropriately selected according to the purpose and are widely used. More specifically, for example, in the case of touch panel applications, a hard coat layer is provided to prevent scratches on the panel surface. At the same time, fluorine-containing compounds and silicon-containing compounds are added for the purpose of water resistance and fingerprint adhesion reduction (antifouling). The thing provided with the coating film containing is widely used. Further, the AR film has both reflectance reduction and antifouling properties, and is used for, for example, a front filter of a plasma display.

そして、これらの製品の、製造・運搬・販売等の工程で生じるおそれのある、これらの機能性層が設けられている表面部分の傷つきや汚染等を防止する目的で、製品の表面(被着体)の上に、さらに、再剥離性の粘着剤が塗布された表面保護フィルム(粘着フィルム)を貼付することが広く行われている。表面保護フィルムは、使用時等に被着体(製品)から容易に且つ一体的に剥離されるが、剥離する際に静電気が発生し、表面保護フィルム及び被着体に、互いに反対の極性を有する電荷として帯電する、いわゆる剥離帯電を生じる。この剥離帯電は、空気中のほこり等を引きよせて製品に汚染を生じる原因となるばかりでなく、製品の用途によっては、剥離帯電に起因するスパーク等により電子回路の破壊等の障害が発生する危険性もある。このため、表面保護フィルム用の粘着剤には、帯電防止機能、とりわけ保護フィルム剥離時の帯電圧(量)が低いことが求められている。具体的な手段として、従来より、機能性層を設ける基材表面に帯電防止剤を塗布することや、保護フィルムの粘着剤中に、界面活性剤、アルカリ金属塩、イオン性液体などの帯電防止剤を添加することが行われている。基材層と粘着剤層とからなる粘着フィルムにおいて、粘着フィルムと被着体の剥離帯電性を良好な状態に調整する方法についての提案もある(特許文献1参照)。すなわち、該文献では、粘着主剤以外の粘着剤層の帯電順位を変化させ得る低分子量成分を粘着剤層に含有させる際に、その添加量を、JISに準拠して剥離帯電量を測定した場合の被着体の帯電量が10nC以下であるように調整すれば、剥離する際に発生する剥離帯電の小さなフィルムが容易に得られるとしている。   For the purpose of preventing scratches and contamination of the surface portion on which these functional layers are provided, which may occur in the manufacturing, transportation and sales processes of these products, In addition, a surface protective film (adhesive film) coated with a releasable adhesive is widely applied on the body. The surface protection film is easily and integrally peeled off from the adherend (product) during use, etc., but static electricity is generated at the time of peeling, and the surface protection film and the adherend have opposite polarities. So-called peeling electrification, which is charged as the charge it has, occurs. This peeling charge not only causes dust in the air to cause contamination of the product, but depending on the use of the product, a failure such as a breakdown of the electronic circuit occurs due to a spark caused by the peeling charge. There is also danger. For this reason, the pressure-sensitive adhesive for the surface protective film is required to have a low antistatic function, particularly a low charged voltage (amount) when the protective film is peeled off. As a specific means, conventionally, an antistatic agent is applied to the surface of the base material on which the functional layer is provided, or an antistatic agent such as a surfactant, an alkali metal salt or an ionic liquid is used in the adhesive of the protective film. An agent is added. There is also a proposal for a method for adjusting the peel chargeability of an adhesive film and an adherend to a good state in an adhesive film composed of a base material layer and an adhesive layer (see Patent Document 1). That is, in this document, when a low molecular weight component that can change the charging order of the pressure-sensitive adhesive layer other than the pressure-sensitive adhesive agent is contained in the pressure-sensitive adhesive layer, the amount of addition is measured when the peel charge amount is measured according to JIS. If the charge amount of the adherend is adjusted to be 10 nC or less, a film having a small peeling charge generated when peeling is easily obtained.

特開2003−147296号公報JP 2003-147296 A

しかしながら、上記従来技術は、対象とするフィルムが、良好な剥離帯電性を示すか否かの検証には役立つものの、剥離帯電は、被着体(機能層)と粘着剤層との兼ね合いで生じるものであり、種々の材料からなる被着体のそれぞれに対して最適な表面保護フィルムを得るためには、被着体毎に検討を要し、表面保護フィルムの粘着剤層に含有させる最適な構成とすることは容易ではない。本発明者らの検討によれば、特に、近年、多用されている、含フッ素化合物又は含ケイ素化合物を利用して表面に機能性を付与してなる機能層を備えた、ハードコート(HC)偏光板や、前記したARフィルムやAGLR偏光板等の被着体に対しては、従来の表面保護フィルムでは剥離帯電を低く抑えることができず、このような被着体に対しても最適な表面保護フィルム(粘着フィルム)を開発することが急務であるとの認識を持つに至った。   However, although the above prior art is useful for verifying whether or not the target film exhibits good release chargeability, the release charge occurs due to the balance between the adherend (functional layer) and the pressure-sensitive adhesive layer. In order to obtain an optimum surface protection film for each of the adherends made of various materials, it is necessary to examine each adherend, and the optimum content to be contained in the adhesive layer of the surface protection film is required. It is not easy to configure. According to the study by the present inventors, in particular, a hard coat (HC) provided with a functional layer obtained by imparting functionality to the surface using a fluorine-containing compound or a silicon-containing compound, which has been frequently used in recent years. For adherends such as polarizing plates and the above-mentioned AR films and AGLR polarizing plates, conventional surface protection films cannot suppress the peeling charge to a low level, and are optimal for such adherends. Recognized that it was an urgent need to develop a surface protective film (adhesive film).

したがって、本発明の目的は、表面保護フィルムを、特に、含フッ素化合物又は含ケイ素化合物を用いてハードコート処理した機能性層、或いは、これらの化合物によって低反射もしくは防汚処理した機能性層を表面に有するいずれの被着体に適用した場合にも、剥離の際における静電気の発生自体を抑制でき、剥離帯電による被着体汚染や、剥離帯電に起因するスパーク等により電子回路の破壊等の障害の発生を抑制することができる、実用価値の高い表面保護フィルムを提供することにある。   Therefore, an object of the present invention is to provide a functional layer obtained by subjecting a surface protective film to a hard coat treatment using a fluorine-containing compound or a silicon-containing compound, or a functional layer subjected to a low reflection or antifouling treatment using these compounds. When applied to any adherend on the surface, generation of static electricity at the time of peeling can be suppressed, and contamination of the adherend due to peeling electrification, destruction of electronic circuits due to sparks caused by peeling charging, etc. An object of the present invention is to provide a surface protection film having a high practical value and capable of suppressing the occurrence of obstacles.

上記の課題は、以下の本発明によって達成される。すなわち、本発明は、含フッ素化合物又は含ケイ素化合物を用いての処理によって形成された機能性層を被着体とし、該被着体に貼付される表面保護フィルムであって、基材フィルム表面に形成した粘着剤層を有し、該粘着剤層を構成するアクリル系粘着剤に、少なくとも、帯電防止剤と、アクリル系粘着剤100質量部に対して0.005質量部よりも多く、5質量部よりも少ない範囲で、その構造中にフッ素或いはケイ素を含有する化合物を外添されてなることを特徴とする表面保護フィルムを提供する。   Said subject is achieved by the following this invention. That is, the present invention provides a surface protective film to be adhered to a functional layer formed by treatment with a fluorine-containing compound or a silicon-containing compound, and is attached to the adherend. The acrylic adhesive that forms the adhesive layer has at least an antistatic agent and more than 0.005 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acrylic adhesive. Provided is a surface protective film characterized in that a compound containing fluorine or silicon is externally added to the structure in a range smaller than the mass part.

好ましい形態としては、下記のものが挙げられる。その構造中にフッ素或いはケイ素を含有する化合物が、ポリエーテル変性ポリオルガノシロキサン、含フッ素アルキル基含有のフッ素系界面活性剤、その構造中にフッ素或いはケイ素を含有するアクリル系ポリマー、のいずれかから選択される上記表面保護フィルム。その構造中にフッ素或いはケイ素を含有する化合物が、アクリル系粘着剤100質量部に対して、0.05〜4質量部の範囲で、且つ、前記帯電防止剤が、アクリル系粘着剤100質量部に対して、0.1〜3質量部の範囲で外添されている上記表面保護フィルム。前記被着体が、偏光板の表面に形成されている上記表面保護フィルム。   Preferred forms include the following. The compound containing fluorine or silicon in the structure is selected from the group consisting of a polyether-modified polyorganosiloxane, a fluorine-containing alkyl group-containing fluorosurfactant, and an acrylic polymer containing fluorine or silicon in the structure. The surface protective film selected. The compound containing fluorine or silicon in the structure is in the range of 0.05 to 4 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acrylic adhesive, and the antistatic agent is 100 parts by mass of the acrylic adhesive. The surface protective film is externally added in the range of 0.1 to 3 parts by mass. The said surface protection film in which the said to-be-adhered body is formed in the surface of a polarizing plate.

本発明によれば、表面保護フィルムを貼付する被着体が、特に、含フッ素化合物又は含ケイ素化合物を用いてのハードコート処理、或いは、これらの化合物によって低反射処理もしくは防汚処理して形成された機能性層である場合にも、剥離の際における静電気の発生自体が抑制され、剥離帯電による被着体汚染や、剥離帯電に起因するスパーク等により電子回路の破壊等の障害の発生を抑制することができる優れた表面保護フィルムが提供される。この結果、表面保護フィルムを施した製品の商品価値を損なうことがなく、その高い品質を確実に保護することができる。   According to the present invention, the adherend to which the surface protective film is stuck is formed by, particularly, a hard coat treatment using a fluorine-containing compound or a silicon-containing compound, or a low reflection treatment or an antifouling treatment with these compounds. Even in the case of a functional layer, the occurrence of static electricity during peeling is suppressed, and adherence contamination due to peeling electrification, and the occurrence of failures such as destruction of electronic circuits due to sparks caused by peeling charging, etc. An excellent surface protective film that can be suppressed is provided. As a result, the high quality can be reliably protected without impairing the commercial value of the product provided with the surface protective film.

剥離試験の模式図である。It is a schematic diagram of a peeling test. 実施例の結果を示す図である。It is a figure which shows the result of an Example. 比較例の結果を示す図である。It is a figure which shows the result of a comparative example. 実施例の結果を示す図である。It is a figure which shows the result of an Example. 実施例及び比較例の結果を示す図である。It is a figure which shows the result of an Example and a comparative example.

次に、発明を実施するための最良の形態を挙げて本発明をさらに詳しく説明する。本発明者らは、特に、含フッ素化合物又は含ケイ素化合物を用いて処理することで表面に機能性層が形成されている、ハードコート(HC)偏光板、低反射性や防汚性を付与したAR偏光板やAGLR偏光板のいずれにも適用できる最適な表面保護フィルムについて鋭意検討した結果、これらの被着体(機能性層)に対しては、従来の表面保護フィルムでは不十分であり、この場合には、静電気の発生自体の低減が十分になされず、むしろ増大することがわかった。本発明者らは、上記した場合に、発生する静電気量が低減できない理由を、偏光板表面がフッ素化合物或いはケイ素化合物で覆われたことで、帯電列における被着体と粘着剤の差が広がったため、剥離の際に、発生する静電気量が増大したものと考えている。この場合に、例えば、粘着剤層中に、界面活性剤のようなものを含有させることで、粘着剤と被着体との界面にブリードアウトさせて剥離帯電を低く抑える方法もある。しかし、この方法では、粘着剤層中に多量に界面活性剤を添加する必要があるが、剥離力の低下や、剥離後に深刻な被着体汚染をもたらすので適当な方法ではない。   Next, the present invention will be described in more detail with reference to the best mode for carrying out the invention. In particular, the present inventors provide a hard coat (HC) polarizing plate having a functional layer formed on the surface by treatment with a fluorine-containing compound or a silicon-containing compound, and imparts low reflectivity and antifouling properties. As a result of intensive studies on the optimum surface protective film applicable to both the AR polarizing plate and the AGLR polarizing plate, conventional surface protective films are insufficient for these adherends (functional layers). In this case, it was found that the generation of static electricity itself is not sufficiently reduced but rather increased. In the above case, the present inventors have explained why the amount of static electricity generated cannot be reduced, because the surface of the polarizing plate is covered with a fluorine compound or a silicon compound, so that the difference between the adherend and the adhesive in the charged column is widened. For this reason, it is considered that the amount of static electricity generated during peeling increased. In this case, for example, there is a method of keeping the peeling charge low by causing the pressure-sensitive adhesive layer to contain a surfactant or the like to bleed out to the interface between the pressure-sensitive adhesive and the adherend. However, in this method, it is necessary to add a large amount of a surfactant to the pressure-sensitive adhesive layer, but this is not an appropriate method because it causes a decrease in peeling force and serious adherend contamination after peeling.

これに対し、本発明者らは、表面保護フィルムを構成する粘着剤層を、アクリル系粘着剤に、帯電防止剤に加え、さらに、その構造中にフッ素或いはケイ素を有する化合物を添加することが、表面の含フッ素化合物又は含ケイ素化合物を用いて処理した機能性層を被着体とする場合に、剥離した際における静電気の発生自体を抑制する手段として有効であることを見出して本発明に至った。より具体的には、その構造中にフッ素或いはケイ素を含有する化合物として、ポリエーテル変性ポリオルガノシロキサンや、含フッ素アルキル基含有の、カチオン系、アニオン系、ノニオン系の、各フッ素系界面活性剤や、その構造中にフッ素やケイ素を含有するアクリル系ポリマーを粘着剤層中に含有させることが有効であることを見出した。   On the other hand, the present inventors may add a pressure-sensitive adhesive layer constituting a surface protective film to an acrylic pressure-sensitive adhesive, an antistatic agent, and further add a compound having fluorine or silicon in its structure. In the present invention, the functional layer treated with a fluorine-containing compound or silicon-containing compound on the surface is used as an adherend, and is found to be effective as a means for suppressing the generation of static electricity upon peeling. It came. More specifically, as a compound containing fluorine or silicon in the structure, polyether-modified polyorganosiloxane, fluorine-containing alkyl group-containing cationic surfactants, anionic surfactants, nonionic surfactants In addition, the inventors have found that it is effective to include an acrylic polymer containing fluorine or silicon in the structure in the pressure-sensitive adhesive layer.

本発明者らは、本発明の構成によって前記した優れた効果が得られる理由を下記のように考えている。すなわち、粘着剤層中に、その構造中にフッ素或いはケイ素を有する化合物を添加させた結果、該粘着剤層と、被着体となる、含フッ素化合物又は含ケイ素化合物を用いて処理することで表面に形成された機能性層との帯電列の差が縮まり、剥離の際に発生する静電気量を抑えることが可能となったためと考えている。さらに詳しくは、帯電列順位では、(プラスに帯電)アクリル樹脂>シリコン樹脂>フッ素樹脂(マイナスに帯電)であるため、アクリル樹脂とシリコン樹脂との剥離帯電では、アクリル樹脂がプラスに、シリコン樹脂がマイナスに、それぞれ帯電する。一方、シリコン樹脂とフッ素樹脂[例えば、テフロン(登録商標)]との剥離帯電では、シリコン樹脂がプラスに、フッ素樹脂がマイナスに帯電する。このように、シリコン樹脂は相手次第で、プラスにもマイナスにも帯電される。本発明者らは、このため、粘着剤層中に、その構造中にフッ素或いはケイ素を有する化合物を添加させることで、発生する電荷が容易に中和され、結果として剥離帯電を低くできたのではないかと考えている。特に、剥離する物質或いは剥離される物質の帯電列の中間に位置する第三物質が存在する場合に、剥離帯電が低くなる可能性があると考えられるが、本発明で好ましく使用する、ポリエーテル変性ポリオルガノシロキサン、含フッ素アルキル基含有のフッ素系界面活性剤、その構造中にフッ素或いはケイ素を含有するアクリル系ポリマーを添加したことによって、同様の効果が発揮されたものと推論される。上記のことは、AG処理だけを施した偏光板に対しては、帯電防止剤だけの添加でも剥離帯電を下げることができ、従来の表面保護フィルムによっても対応できたのに対し、近年、多用されている、含フッ素化合物又は含ケイ素化合物を利用して表面に機能性を付与してなる機能層を備えた、ハードコート(HC)偏光板等に対しては、従来の表面保護フィルムでは剥離帯電を低く抑えることができなかった事実とも一致する。すなわち、本発明は、従来の表面保護フィルム製品では不十分であった、含フッ素化合物又は含ケイ素化合物を用いての処理によって形成された機能性層を被着体とし、該被着体に貼付するための表面保護フィルムとして特に有用である。   The present inventors consider the reason why the above-described excellent effect can be obtained by the configuration of the present invention as follows. That is, as a result of adding a compound having fluorine or silicon in its structure to the pressure-sensitive adhesive layer, the pressure-sensitive adhesive layer and a fluorine-containing compound or silicon-containing compound that becomes an adherend are treated. This is considered to be because the difference in the charge train with the functional layer formed on the surface is reduced, and the amount of static electricity generated at the time of peeling can be suppressed. More specifically, in the charge row order, (plus charge) acrylic resin> silicon resin> fluorine resin (minus charge), the acrylic resin is plus in the peeling charge between the acrylic resin and the silicon resin, and the silicon resin Are negatively charged. On the other hand, in the peeling charging between the silicon resin and the fluororesin [for example, Teflon (registered trademark)], the silicon resin is positively charged and the fluororesin is negatively charged. Thus, the silicon resin is charged positively or negatively depending on the other party. For this reason, the inventors of the present invention could easily neutralize the generated charge by adding a compound having fluorine or silicon in the structure to the pressure-sensitive adhesive layer, and as a result, the peel charge could be lowered. I think that. In particular, when there is a substance to be peeled or a third substance located in the middle of the charge train of the substance to be peeled, it is considered that the peeling charge may be lowered, but the polyether preferably used in the present invention It is inferred that the same effect was exhibited by adding a modified polyorganosiloxane, a fluorine-containing alkyl group-containing fluorosurfactant, and an acrylic polymer containing fluorine or silicon in the structure. For the polarizing plate that has been subjected to AG treatment only, the addition of an antistatic agent alone can lower the peeling charge, and the conventional surface protective film can cope with it. For conventional hard coat (HC) polarizing plates equipped with a functional layer formed by imparting functionality to the surface using a fluorine-containing compound or silicon-containing compound, the conventional surface protective film peels off. This is consistent with the fact that the charge could not be kept low. That is, the present invention uses a functional layer formed by treatment with a fluorine-containing compound or a silicon-containing compound, which has been insufficient for conventional surface protective film products, as an adherend, and is applied to the adherend. It is particularly useful as a surface protective film for the purpose.

本発明者らの検討によれば、特に、アクリル系粘着剤に、ポリエーテル変性ポリオルガノシロキサンや、含フッ素アルキル基含有の、カチオン系、アニオン系、ノニオン系の、各フッ素系界面活性剤等と、帯電防止剤とを併用して粘着剤層を形成することで、剥離の際に発生する静電気が速やかに除電され、より優れた帯電防止効果が発揮されることがわかった。先の推論に基づくと、その構造中にフッ素或いはケイ素を有する化合物を粘着剤層中に添加した場合は、発生する静電気量を少なくする効果があり(しかし、発生した電荷を中和する効果には乏しい)、一方、イオン液体などの帯電防止剤の添加は、少量発生した電荷の中和に有効に働くと考えられる。本発明で対象とする被着体となる前記した機能性層の場合は、発生する静電気量が大きすぎ、常識的な帯電防止剤の添加量では電荷中和能を超えてしまい、従来の保護フィルムでは剥離帯電を低く抑えることができなかったものと考えられる。一方、帯電防止剤の添加量を多くすることは、被着体汚染という別の問題を生ずるため、有効な解決策とはならない。   According to the study by the present inventors, in particular, acrylic pressure-sensitive adhesives, polyether-modified polyorganosiloxane, fluorine-containing alkyl group-containing cationic, anionic and nonionic fluorine-based surfactants, etc. It was found that by forming a pressure-sensitive adhesive layer in combination with an antistatic agent, static electricity generated at the time of peeling is quickly eliminated and a more excellent antistatic effect is exhibited. Based on the above reasoning, when a compound having fluorine or silicon in its structure is added to the pressure-sensitive adhesive layer, it has the effect of reducing the amount of static electricity generated (but is effective in neutralizing the generated charge). On the other hand, the addition of an antistatic agent such as an ionic liquid is considered to work effectively to neutralize a small amount of generated charge. In the case of the above-described functional layer that is an adherend to be used in the present invention, the amount of static electricity generated is too large, and the amount of common antistatic agent added exceeds the charge neutralization ability, which is a conventional protection. It is considered that the film was not able to keep the peeling charge low. On the other hand, increasing the addition amount of the antistatic agent causes another problem of adherend contamination, and is not an effective solution.

本発明者らの検討によれば、中でも、その構造中にケイ素を含有する化合物よりも、その構造中にフッ素を含有する化合物を添加させた方が、よりバランスのよい効果が得られるので好ましい。また、本発明の構成によれば、添加剤の全体としての使用量を少なくできるため、添加剤を含有させたことによって生じるおそれのある剥離力の低下が少なく、被着体汚染も極めて少ないことがわかった。被着体汚染を少なくできれば、剥離後の被着体の商品価値を下げることがなくなる。また、剥離力の低下を少なくできれば、例えば、パネル製造工程で、うち抜き、加圧・加熱処理を行っても、保護フィルムの浮きや剥がれが発生しなくなるので、製品の保護をより確実に行うことができる。   According to the study by the present inventors, among them, it is preferable to add a compound containing fluorine in the structure rather than a compound containing silicon in the structure because a more balanced effect is obtained. . In addition, according to the configuration of the present invention, since the amount of the additive used as a whole can be reduced, there is little decrease in peeling force that may occur due to the inclusion of the additive, and there is very little contamination of the adherend. I understood. If contamination of the adherend can be reduced, the commercial value of the adherend after peeling will not be lowered. In addition, if the decrease in the peel force can be reduced, for example, even in the panel manufacturing process, even if the punching, pressurizing and heating processes are performed, the protective film will not be lifted or peeled off, so the product will be protected more reliably. be able to.

さらに、本発明者らの検討によれば、特に、アクリル系粘着剤に、例えば、フルオロアルキル基含有アクリルポリマー等の、その構造中にフッ素やケイ素を含有するアクリル系ポリマーを添加する構成とすれば、被着体と粘着剤の帯電列の差を縮め、発生する静電気量を抑えることに加えて、下記のような効果が得られる。上記添加剤と粘着剤層のベースとなるポリマーとは、いずれもアクリル系成分同士のブレンドであるため、相溶性が悪いことに起因する塗膜の不透明化や、界面へのマイグレーションを少なくできる。さらに、必要に応じ、フルオロアルキル基含有アクリルポリマー等に官能基を持たせ、硬化剤で架橋するようにすれば、被着体汚染の低減をさらに大幅に改善することができる。また、この場合も剥離力の低下が少ないため、剥離バランスが良好な表面保護フィルムを得ることができる。また、前記したように、被着体汚染を少なくできれば、剥離後の被着体の商品価値を下げることがなくなる。さらに、剥離力の低下を少なくできれば、例えば、パネル製造工程で、うち抜き、加圧・加熱処理を行っても、保護フィルムの浮きや剥がれが発生しなくなるので、製品の保護をより確実に行うことができる。   Further, according to the study by the present inventors, in particular, the acrylic pressure-sensitive adhesive is configured such that an acrylic polymer containing fluorine or silicon in its structure, such as a fluoroalkyl group-containing acrylic polymer, is added. For example, the following effects can be obtained in addition to reducing the difference between the charged columns of the adherend and the adhesive and suppressing the amount of static electricity generated. Since the additive and the polymer serving as the base of the pressure-sensitive adhesive layer are both blends of acrylic components, it is possible to reduce opacification of the coating film due to poor compatibility and migration to the interface. Furthermore, if necessary, a fluoroalkyl group-containing acrylic polymer or the like is provided with a functional group and crosslinked with a curing agent, so that the reduction of adherend contamination can be further greatly improved. Also in this case, since the decrease in the peeling force is small, a surface protective film having a good peeling balance can be obtained. Further, as described above, if the adherend contamination can be reduced, the commercial value of the adherend after peeling will not be lowered. Furthermore, if the decrease in the peel force can be reduced, for example, even if the panel manufacturing process is performed by removing, pressing and heating, the protective film will not be lifted or peeled off, so the product can be protected more reliably. be able to.

本発明の表面保護フィルムを構成する粘着剤層の形成材料である、ベースとなるポリマー、これに添加する、その構造中にフッ素或いはケイ素を有する化合物、帯電防止剤、必要に応じて使用する硬化剤(架橋剤)等について説明する。   A base polymer that is a material for forming the pressure-sensitive adhesive layer constituting the surface protective film of the present invention, a compound added to this, a compound having fluorine or silicon in its structure, an antistatic agent, and a curing used as necessary The agent (crosslinking agent) will be described.

(ベースポリマー)
本発明では、粘着剤のベースポリマーとして、アクリル系樹脂を用いる。本発明に好適なアクリル系共重合体は、アルキレンオキサイド基を有するアクリルモノマー(以下、AO基含有モノマーと呼ぶ)及び水酸基を含有するアクリルモノマー(以下、OH基含有モノマーと呼ぶ)を含むモノマーを、適宜に選択し共重合することで得ることができる。例えば、反応に使用する全モノマー中におけるAO基含有モノマーの含有率が1〜50%程度、より好ましくは5〜20%、OH基含有モノマーの含有率が0.1〜10%程度、より好ましくは0.5〜5%となるような質量比率で共重合させるとよい。
(Base polymer)
In the present invention, an acrylic resin is used as the base polymer of the pressure-sensitive adhesive. An acrylic copolymer suitable for the present invention includes a monomer including an acrylic monomer having an alkylene oxide group (hereinafter referred to as an AO group-containing monomer) and an acrylic monomer having a hydroxyl group (hereinafter referred to as an OH group-containing monomer). It can be obtained by appropriately selecting and copolymerizing. For example, content of 1 to 50% of the AO group-containing monomer in the total monomer in used in the reaction, more preferably 5-20%, the content of the OH group-containing monomer is about 0.1 to 10%, more preferably Is preferably copolymerized at a mass ratio of 0.5 to 5%.

より具体的には、側鎖炭素数が1〜18の(メタ)アクリル酸エステルをベースとして、これに、アルキレンオキサイド基を持つ(メタ)アクリル酸エステル及び水酸基含有(メタ)アクリル酸エステルのモノマーを、上記の範囲で使用して共重合体を得る。上記において使用できる具体的なモノマーとしては、特に限定されるものではないが、例えば、ラウリルメタクリレート(LMA)、2−プロピルヘプチルアクリレート(2PHA)、2−エチルヘキシルアクリレート(2EHA)、ブチルアクリレート(BA)、エチルアクリレート(EA)、メチルアクリレート(MA)、#400メトキシポリエチレングリコールモノメタクリレート[MPEGMM(#400)]、#200メトキシポリエチレングリコールモノアクリレート[MPEGMA(#200)]、2−ヒドロキシエチルアクリレート(2HEA)、4−ヒドロキシブチルメタクリレート(4HBA)が挙げられ、適宜に組み合わせて使用することができる。   More specifically, a (meth) acrylic acid ester having 1 to 18 side chain carbon atoms and a (meth) acrylic acid ester having an alkylene oxide group and a hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid ester monomer are included. In the above range to obtain a copolymer. Specific monomers that can be used in the above are not particularly limited, and examples thereof include lauryl methacrylate (LMA), 2-propylheptyl acrylate (2PHA), 2-ethylhexyl acrylate (2EHA), and butyl acrylate (BA). , Ethyl acrylate (EA), methyl acrylate (MA), # 400 methoxy polyethylene glycol monomethacrylate [MPEGMM (# 400)], # 200 methoxy polyethylene glycol monoacrylate [MPEGMA (# 200)], 2-hydroxyethyl acrylate (2HEA ), 4-hydroxybutyl methacrylate (4HBA), and can be used in appropriate combination.

上記ベースポリマー(アクリル系共重合体)は、例えば、下記のようにして製造できる。還流冷却器付きの反応装置に、側鎖炭素数が1〜18の(メタ)アクリル酸エステルを75〜90質量部、AO基含有モノマーを5〜20質量部、OH基含有モノマーを2〜5質量部に、有機溶剤とアゾビスイソブチロニトリル等の重合開始剤を加え、撹拌しながら有機溶剤の還流温度で数時間反応させることで容易に得られる。   The base polymer (acrylic copolymer) can be produced, for example, as follows. In a reactor equipped with a reflux condenser, 75 to 90 parts by mass of a (meth) acrylic acid ester having 1 to 18 side chain carbon atoms, 5 to 20 parts by mass of an AO group-containing monomer, and 2 to 5 of an OH group-containing monomer. It can be easily obtained by adding an organic solvent and a polymerization initiator such as azobisisobutyronitrile to parts by mass and reacting for several hours at the reflux temperature of the organic solvent while stirring.

(添加剤)
本発明を特徴づける上記のベースポリマーに添加させる、その構造中にフッ素或いはケイ素を含む化合物としては、下記のものが挙げられる。例えば、ポリエーテル変性ポリオルガノシロキサンや、含フッ素アルキル基含有の、カチオン系、アニオン系、ノニオン系の、各フッ素系界面活性剤等を用いることができる。市販されているものとしては、側鎖にポリエーテル鎖を有するポリエーテル変性ポリオルガノシロキサンである、KF−6011、KF−6012、KF−6015、KF−6017、X−22−3939A、X−22−4741、KF−1002(商品名:以上、信越化学工業社製)や、両末端にポリエーテル鎖を有するポリエーテル変性ポリオルガノシロキサンである、X−22−4952、X−22−4272、X−22−6266(商品名:以上、信越化学工業社製)等が挙げられる。
(Additive)
Examples of the compound containing fluorine or silicon in the structure to be added to the above base polymer characterizing the present invention include the following. For example, polyether-modified polyorganosiloxanes, of the fluorine-containing alkyl group, cationic, anionic, nonionic, can be used each fluorine-based surfactants. As commercially available products, KF-6011, KF-6012, KF-6015, KF-6017, X-22-3939A, X-22, which are polyether-modified polyorganosiloxanes having a polyether chain in the side chain. -4741, KF-1002 (trade name: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and polyether modified polyorganosiloxanes having polyether chains at both ends, X-22-4952, X-22-4272, X -22-6266 (trade name: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

本発明においては、下記式(1)又は(2)で示される構造を有するオルガノポリシロキサンからなる化合物も好適に使用できる。

Figure 2011063712
上記式(1)中のR2、R4、R5は、アルキレン基であり、nは1〜100の整数、aおよびbはそれぞれ0〜100の整数である。 In the present invention, a compound comprising an organopolysiloxane having a structure represented by the following formula (1) or (2) can also be suitably used.
Figure 2011063712
R 2 , R 4 and R 5 in the above formula (1) are alkylene groups, n is an integer of 1 to 100, and a and b are integers of 0 to 100, respectively.

Figure 2011063712
上記式(2)中の、R1は1価の有機基、R2〜R4はアルキレン基、R5は水素又は1価の有機基、mは0〜100の整数、nは1〜100の整数、aおよびbはそれぞれ0〜100の整数である。
Figure 2011063712
Of the above formula (2), R 1 represents a monovalent organic group, R 2 to R 4 is an alkylene group, R 5 is hydrogen or a monovalent organic group, m is an integer of 0 to 100, n represents 1 to 100 , A and b are each an integer of 0 to 100.

ノニオン型フッ素含有化合物としては、パーフルオロアルキル基・親水性基・親油性基含有オリゴマーであるメガファック477、メガファック470、メガファック444、メガファック445(商品名:以上、DIC株式会社製)等が挙げられる。アニオン型フッ素含有化合物としては、パーフルオロアルキル基・親水性基・親油性基含有カルボン酸であるメガファック410(商品名:DIC株式会社製)等が挙げられる。   Nonionic fluorine-containing compounds include perfluoroalkyl group / hydrophilic group / lipophilic group-containing oligomers, Megafuck 477, Megafuck 470, Megafuck 444, Megafuck 445 (trade name: above, manufactured by DIC Corporation) Etc. Examples of the anion-type fluorine-containing compound include MegaFac 410 (trade name: manufactured by DIC Corporation), which is a carboxylic acid containing a perfluoroalkyl group, a hydrophilic group, and a lipophilic group.

フッ素系界面活性剤としては、ヘキサフルオロプロペンオリゴマーから誘導して開発されたパーフルオロアルケニル基を有するフタージェント222F[商品名:ポリオキシエチレン型(ノニオン系)]や、フタージェント310[商品名:(トリメチル{3−{4−[3,4,4,4−テトラフルオロ−2−(ペルフルオロイソプロピル)−1,3−ビス(トリフルオロメチル)−1−ブテニルオキシ]ベンゾイルアミノ}プロピル}アンモニウム=ヨージド(カチオン系)]、さらに、フタージェント100[商品名:(パーフルオロアルケニル(C=3,9)オキシベンゼンスルホン酸塩(Na,K)]、フタージェント110[商品名:(4−ペルフルオロヘキセニルオキシベンゼンスルホン酸ナトリウム)(アニオン系)]等が挙げられる。以上はいずれも株式会社ネオス製である。   Fluorosurfactants include, for example, Footent 222F [trade name: polyoxyethylene type (nonionic)] having a perfluoroalkenyl group developed from a hexafluoropropene oligomer, and Footgent 310 [trade name: (Trimethyl {3- {4- [3,4,4,4-tetrafluoro-2- (perfluoroisopropyl) -1,3-bis (trifluoromethyl) -1-butenyloxy] benzoylamino} propyl} ammonium iodide (Cationic type)], and further 100 [trade name: (perfluoroalkenyl (C = 3, 9) oxybenzene sulfonate (Na, K)], 110 [trade name: (4-perfluorohexenyl). Sodium oxybenzenesulfonate) (anionic)] Is. Above are both made of Corporation Neos.

これらの化合物の添加量としては、共に粘着剤中に添加させる帯電防止剤の量によっても異なるが、粘着剤中に、アクリル系粘着剤100質量部に対して、0.005質量部よりも多く、5質量部よりも少ない範囲とする。より好ましくは0.05〜3質量部の範囲、さらには0.1〜3質量部の範囲で外添させればよい。含有量が多くなると、剥離力が低下して被着体汚染を生じるおそれがあるので好ましくない。本発明者らの検討によれば、0.005質量部以下と極端に少な過ぎると本発明の効果が十分に認められないが、0.1〜3質量部、更には0.1〜1.0質量部程度の少量で十分な効果が得られる。また、これらの化合物の粘着剤層への添加は、下記のような方法で行えばよい。例えば、先に説明したようにして得たベースポリマーに、上記の化合物と、後述する帯電防止剤、トルエン等の有機溶剤を添加して混合する。この場合、25℃における粘度が3,000〜5,000mPa・s、その固形分が34〜36%程度のアクリル系共重合体組成物溶液が得られるが、本発明で使用する粘着剤組成物は、この溶液に、後述するような硬化剤(架橋剤)及び硬化遅延剤を加えて充分に混合することで、粘着性等の特性を適宜に調整して得られる。   The amount of these compounds to be added varies depending on the amount of the antistatic agent added to the adhesive, but is more than 0.005 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acrylic adhesive in the adhesive. The range is less than 5 parts by mass. More preferably, it may be externally added in the range of 0.05 to 3 parts by mass, and further in the range of 0.1 to 3 parts by mass. If the content is increased, the peeling force may be reduced to cause adherend contamination, which is not preferable. According to the study by the present inventors, the effect of the present invention is not sufficiently observed when the amount is extremely too small, 0.005 parts by mass or less, but 0.1 to 3 parts by mass, and further 0.1 to 1. A sufficient effect can be obtained with a small amount of about 0 part by mass. Moreover, what is necessary is just to perform the addition to the adhesive layer of these compounds by the following methods. For example, the above-described compound and an organic solvent such as an antistatic agent and toluene described later are added to and mixed with the base polymer obtained as described above. In this case, an acrylic copolymer composition solution having a viscosity at 25 ° C. of 3,000 to 5,000 mPa · s and a solid content of about 34 to 36% can be obtained. The pressure-sensitive adhesive composition used in the present invention Is obtained by appropriately adjusting properties such as adhesiveness by adding a curing agent (crosslinking agent) and a curing retarder as described later to this solution and mixing them well.

さらに、本発明においては、前記したベースポリマー(アクリル系共重合体)に添加させる、その構造中にフッ素或いはケイ素を含む化合物として、構造中にフッ素やケイ素を含むアクリル系ポリマーを使用することもできる。かかるポリマーは、ベースポリマーとの相溶性がよく、粘着剤層中に良好な状態で混合されて、本発明の効果を発揮することができる。具体的には、前記したベースポリマーを合成する際に使用するモノマーに、その構造中にフルオロアルキル基を持つ(メタ)アクリル酸エステルや、その構造中にケイ素を持つ(メタ)アクリル酸エステル等の含フッ素或いは含ケイ素モノマーを加えて得られる、フッ素或いはケイ素を含むポリマーを使用することができる。本発明で使用する、その構造中に、フッ素或いはケイ素を含むモノマーとしては、例えば、下記のものが挙げられる。   Furthermore, in the present invention, an acrylic polymer containing fluorine or silicon in the structure may be used as a compound containing fluorine or silicon in the structure to be added to the base polymer (acrylic copolymer). it can. Such a polymer has good compatibility with the base polymer, and can be mixed in a good state in the pressure-sensitive adhesive layer to exert the effects of the present invention. Specifically, (meth) acrylic acid ester having a fluoroalkyl group in its structure, (meth) acrylic acid ester having silicon in its structure, etc., as a monomer used when synthesizing the above base polymer It is possible to use a polymer containing fluorine or silicon obtained by adding the above fluorine-containing or silicon-containing monomer. Examples of the monomer containing fluorine or silicon in the structure used in the present invention include the following.

例えば、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、テトラフルオロエチル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、ノナフルオロブチル(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、ペンタデカフルオロオクチル(メタ)アクリレート、パーフルオロラウリル(メタ)アクリレート、トリデカフルオロヘキシルエチル(メタ)アクリレート、ヘプタデカフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレート、パーフルオロラウリルエチル(メタ)アクリレート、等のフッ化アルキル(メタ)アクリレート類を使用できる。   For example, trifluoroethyl (meth) acrylate, tetrafluoroethyl (meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate, nonafluorobutyl (meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) acrylate, pentadecafluorooctyl (meth) acrylate Fluoroalkyl (meth) acrylates such as perfluorolauryl (meth) acrylate, tridecafluorohexylethyl (meth) acrylate, heptadecafluorooctylethyl (meth) acrylate, perfluorolaurylethyl (meth) acrylate, etc. it can.

また、α−フルオロ−ω−[2−((メタ)アクリロイルオキシ)エチル]ポリジフルオロメチレン、2−[N−メチル−N−(ペルフルオロ−n−アルキルスルホニル)アミノ]エチル(メタ)アクリレート、等の含フッ素親水性ノニオン或いはアニオン性モノマーを使用できる。   In addition, α-fluoro-ω- [2-((meth) acryloyloxy) ethyl] polydifluoromethylene, 2- [N-methyl-N- (perfluoro-n-alkylsulfonyl) amino] ethyl (meth) acrylate, etc. Fluorine-containing hydrophilic nonions or anionic monomers can be used.

また、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、等の(メタ)アクリロキシアルキルシラン類を使用できる。   Also, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3 -(Meth) acryloxyalkylsilanes such as acryloxypropyltrimethoxysilane can be used.

フッ素或いはケイ素を含むポリマーを合成する際に使用する、全モノマー中におけるこれらの含フッ素或いは含ケイ素モノマーの量は、質量比率で、1〜99%、より好ましくは5〜90%である。この際に、側鎖炭素数が1〜18の(メタ)アクリル酸エステルを上記に加えてベースとしてもよい。さらに、このようなベースとするモノマーに加えて、例えば、AO基含有モノマーを1〜80%程度、より好ましくは5〜50%、OH基含有モノマーを0.1〜50%程度、より好ましくは1〜30%となるような質量比率で使用して合成してもよい。AO基含有モノマーやOH基含有モノマーには、ベースポリマーの説明の際に挙げたものを、いずれも使用することができる。   The amount of these fluorine-containing or silicon-containing monomers in the total monomer used when synthesizing a polymer containing fluorine or silicon is 1 to 99%, more preferably 5 to 90%, in mass ratio. At this time, a (meth) acrylic acid ester having 1 to 18 side chain carbon atoms may be added to the above as a base. Further, in addition to such a base monomer, for example, the AO group-containing monomer is about 1 to 80%, more preferably 5 to 50%, and the OH group-containing monomer is about 0.1 to 50%, more preferably. You may synthesize | combine using it by the mass ratio which will be 1-30%. As the AO group-containing monomer and the OH group-containing monomer, any of those mentioned in the description of the base polymer can be used.

その構造中にフッ素やケイ素を含むアクリル系ポリマーは、前記したベースポリマーと同じような方法で得ることができるが、この場合には、有機溶剤を使用せず、また、必要に応じて重合連鎖移動剤を加えて、80℃前後の温度で還流させながら重合することで製造する。反応後、室温に冷却して得られるポリマーは、25℃における粘度が50,000〜200,000mPa・s、その固形分が99%程度のものとして得、これを前記したベースポリマーに添加することが好ましい。その平均分子量は、1,000〜100,000程度のものが好ましい。このような、その構造中にフッ素やケイ素を含有するアクリル系ポリマーの添加量としては、共に添加させる帯電防止剤の量によっても異なるが、粘着剤中に、質量基準で、0.1〜5%程度、より好ましくは0.5〜3%の範囲で含有させるようにするとよい。その構造中にフッ素やケイ素を含むアクリル系ポリマーの、前記したベースポリマーへの添加方法は、下記のようにすることが好ましい。先ず、両者をそれぞれに合成した後、合成したベースポリマーに帯電防止剤と有機溶剤を加えた後、冷却して得られた粘度3,000mPa・s程度の溶液に、フッ素やケイ素を含むアクリル系ポリマーを添加して充分に撹拌して均一な溶液にする。その後、この溶液に、必要に応じて、後述するような硬化剤(架橋剤)及び硬化遅延剤を加えて充分に混合することで、本発明で使用する粘着剤組成物を得ることができる。   An acrylic polymer containing fluorine or silicon in its structure can be obtained by the same method as the base polymer described above, but in this case, an organic solvent is not used, and a polymerization chain is used if necessary. It is produced by adding a transfer agent and polymerizing while refluxing at a temperature of around 80 ° C. After the reaction, the polymer obtained by cooling to room temperature is obtained with a viscosity at 25 ° C. of 50,000 to 200,000 mPa · s and a solid content of about 99%, and this is added to the aforementioned base polymer. Is preferred. The average molecular weight is preferably about 1,000 to 100,000. The amount of the acrylic polymer containing fluorine or silicon in its structure varies depending on the amount of the antistatic agent added together, but is 0.1 to 5 on a mass basis in the pressure-sensitive adhesive. It is good to make it contain in about%, More preferably in 0.5 to 3% of range. The method for adding an acrylic polymer containing fluorine or silicon in its structure to the base polymer is preferably as follows. First, after synthesizing both of them, an antistatic agent and an organic solvent are added to the synthesized base polymer, and then cooled, an acrylic system containing fluorine or silicon is added to a solution having a viscosity of about 3,000 mPa · s. Add polymer and stir well to make uniform solution. Then, the adhesive composition used in the present invention can be obtained by adding a curing agent (crosslinking agent) and a curing retarder as described later to this solution and mixing them as necessary.

(帯電防止剤)
本発明で使用する帯電防止剤としては、従来、剥離帯電を低減させる目的で使用されている、金属塩、イオン性液体のような有機塩等をいずれも使用できる。本発明では、特に、剥離帯電により生じた電荷の偏りを速やかに中和するために帯電防止剤を使用しているので、高い電気伝導度のものが好ましい。具体的には、本発明で使用する帯電防止剤としては、電気伝導度の値が0.1mS/cm以上のものが好適である。下記に挙げる有機塩は、いずれも電気伝導度の値が0.1mS/cm以上のものであり、いずれも本発明に好適である。
(Antistatic agent)
As the antistatic agent used in the present invention, any of metal salts, organic salts such as ionic liquids, and the like conventionally used for the purpose of reducing peeling charge can be used. In the present invention, since an antistatic agent is used particularly in order to quickly neutralize the bias of charge generated by peeling charging, a material having high electrical conductivity is preferable. Specifically, the antistatic agent used in the present invention preferably has an electrical conductivity value of 0.1 mS / cm or more. Any of the organic salts listed below has an electrical conductivity value of 0.1 mS / cm or more, and all are suitable for the present invention.

本発明において使用できる金属塩としては、例えば、リチウム=トリフルオロメタンスルホネート、リチウム=ビス(フルオロスルフォニル)イミド、リチウム=ビス(トリフルオロメチルスルフォニル)イミド、リチウム=ビス(ペンタフルオロエチルスルフォニル)イミド、等のフッ素を含有するものが挙げられる。また、有機塩としては、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム=ビス(フルオロスルフォニル)イミド、1−オクチルピリジニウム=ビス(フルオロスルフォニル)イミド、N,N,N−トリメチル−N−プロピルアンモニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、N−メチル−N−プロピルピペリジニウム=ビス(フルオロスルフォニル)イミド、3−メチルピラゾリウム=ビス(ペンタフルオロエチルスルフォニル)イミド、トリメチルスルホニウム=ビス(フルオロスルフォニル)イミド、1−へキシル−2,3−ジメチルイミダゾリウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1,3−ジメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−ブチルピリジニウム=テトラフルオロボレート、1−ブチルピリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−ヘキシルピリジニウム=ビス(フルオロスルフォニル)イミド、1−オクチルピリジニウム=ビス(フルオロスルフォニル)イミド、4−メチル−1−オクチルピリジニウム=ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム=ヘキサフルオロフォスフェイト、1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウム=クロライド、1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウム=ブロマイド、1−ブチル−2,3−ジメチルイミダゾリウム=ビス(ペンタフルオロエチルスルフォニル)イミド、等が挙げられる。これらの帯電防止剤の添加量としては、帯電防止剤と共に添加する、先に説明した、その構造中にフッ素或いはケイ素を含有する化合物の量によっても異なるが、アクリル系粘着剤100質量部に対して、0.1〜3質量部の範囲で、より好ましくは0.1〜2質量部程度の範囲で外添させればよい。   Examples of the metal salt that can be used in the present invention include lithium = trifluoromethanesulfonate, lithium = bis (fluorosulfonyl) imide, lithium = bis (trifluoromethylsulfonyl) imide, lithium = bis (pentafluoroethylsulfonyl) imide, and the like. The thing containing these fluorine is mentioned. Organic salts include 1-ethyl-3-methylimidazolium bis (fluorosulfonyl) imide, 1-octylpyridinium bis (fluorosulfonyl) imide, N, N, N-trimethyl-N-propylammonium bis (Trifluoromethanesulfonyl) imide, N-methyl-N-propylpiperidinium = bis (fluorosulfonyl) imide, 3-methylpyrazolium = bis (pentafluoroethylsulfonyl) imide, trimethylsulfonium = bis (fluorosulfonyl) imide 1-hexyl-2,3-dimethylimidazolium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1,3-dimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, -Butyl Lidinium = tetrafluoroborate, 1-butylpyridinium = bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-hexylpyridinium = bis (fluorosulfonyl) imide, 1-octylpyridinium = bis (fluorosulfonyl) imide, 4-methyl-1-octyl Pyridinium = bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-ethyl-3-methylimidazolium = hexafluorophosphate, 1-hexyl-3-methylimidazolium chloride, 1-hexyl-3-methylimidazolium bromide, 1 -Butyl-2,3-dimethylimidazolium = bis (pentafluoroethylsulfonyl) imide and the like. The amount of these antistatic agents added depends on the amount of the compound containing fluorine or silicon in the structure described above, which is added together with the antistatic agent, but with respect to 100 parts by mass of the acrylic pressure-sensitive adhesive. The external addition may be in the range of 0.1 to 3 parts by mass, more preferably in the range of about 0.1 to 2 parts by mass.

(硬化剤)
本発明の表面保護フィルムを特徴づける粘着剤層は、上記以外に、さらに硬化剤(架橋剤)を配合して、その一部を架橋させるようにして形成してもよい。このようにすれば、粘着剤層の粘着性及び剥離性が改善され、表面保護フィルムを剥離した際に生じる被着体汚染の問題をより大幅に改善できる。この際に使用する硬化剤としては、イソシアネート系、エポキシ系、アジリジン系、メラミン系、金属系等をいずれも用いることができる。具体的には、デュラネートTPA−100(商品名:ヘキサメチレンジイソシアネート系ポリイソシアネート、旭化成ケミカルズ製)や、デュラネートT4330−75B(商品名:ヘキサメチレンジイソシアネート/イソホロンジイソシアネート=70/30、旭化成ケミカルズ製)等を使用することができる。これらの硬化剤の添加量としては、粘着剤組成物中に、質量基準で、0.1〜5%程度、より好ましくは0.5〜3%の範囲で含有させるとよい。なお、この場合に、アセチルアセトン等の硬化遅延剤を併用して配合させることで、硬化(架橋)状態を適宜に調整してもよい。
(Curing agent)
Pressure-sensitive adhesive layer to characterize the surface protective film of the present invention, in addition to the above, and further a curing agent (crosslinking agent) may be formed so as to crosslink the part. If it does in this way, the adhesiveness and peelability of an adhesive layer will be improved, and the problem of the adherend contamination which arises when peeling a surface protection film can be improved more significantly. As the curing agent used in this case, any of isocyanate, epoxy, aziridine, melamine, metal and the like can be used. Specifically, Duranate TPA-100 (trade name: hexamethylene diisocyanate polyisocyanate, manufactured by Asahi Kasei Chemicals), Duranate T4330-75B (trade name: hexamethylene diisocyanate / isophorone diisocyanate = 70/30, manufactured by Asahi Kasei Chemicals), etc. Can be used. As addition amount of these hardening | curing agents, it is good to make it contain in the adhesive composition in about 0.1 to 5% by mass reference | standard, More preferably, it is 0.5 to 3% of range. In this case, the cured (crosslinked) state may be appropriately adjusted by blending a curing retarder such as acetylacetone in combination.

(表面保護フィルムの作成)
本発明の表面保護フィルムは、上記のような成分からなる粘着剤組成物を使用して、下記のような方法で作成することができる。先ず、基材となるポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン及び塩化ビニル等のプラスチックフィルムを用意する。基材の厚みは、通常、40μm程度である。このようなフィルムに、直接、粘着剤組成物を、粘着剤層厚が25μm程度となるようにバーコーター等を用いて塗工する。これを90℃程度の温度で60秒程乾燥させて粘着剤層を形成後、得られた粘着剤層の上に、シリコーンコート等で一方の面が撥水処理されたポリエステル等のプラスチックフィルムからなるセパレーターを被覆することで、本発明の表面保護フィルムが得られる。本発明の表面保護フィルムは、特に硬化剤等を添加した場合は、この状態で、数日間、養生後、製品に適用するようにすれば、より安定した効果が得られるものとなる。
(Creation of surface protective film)
The surface protective film of the present invention can be prepared by the following method using a pressure-sensitive adhesive composition comprising the above components. First, a plastic film such as polyester, polyethylene, polypropylene and vinyl chloride is prepared as a base material. The thickness of the substrate is usually about 40 μm. The pressure-sensitive adhesive composition is directly applied to such a film using a bar coater or the like so that the pressure-sensitive adhesive layer thickness is about 25 μm. After drying this at a temperature of about 90 ° C. for about 60 seconds to form a pressure-sensitive adhesive layer, on the obtained pressure-sensitive adhesive layer, from a plastic film such as polyester having one surface water-repellent treated with a silicone coat or the like. The surface protection film of this invention is obtained by coat | covering the separator which becomes. The surface protective film of the present invention, especially if the addition of the curing agent or the like, in this state for several days, after curing, if to apply the product, becomes a more stable effect can be obtained.

以下、実施例および比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。なお、以下の記載で「部」、「%」とあるのは特に断りのない限り質量基準である。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are given and this invention is demonstrated further more concretely, this invention is not limited to these. In the following description, “parts” and “%” are based on mass unless otherwise specified.

<実施例1>
撹拌機、温度計、還流冷却器および窒素導入管を備えた反応装置を用い、窒素ガスを封入後、反応容器に、酢酸エチル75部、アセトン15部、2−エチルヘキシルアクリレート80部、#400メトキシポリエチレングリコールモノメタクリレート20部、2−ヒドロキシエチルアクリレート2部および重合開始剤(アゾビスイソブチロニトリル)0.2部を仕込んだ。次に、攪拌機で攪拌しながら溶剤の還流温度で7時間反応させた。反応終了後、含ケイ素化合物であるグラノール100(商品名:AO末端水酸基型のポリエーテル変性ポリオルガノシロキサン、共栄社化学製)を0.1部、帯電防止剤としてリチウム=ビス(トリフルオロメチルスルフォニル)イミドを0.3部、及びトルエン95部を添加して混合し、該混合物を室温まで冷却し、30℃における粘度が3,000mPa・s、固形分30%の共重合体組成物溶液Aを得た。
<Example 1>
Using a reactor equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser and nitrogen introduction tube, after nitrogen gas was sealed, 75 parts of ethyl acetate, 15 parts of acetone, 80 parts of 2-ethylhexyl acrylate, # 400 methoxy were charged in the reaction vessel. 20 parts of polyethylene glycol monomethacrylate, 2 parts of 2-hydroxyethyl acrylate, and 0.2 part of a polymerization initiator (azobisisobutyronitrile) were charged. Next, it was made to react at the reflux temperature of a solvent for 7 hours, stirring with a stirrer. After completion of the reaction, 0.1 part of granol 100 (trade name: polyether modified polyorganosiloxane of AO terminal hydroxyl group type, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) which is a silicon-containing compound, and lithium bis (trifluoromethylsulfonyl) as an antistatic agent 0.3 parts of imide and 95 parts of toluene are added and mixed, the mixture is cooled to room temperature, and a copolymer composition solution A having a viscosity at 30 ° C. of 3,000 mPa · s and a solid content of 30% is obtained. Obtained.

上記で得られた共重合体組成物溶液Aの固形分100部に対して、硬化剤(架橋剤)としてデュラネートTPA−100(商品名:ヘキサメチレンジイソシアネート=イソシアヌレート型架橋剤、旭化成ケミカルズ製)を2部およびアセチルアセトンを2部、を添加して充分に混合して粘着剤組成物を得た。   Duranate TPA-100 (trade name: hexamethylene diisocyanate = isocyanurate type cross-linking agent, manufactured by Asahi Kasei Chemicals) as a curing agent (cross-linking agent) with respect to 100 parts of the solid content of the copolymer composition solution A obtained above. 2 parts and 2 parts of acetylacetone were added and mixed well to obtain an adhesive composition.

該粘着剤組成物を粘着剤層厚が25μmになるように、基材である38μm厚のポリエステルフィルムに、バーコーターを用いて直接塗工した。その後、90℃で60秒乾燥させて粘着剤層を形成した後、該粘着剤層にシリコーンコートされた38μm厚のポリエステルフィルムセパレーターを被覆して、本実施例の表面保護フィルムを作製した。更に、上記で得た表面保護フィルムを、23℃、50%RH中で7日間養生し、各評価試験の試料とした。   The pressure-sensitive adhesive composition was directly applied to a 38 μm-thick polyester film as a substrate using a bar coater so that the pressure-sensitive adhesive layer thickness was 25 μm. Thereafter, after drying at 90 ° C. for 60 seconds to form an adhesive layer, the adhesive layer was coated with a 38 μm thick polyester film separator coated with silicone to produce a surface protective film of this example. Furthermore, the surface protective film obtained above was cured for 7 days in 23 ° C. and 50% RH, and used as a sample for each evaluation test.

<実施例2〜5>
実施例1で使用したモノマー、含ケイ素化合物及び帯電防止剤の、種類と組成比を表1に示したように変えた以外は、実施例1と同様の方法で、それぞれ粘着剤組成物を得た。そして、得られた粘着剤組成物をそれぞれに用いて、実施例1と同様の方法で実施例2〜5の表面保護フィルムを得た。
<Examples 2 to 5>
A pressure-sensitive adhesive composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that the types and composition ratios of the monomer, silicon-containing compound and antistatic agent used in Example 1 were changed as shown in Table 1. It was. And the surface protection film of Examples 2-5 was obtained by the method similar to Example 1 using each obtained adhesive composition.

<比較例1〜5>
実施例1で使用したモノマーの種類と組成比を表2に示したように変え、表2に示したように、含ケイ素化合物又は帯電防止剤のいずれかが含有されてなる粘着剤組成物をそれぞれ得た。そして、得られた粘着剤組成物をそれぞれに用いて、実施例1と同様の方法で比較例1〜4の表面保護フィルムを得た。比較例1及び2は、帯電防止剤のみを添加した構成であり、比較例3及び4は、含ケイ素化合物のみを添加した構成である。また、含ケイ素化合物及び帯電防止剤のいずれも含有しない粘着剤組成物を得、これを用いて、実施例1と同様の方法で比較例5の表面保護フィルムを得た。
<Comparative Examples 1-5>
The type and composition ratio of the monomers used in Example 1 were changed as shown in Table 2, and as shown in Table 2, an adhesive composition containing either a silicon-containing compound or an antistatic agent was prepared. I got each. And the surface protection film of Comparative Examples 1-4 was obtained by the method similar to Example 1 using each obtained adhesive composition. Comparative Examples 1 and 2 have a configuration in which only an antistatic agent is added, and Comparative Examples 3 and 4 have a configuration in which only a silicon-containing compound is added. Also, give none of the silicon-containing compound and an antistatic agent does not contain the pressure-sensitive adhesive composition and used to obtain a surface protective film of Comparative Example 5 in the same manner as in Example 1.

<評価方法>
フッ素系ハードコート剤でハードコートされたHC偏光板を被着体として、これらの表面に、上記で得た実施例及び比較例の表面保護フィルムをそれぞれに貼った後、下記のようにして剥離力及び剥離帯電圧をそれぞれ測定した。また、表面がフッ素系ハードコート剤でコートされていないAG偏光板についても同様にした。なお、このようなAG処理だけを施した偏光板は、機能性層を有するものの、帯電防止剤だけの添加でもある程度は剥離帯電を下げることができる。すなわち、本発明は、従来の表面保護フィルムでは不十分であった、含フッ素化合物又は含ケイ素化合物を用いての処理によって形成された機能性層を被着体とする表面保護フィルムとして、特に有用である。
<Evaluation method>
Using HC polarizing plates hard-coated with a fluorine-based hard coat agent as adherends, the surface protective films of the examples and comparative examples obtained above were applied to these surfaces, and then peeled as follows. The force and peel voltage were measured respectively. The same applies to the AG polarizing plate whose surface is not coated with a fluorine-based hard coat agent. In addition, although the polarizing plate which performed only such AG process has a functional layer, even if only an antistatic agent is added, peeling electrification can be lowered to some extent. That is, the present invention is particularly useful as a surface protective film having a functional layer formed by treatment with a fluorine-containing compound or a silicon-containing compound, which was insufficient with a conventional surface protective film, as an adherend. It is.

剥離帯電圧低減の効果に関しては、確認がし易いように、被着体にポリテトラフルオロエチレン(以下、PTFE)板を用いて検討を行った。本発明者らの検討によれば、フッ素化合物によって処理された表面をもつ偏光板よりも、PTFE板の方が剥離帯電圧は高く出るが、両者は良好な相関を示すことが確認できた。したがって、PTFE板で良好な結果が得られれば、表面がフッ素化合物によって処理された偏光板でも良好であると結論づけることができる。また、各偏光板に貼付した後、剥がした場合における被着体の汚染状況を調べ、それぞれ評価した。さらに、粘着剤面の表面抵抗をそれぞれ測定した。詳細な方法は、それぞれ下記の通りである。   The effect of reducing the stripping voltage was examined by using a polytetrafluoroethylene (hereinafter referred to as PTFE) plate for the adherend so as to be easily confirmed. According to the study by the present inventors, it was confirmed that the PTFE plate had a higher peeling band voltage than the polarizing plate having a surface treated with a fluorine compound, but both showed a good correlation. Therefore, if a good result is obtained with a PTFE plate, it can be concluded that a polarizing plate whose surface is treated with a fluorine compound is also good. Moreover, after sticking on each polarizing plate, the contamination state of the adherend when peeled off was examined and evaluated. Furthermore, the surface resistance of the pressure-sensitive adhesive surface was measured. Detailed methods are as follows.

[剥離力]
(1)低速剥離力
上記したAG偏光板及びHC偏光板のそれぞれの機能性層側の表面及びPTFE板に、先に得た各表面保護フィルムをそれぞれ2kgfローラー1往復で圧着して貼り付け、貼付してから24時間経過後に、テンシロン引張試験機RTG−1210(商品名:エーアンドディー製)を用い、低速剥離力を測定した。測定条件は、下記の通りである。また、測定結果は表1及び表2に示した。
・引張速度:0.3m/min
・剥離方向:180°
・試料サイズ:25mm×100mm
[Peeling force]
(1) Low-speed peeling force Each surface protection film obtained previously is bonded to the surface of each functional layer of the above-described AG polarizing plate and HC polarizing plate and the PTFE plate by one reciprocation with 2 kgf rollers, After 24 hours from the pasting, the low-speed peel force was measured using a Tensilon tensile tester RTG-1210 (trade name: manufactured by A & D). The measurement conditions are as follows. The measurement results are shown in Tables 1 and 2.
・ Tensile speed: 0.3 m / min
・ Peeling direction: 180 °
・ Sample size: 25mm x 100mm

(2)高速剥離力
上記したAG偏光板及びHC偏光板のそれぞれの機能性層側の表面及びPTFE板に、先に得た各表面保護フィルムをそれぞれ2kgfローラー1往復で圧着して貼り付け、貼付してから24時間経過後に、高速剥離試験機(テスター産業製)を用い、高速剥離力を測定した。測定条件は、下記の通りである。また、測定結果は表1及び表2に示した。
・引張速度:30m/min
・剥離方向:180°
・試料サイズ:25mm×200mm
(2) High-speed peeling force Each surface protection film obtained above is bonded to the surface of each functional layer of the above-described AG polarizing plate and HC polarizing plate and the PTFE plate by reciprocating each with 2 kgf rollers, After 24 hours from the pasting, the high speed peel force was measured using a high speed peel tester (manufactured by Tester Sangyo). The measurement conditions are as follows. The measurement results are shown in Tables 1 and 2.
・ Tensile speed: 30 m / min
・ Peeling direction: 180 °
・ Sample size: 25mm × 200mm

[剥離帯電圧]
上記したAG偏光板及びHC偏光板のそれぞれの機能性層側の表面及びPTFE板に、先に得た各表面保護フィルムをそれぞれ2kgfローラー1往復で圧着して貼り付け、貼付してから24時間経過後に、高速剥離試験機(テスター産業製)を用い、フィルムを剥離する。そして、その際に発生する静電気量を、高精度静電器センサーSK−200、SK−030(商品名:キーエンス社製)で測定した。図1は、測定状態を示す模式図である。Aは、保護フィルムの貼付面となる側であり、基材フィルムBの表面に形成されてなる粘着剤層である。Cは、被着体の表面に設けられた機能性層を有するフィルムを示し、Eはガラス板であり、DはCとEとを固定するために用いられる粘着剤であり、Fはアルミ板である。Gは静電気センサーを示す。剥離する条件は、下記の通りである。
・引張速度:30m/min
・剥離方向:180°
・試料サイズ:A4(210mm×297mm)
[Peeling voltage]
24 hours after pasting each surface protective film obtained above by pressing and reciprocating each 2 kgf roller on the surface of each functional layer of the AG polarizing plate and HC polarizing plate and the PTFE plate. After the elapse of time, the film is peeled off using a high speed peel tester (manufactured by Tester Sangyo). Then, the amount of static electricity generated at that time was measured with high precision electrostatic sensor SK-200, SK-030 (trade name: manufactured by Keyence Corporation). FIG. 1 is a schematic diagram showing a measurement state. A is the pressure-sensitive adhesive layer formed on the surface of the base film B, which is the side to be affixed to the protective film. C denotes a film having a functional layer provided on the surface of the adherend, E is a glass plate, D is the adhesive used for fixing the C and E, F is an aluminum plate It is. G indicates an electrostatic sensor. The conditions for peeling are as follows.
・ Tensile speed: 30 m / min
・ Peeling direction: 180 °
-Sample size: A4 (210 mm x 297 mm)

測定結果を表1及び表2に示したが、剥離帯電圧の評価は、発生した静電気の最高値と最低値によって示した。また、測定結果を、図2及び図3に示した。上記した測定方法では、測定対象とする保護フィルムが剥がれる途中までは保護フィルムに塗工された粘着剤の静電気量を測ることになり、保護フィルムが剥がれ、静電気センサーGの測定範囲外に抜けた後は、残された被着体の静電気量を測ることになる。なお、保護フィルムが正に帯電していれば、被着体は同じ大きさで負に帯電するはずであるが、上記で検討したフッ素系表面処理剤で処理したHC偏光板やPTFE板では、相手がアクリルの場合、負に帯電すると予想される。これに対し、図2及び図3に示したように、実際の測定結果もほぼそのようになった。   The measurement results are shown in Tables 1 and 2, and the evaluation of the stripping voltage was shown by the maximum value and the minimum value of the generated static electricity. The measurement results are shown in FIGS. In the measurement method described above, the amount of static electricity of the adhesive applied to the protective film is measured until the protective film to be measured is peeled off, and the protective film is peeled off and falls out of the measurement range of the electrostatic sensor G. After that, the amount of static electricity of the remaining adherend will be measured. If the protective film is positively charged, the adherend should be negatively charged with the same size, but in the HC polarizing plate and PTFE plate treated with the fluorine-based surface treating agent examined above, If the opponent is acrylic, it is expected to be negatively charged. On the other hand, as shown in FIGS. 2 and 3, the actual measurement result is almost the same.

[被着体汚染]
上記したAG偏光板及びHC偏光板の機能性層側の表面に、先に得た各表面保護フィルムをそれぞれ2kgfローラー1往復で圧着して貼り付けた。そして、これらの試料を70℃の環境下で3日間放置する。その後、試料を取り出し、23℃、50%RH中で24時間放置した後、試料を被着体から剥がし、汚染の度合いを目視にて観察し、下記の基準で評価した。測定結果は表1及び表2に示した。
○:汚染は認められない
△:僅かに汚染が認められる
×:汚染が認められる
[Adherent contamination]
On the surface of the functional layer side of the above-mentioned AG polarizing plate and HC polarizer was bonded and pressed to the surface protective film obtained earlier in each 2kgf roller one round trip. And these samples are left to stand for 3 days in 70 degreeC environment. Thereafter, the sample was taken out and allowed to stand at 23 ° C. and 50% RH for 24 hours, and then the sample was peeled off from the adherend, and the degree of contamination was visually observed and evaluated according to the following criteria. The measurement results are shown in Tables 1 and 2.
○: No contamination is observed △: Slight contamination is observed ×: Contamination is observed

[表面抵抗値]
それぞれの表面保護フィルムの粘着面の表面抵抗値を、高抵抗率計MCP−HT450(商品名:三菱化学社製)を用いて測定した。測定結果は、表1及び表2に示した。
[Surface resistance value]
The surface resistance value of the adhesive surface of each surface protective film was measured using a high resistivity meter MCP-HT450 (trade name: manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation). The measurement results are shown in Tables 1 and 2.

Figure 2011063712
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Figure 2011063712
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Figure 2011063712
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<結果1>
表1及び表2を比較した結果、下記の点がわかった。粘着剤自体の剥離力は、比較例5のデータでわかる。そして、粘着剤に帯電防止剤のみを添加した場合の剥離力は、比較例1又は2のデータと、比較例5のデータの比較から、この程度の添加量であれば若干の低下で留まることがわかる。ノニオン性のフッ素系界面活性剤を微少量添加した比較例3を比較例5の場合と比較すると、比較例3は添加量が少ないため、被着体汚染は生じず剥離力の低下も僅かではあるが、剥離帯電圧の抑制効果は認められない。一方、その添加量を非常に多くした比較例4では、対テフロン(登録商標)板やHC偏光板に対する剥離帯電圧が低いものの、剥離力がかなり低下する上に被着体汚染を生じている。これらのことから添加剤の添加量は0.005部より多く、5.0部より少ない場合に最適なことがわかる。
<Result 1>
As a result of comparing Table 1 and Table 2, the following points were found. The peel strength of the adhesive itself can be seen from the data of Comparative Example 5. The peel strength when only the antistatic agent is added to the pressure-sensitive adhesive is only slightly reduced if the addition amount is at this level, based on a comparison between the data of Comparative Example 1 or 2 and the data of Comparative Example 5. I understand. Comparing Comparative Example 3 in which a small amount of a nonionic fluorosurfactant was added to the case of Comparative Example 5, since Comparative Example 3 was added in a small amount, the adherend was not contaminated and the peeling force was slightly reduced. Although there is no effect of suppressing the stripping voltage. On the other hand, in Comparative Example 4 in which the amount of addition was very large, the peeling band voltage for the Teflon (registered trademark) plate and the HC polarizing plate was low, but the peeling force was considerably reduced and the adherend was contaminated. . From these facts, it can be seen that the additive amount is optimum when it is more than 0.005 parts and less than 5.0 parts.

表1及び2、図2及び3に示した、実施例1〜5の結果と、比較例1又は2の結果との比較から下記のことが確認された。帯電防止剤に加えて、その構造中にフッ素或いはケイ素を含む化合物を適量含有させた実施例の場合は、いずれも、帯電防止剤のみを加えた比較例の場合よりも、粘着剤層の表面抵抗値を低下させることができた。さらに、剥離帯電圧も、いずれの被着体から剥離した場合も非常に低くなっており、静電気の発生が低減されることが確認できた。また、剥離力の低下は、帯電防止剤のみを加えた場合と、同程度からやや劣る程度に留まり、被着体汚染に影響を与えることはなかった。   From the comparison of the results of Examples 1 to 5 and the results of Comparative Example 1 or 2 shown in Tables 1 and 2 and FIGS. 2 and 3, the following was confirmed. In the examples in which an appropriate amount of a compound containing fluorine or silicon is contained in the structure in addition to the antistatic agent, the surface of the pressure-sensitive adhesive layer is more than in the comparative example in which only the antistatic agent is added. The resistance value could be reduced. Furthermore, the peeling voltage was very low when peeling from any adherend, confirming that the generation of static electricity was reduced. Further, the decrease in peel strength remained at the same level or slightly inferior to that when only the antistatic agent was added, and did not affect the adherend contamination.

添加物とした、その構造中にフッ素或いはケイ素を含む化合物による違いについて考察した。その結果、実施例1及び2のケイ素を含む化合物を添加した例よりも、実施例3〜5のフッ素を含む化合物を添加した例の場合の方が、剥離帯電圧については、同じか若干劣るものの、剥離力の低下の度合いが小さく、その一方で表面抵抗値がより小さくなって、静電気の発生自体を少なくでき、バランスのよい効果が得られることを確認した。   The difference due to the compound containing fluorine or silicon in the structure as an additive was considered. As a result, in the case of the example in which the compound containing fluorine in Examples 3 to 5 was added, the peeling band voltage was the same or slightly inferior to the example in which the compound containing silicon in Examples 1 and 2 was added. However, it was confirmed that the degree of decrease in peeling force was small, while the surface resistance value became smaller, the generation of static electricity itself could be reduced, and a balanced effect was obtained.

<実施例6>
撹拌機、温度計、還流冷却器および窒素導入管を備えた反応装置を用い、窒素ガスを封入後、反応容器に、酢酸エチル75部、アセトン15部、2−エチルヘキシルアクリレート73部、ブチルアクリレート20部、#400メトキシポリエチレングリコールモノメタクリレート7部、4−ヒドロキシエチルアクリレート3部および重合開始剤(アゾビスイソブチロニトリル)0.2部を仕込んだ。次に、撹拌機で撹拌しながら溶剤の還流温度で7時間反応させた。反応終了後、帯電防止剤としてリチウム=ビス(トリフルオロメチルスルフォニル)イミドを1.0部、及びトルエン95部を添加して混合し、該混合物を室温まで冷却し、30℃における粘度が3,000mPa・s、固形分35%の共重合体組成物溶液A−1を得た。
<Example 6>
Using a reactor equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser and nitrogen introduction tube, after nitrogen gas was sealed, 75 parts of ethyl acetate, 15 parts of acetone, 73 parts of 2-ethylhexyl acrylate, 20 parts of butyl acrylate were added to the reaction vessel. Part, 7 parts of # 400 methoxypolyethylene glycol monomethacrylate, 3 parts of 4-hydroxyethyl acrylate and 0.2 part of a polymerization initiator (azobisisobutyronitrile) were charged. Next, it was made to react at the reflux temperature of a solvent for 7 hours, stirring with a stirrer. After completion of the reaction, 1.0 parts of lithium = bis (trifluoromethylsulfonyl) imide as an antistatic agent, and 95 parts of toluene were added and mixed, the mixture was cooled to room temperature, the viscosity at 30 ° C. is 3, A copolymer composition solution A-1 having a solid content of 35% was obtained.

一方、下記のようにして、添加剤用のポリマーを合成した。撹拌機、温度計、還流冷却器および窒素導入管を備えた反応装置を用い、窒素ガスを封入後、反応容器に、2−エチルヘキシルアクリレート47.5部、#400メトキシポリエチレングリコールモノメタクリレート47.5部、ライトエステルFM−108[商品名:2−(パーフルオロオクチル)エチルメタクリレート、共栄社化学製]を5部、トリグリコールジメルカプタン3部および重合開始剤V−65(商品名:[2,2’-Azobis(2,4-dimethylvaleronitrile)、和光純薬工業製]を0.02部仕込んだ。次に、撹拌機で撹拌しながら80℃の温度を保ちながら7時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、30℃における粘度が70,000mPa・s、固形分99%の共重合体組成物溶液B−1を得た。   On the other hand, a polymer for additives was synthesized as follows. A reactor equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser and a nitrogen introduction tube was used. After nitrogen gas was sealed, 47.5 parts of 2-ethylhexyl acrylate and 47.5 parts of # 400 methoxypolyethylene glycol monomethacrylate were placed in the reaction vessel. Part, light ester FM-108 [trade name: 2- (perfluorooctyl) ethyl methacrylate, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.], 3 parts triglycol dimercaptan and polymerization initiator V-65 (trade name: [2,2 0.02 part of '-Azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.] was added, and the reaction was continued for 7 hours while maintaining the temperature at 80 ° C. while stirring with a stirrer. The copolymer composition solution B-1 having a viscosity at 30 ° C. of 70,000 mPa · s and a solid content of 99% was obtained.

先に得られた共重合体組成物溶液A−1の固形分100部に対して、共重合体組成物溶液B−1を2部加え、充分に混合した。上記で得られた共重合体組成物溶液の固形分100部に対して、架橋剤として旭化成ケミカルズ株式会社製デュラネートTPA−100(ヘキサメチレンジイソシアネート=イソシアヌレート型架橋剤)を2部と、アセチルアセトンを2部とを添加して充分に混合して粘着剤組成物を得た。   2 parts of the copolymer composition solution B-1 was added to 100 parts of the solid content of the copolymer composition solution A-1 obtained previously and mixed well. As a crosslinking agent, 2 parts of Duranate TPA-100 (hexamethylene diisocyanate = isocyanurate type crosslinking agent) manufactured by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd. as a crosslinking agent with respect to 100 parts of the solid content of the copolymer composition solution obtained above, and acetylacetone 2 parts was added and mixed well to obtain an adhesive composition.

該粘着剤組成物を粘着剤層厚が25μmになるように、基材である38μm厚のポリエステルフィルムに、バーコーターを用いて直接塗工した。その後、90℃で60秒乾燥させて粘着剤層を形成した後、該粘着剤層にシリコーンコートされた38μm厚のポリエステルフィルムセパレーターを被覆して、本実施例の表面保護フィルムを作製した。さらに、上記で得た表面保護フィルムを、23℃、50%RH中で7日間養生し、各評価試験の試料とした。評価は、剥離力、剥離帯電圧、表面抵抗値のそれぞれを、実施例1で行ったと同様にして測定することで行った。評価結果は、表5に示した。   The pressure-sensitive adhesive composition was directly applied to a 38 μm-thick polyester film as a substrate using a bar coater so that the pressure-sensitive adhesive layer thickness was 25 μm. Thereafter, after drying at 90 ° C. for 60 seconds to form an adhesive layer, the adhesive layer was coated with a 38 μm thick polyester film separator coated with silicone to produce a surface protective film of this example. Furthermore, the surface protection film obtained above was cured for 7 days in 23 ° C. and 50% RH, and used as a sample for each evaluation test. The evaluation was performed by measuring each of the peeling force, the peeling band voltage, and the surface resistance in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 5.

<実施例7〜12及び比較例6〜8で使用するポリマーの合成>
(1)共重合体組成物溶液A−2の合成
モノマー組成を、2−エチルヘキシルアクリレートを90部、ブチルアクリレート10部、2−ヒドロキシエチルアクリレート2部とし、帯電防止剤として、1−オクチルピリジニウム=ビス(フルオロスルフォニル)イミドを1.0部を添加した以外は、実施例6で製造した共重合体組成物溶液A−1と同様の方法で、共重合体組成物溶液A−2を得た。
<Synthesis of polymers used in Examples 7-12 and Comparative Examples 6-8>
(1) Synthesis of copolymer composition solution A-2 The monomer composition was 90 parts of 2-ethylhexyl acrylate, 10 parts of butyl acrylate, 2 parts of 2-hydroxyethyl acrylate, and 1-octylpyridinium = except that bis (fluoro sulfonyl) imide was added 1.0 parts, in a similar manner to the copolymer composition solution a-1 prepared in example 6, to obtain a copolymer composition solution a-2 .

(2)添加剤用のポリマーの合成
実施例6で製造した共重合体組成物溶液B−1のモノマー組成を、表4に示したように変えた以外は、それぞれ同様の方法で、共重合体組成物溶液B−2〜B−7を合成した。
(2) a copolymer composition solution monomer composition of B-1 produced in Synthesis Example 6 of polymer additives, except that were changed as shown in Table 4, in each similar manner, copolycondensation Combined composition solutions B-2 to B-7 were synthesized.

Figure 2011063712
Figure 2011063712

<実施例7〜12及び比較例6〜8>
上記で得た共重合体組成物溶液A−1又はA−2、添加剤用のポリマーである共重合体組成物溶液B−2〜B−7、及び硬化剤をそれぞれ表5に示した種類と量で使用した以外は、実施例6で行ったと同様の方法で、各粘着剤組成物を得た。そして、得られた粘着剤組成物を用い、実施例6で行ったと同様の方法で、表面保護フィルムを作製した。さらに、得られた表面保護フィルムを、23℃、50%RH中で7日間養生し、各評価試験の試料とし、実施例6と同様に評価を行い、評価結果を表5及び6に示した。
<Examples 7 to 12 and Comparative Examples 6 to 8>
Copolymer composition solution A-1 or A-2 obtained above, the type shown copolymer composition is a polymer of additive solution B-2 to B-7, and a curing agent in Tables 5 Each pressure-sensitive adhesive composition was obtained in the same manner as in Example 6 except that it was used in an amount. And the surface protection film was produced by the method similar to having performed in Example 6 using the obtained adhesive composition. Furthermore, the obtained surface protective film was cured for 7 days at 23 ° C. and 50% RH, and it was evaluated in the same manner as in Example 6 as a sample for each evaluation test. The evaluation results are shown in Tables 5 and 6. .

Figure 2011063712
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<結果2>
表5及び表6を比較した結果、下記の点がわかる。粘着剤に帯電防止剤と含フッ素或いは含ケイ素を有するアクリル系ポリマーを添加した実施例では、これを含まない比較例と比べて剥離帯電圧が格段に低くなることを確認した。さらに、粘着剤層の表面抵抗値も、添加しないものと比較して低減しており、静電気の発生自体が低減していることを確認した。また、剥離試験時における被着体汚染を観察したところ、実施例の場合は、いずれも汚染は認められなかった。
<Result 2>
As a result of comparing Table 5 and Table 6, the following points can be understood. In the embodiment of adding an acrylic polymer having an antistatic agent and a fluorine-containing or silicon-containing pressure-sensitive adhesive, the peeling electrification voltage was confirmed that the much lower than the comparative examples do not. Furthermore, the surface resistance value of the pressure-sensitive adhesive layer was also reduced as compared with those not added, and it was confirmed that the generation of static electricity itself was reduced. Moreover, when the adherend contamination during the peel test was observed, no contamination was observed in any of the examples.

Claims (4)

含フッ素化合物又は含ケイ素化合物を用いての処理によって形成された機能性層を被着体とし、該被着体に貼付される表面保護フィルムであって、基材フィルム表面に形成した粘着剤層を有し、該粘着剤層を構成するアクリル系粘着剤に、少なくとも、帯電防止剤と、アクリル系粘着剤100質量部に対して0.005質量部よりも多く、5質量部よりも少ない範囲で、その構造中にフッ素或いはケイ素を含有する化合物を外添されてなることを特徴とする表面保護フィルム。   A functional protective layer formed by treatment with a fluorine-containing compound or a silicon-containing compound as an adherend, and a surface protective film to be attached to the adherend, the adhesive layer formed on the surface of the base film In the acrylic pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-sensitive adhesive layer, at least the antistatic agent and the acrylic pressure-sensitive adhesive in an amount of more than 0.005 parts by mass and less than 5 parts by mass A surface protective film obtained by externally adding a compound containing fluorine or silicon in the structure. 前記その構造中にフッ素或いはケイ素を含有する化合物が、ポリエーテル変性ポリオルガノシロキサン、含フッ素アルキル基含有のフッ素系界面活性剤、その構造中にフッ素或いはケイ素を含有するアクリル系ポリマー、のいずれかから選択される請求項1に記載の表面保護フィルム。   The compound containing fluorine or silicon in the structure is any one of a polyether-modified polyorganosiloxane, a fluorine-containing alkyl group-containing fluorosurfactant, and an acrylic polymer containing fluorine or silicon in the structure. The surface protective film according to claim 1, selected from: 前記その構造中にフッ素或いはケイ素を含有する化合物が、アクリル系粘着剤100質量部に対して、0.05〜3質量部の範囲で、且つ、前記帯電防止剤が、アクリル系粘着剤100質量部に対して、0.1〜3質量部の範囲で外添されている請求項1又は2に記載の表面保護フィルム。   The compound containing fluorine or silicon in the structure is in a range of 0.05 to 3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acrylic adhesive, and the antistatic agent is 100 parts by mass of the acrylic adhesive. The surface protective film according to claim 1, wherein the surface protective film is externally added in a range of 0.1 to 3 parts by mass with respect to parts. 前記被着体が、偏光板の表面に形成されている請求項1〜3のいずれか1項に記載の表面保護フィルム。   The surface protection film according to claim 1, wherein the adherend is formed on a surface of a polarizing plate.
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