JP2011054497A - 断面加工観察方法および装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】集束イオンビームによるエッチング加工で試料に断面を形成し、集束イオンビームによる断面観察で断面観察像を取得し、断面を含む領域をエッチング加工して新たな断面を形成し、新たな断面の断面観察像を取得する断面加工観察方法において、試料上のマークと断面を含む領域に集束イオンビームを照射し表面観察像を取得し、表面観察像でマークの位置を認識し、マークの位置を基準にして新たな断面を形成するための集束イオンビームの照射領域を設定して試料断面のエッチング加工を行うことを特徴とする断面加工観察方法を用いる。
【選択図】図1
Description
また、断面加工でエッチング加工が足りないため加工残りが生じることがある。そのとき、上記の加工枠の設定により加工残りを正確に処理する(追加加工)ことができる。
Claims (10)
- 集束イオンビームによるエッチング加工で試料に断面を形成し、
前記試料を傾斜して前記集束イオンビームによる断面観察で断面観察像を取得し、
前記試料の傾斜を元に戻して前記断面を含む領域をエッチング加工して新たな断面を形成し、
前記試料を傾斜して前記新たな断面の断面観察像を取得する断面加工観察方法において、
前記試料上の位置を示すマークと前記断面を含む領域に前記集束イオンビームを照射し表面観察像を取得し、
前記表面観察像で前記マークの位置を認識し、前記マークの位置を基準にして前記新たな断面を形成するための前記集束イオンビームの照射領域を設定して前記試料断面のエッチング加工を行う断面加工観察方法。 - 前記マークは前記集束イオンビームによるエッチング加工により形成する請求項1に記載の断面加工観察方法。
- 前記マークは前記試料に原料ガスを吹き付け、前記集束イオンビームを照射してデポジションにより形成する請求項1に記載の断面加工観察方法。
- 前記マークは前記試料上の位置を示す特徴部である請求項1に記載の断面加工観察方法。
- 前記新たな断面を形成するための前記集束イオンビームの照射領域は、前記断面に隣接する領域である請求項1から4のいずれか一つに記載の断面加工観察方法。
- 前記新たな断面を形成するための前記集束イオンビームの照射領域の大きさは、前記断面を形成するための前記集束イオンビームの照射領域の大きさと同じである請求項1から5のいずれか一つに記載の断面加工観察方法。
- 前記集束イオンビームの照射領域は、前記表面観察像上に加工枠として表示する請求項1から6のいずれか一つに記載の断面加工観察方法。
- 前記断面観察を行うために用いる前記集束イオンビームのビーム電流を、前記断面を形成するために用いる前記集束イオンビームのビーム電流よりも小さいビーム電流に切り替える請求項1から7のいずれか一つに記載の断面加工観察方法。
- 集束イオンビームによるエッチング加工で試料に断面を形成し、
前記試料を傾斜して前記集束イオンビームによる断面観察で断面観察像を取得する断面加工観察方法において、
前記断面観察像を取得した後に前記試料を傾斜し、前記試料上の位置を示すマークと前記断面を含む領域に前記集束イオンビームを照射し表面観察像を取得し、
前記表面観察像で前記マークの位置を認識し、前記マークの位置を基準にして前記断面を追加加工するための前記集束イオンビームの照射領域を設定して前記試料のエッチング加工を行う断面加工観察方法。 - 試料を加工する断面加工観察装置において、
集束イオビーム照射部と、
試料を載置する試料台と、
試料台を傾斜させる試料台傾斜部と、
前記集束イオンビームを前記試料に照射し、前記試料から発生した二次粒子を検出する二次粒子検出部と、
前記二次粒子検出部からの信号に基づいて観察像を形成する観察像形成部と、
前記観察像を表示する表示部と、
前記観察像上の位置を示すマークの位置を基準にして前記集束イオンビームの照射領域を設定する照射領域設定部と、
を有する断面加工観察装置。
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