JP2011012789A - 直線案内装置及び基板搬送装置並びに基板処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】直線案内装置への潤滑剤の供給を容易かつ安定して行うことができる技術を提供すること。
【解決手段】Ｙ軸移動基体４１により、潤滑剤注入口４４と給脂ロッド７の先端部とを嵌合させた状態で当該給脂ロッド７を押圧すると、給脂ロッド７の基端側のピストン７１が移動して、シリンダ室６１の圧力が給脂ロッド７内の潤滑剤供給路７３の圧力よりも高くなる。シリンダ室６１内はグリスで充填されているため、第１の逆止弁７５ａが開いて当該潤滑剤供給路７３内にグリスが取り込まれて、潤滑剤注入口４４を介してＹ軸移動基体４１に供給される。Ｙ軸移動基体４１を退行させて給脂ロッド７の押圧を解除すると、給脂ロッド７がバネ７２により復帰しようとし、潤滑剤貯留室６４の圧力がシリンダ室６１よりも高くなるので、第２の逆止弁６２が開いてシリンダ室６１内にグリスが補充される。
【選択図】図５

Description

本発明は、直線状に伸びる案内軌道に沿って摺動する移動基体に潤滑剤を供給する機構を備えた直線案内装置と、この直線案内装置を用いた基板搬送装置及び基板処理装置に関する。

半導体デバイスやＬＣＤ基板の製造プロセスにおいては、装置内に基板に対して処理を行うモジュールを複数個設け、これらモジュールに基板搬送装置により基板を順次搬送して、所定の処理が行なわれている。前記基板搬送装置は、基板を保持するフォークが進退自在、鉛直軸周りに回転自在、昇降自在、さらには装置の縦方向又は横方向に移動自在に構成されている。このような基板搬送装置では、フォークが基台に沿って摺動したり、フォークを搭載した基台が案内ガイドに沿って摺動する。この際、摺動動作がスムーズに行われない場合には、基板を安定して搬送できなくなるため、所定のタイミングで潤滑剤例えばグリスを摺動する部材同士の間に給脂し、スムーズな摺動の継続を確保している。

前記給脂作業は、装置を停止し、作業者が例えばフォークや基台等の摺動体に設けられた給脂孔にグリスガンを用いてグリスを注入することにより行われる。この際給脂孔を露出させるために、案内ガイドのカバーや、給脂孔を塞ぐように設けられたネジの脱着が必要である場合もあり、グリスの注入以外にも手間や時間がかかる。このため装置の停止時間が長くなり、生産性が低下するという問題が発生する。また作業者によってグリスの給脂量がばらつくため、次回の給脂タイミングの前にグリス量が不足してしまうという事態が発生するおそれもある。

そこで本発明者らは自動的に給脂できる機構について検討している。特許文献１には、軌道レールに沿って移動する摺動台に潤滑剤供給装置が設けられた構成が記載されている。この潤滑剤供給装置は、筐体内に潤滑剤吸貯体を設けて構成され、前記潤滑剤吸貯体に吸貯されている潤滑剤を塗布片を介して機動レールと摺動体との間に供給するように構成されている。

しかしながらこの構成では、潤滑剤吸貯体は摺動台に設けられているので、当該吸貯体に潤滑剤を補充するときには、装置を停止して、作業者が補充作業を行わなければならず、結果として上述の本発明の課題を解決することはできない。

特開２００３-２２２１２７号公報

本発明は、このような事情の下になされたものであり、直線案内装置への潤滑剤の供給を容易かつ安定して行うことができる技術を提供することにある。

このため本発明の直線案内装置は、
直線状に伸びる案内軌道に沿って移動基体を駆動機構により摺動移動させる直線案内装置において、
前記移動基体における移動方向の一方側の端面に形成された凹部状の潤滑剤注入口と、
前記案内軌道における端部に固定して設けられたシリンダ室と、
前記移動基体に潤滑剤を供給するための給脂機構と、を備え、
前記給脂機構は、
このシリンダ室内に嵌合した状態で移動基体の移動方向に移動自在に設けられ、その先端部が前記潤滑剤注入口に突出すると共に当該注入口に嵌合するように構成された給脂用のピストンロッドと、
前記ピストンロッド内に設けられ、その一端側が前記先端部に開口すると共に、その他端側がシリンダ室内においてピストンロッドのピストン部分に対して前記先端部とは反対側の領域に第１の逆止弁を介して開口する潤滑剤供給路と、
前記ピストンロッドに対して前記移動基体側に付勢力を作用させるための付勢手段と、
前記シリンダ室に潤滑剤を補充するために、当該シリンダ室内においてピストンロッドのピストン部分に対して前記先端部とは反対側の領域に第２の逆止弁を介して接続された潤滑剤貯留室と、
前記移動基体により、前記潤滑剤注入口とピストンロッドの先端部とを嵌合させた状態で前記付勢手段の付勢力に抗して当該ピストンロッドを押圧し、次いで当該移動基体を退行させてピストンロッドの押圧を解除するように前記駆動機構を制御する手段と、を備え、
前記第１の逆止弁は、潤滑剤供給路よりもシリンダ室内の圧力が高くなったときに開き、前記第２の逆止弁はシリンダ室内よりも潤滑剤貯留室の圧力が高くなったときに開き、
前記ピストンロッドが移動基体に押圧されたときにシリンダ室内の潤滑剤が前記潤滑剤注入口に供給され、当該ピストンロッドが付勢手段により復帰するときに潤滑剤貯留室からシリンダ室に潤滑剤が補充されることを特徴とする。

ここで前記潤滑剤供給路は、他端側がシリンダ室内においてピストンロッドのピストン部分に対して前記先端部とは反対側の領域に第１の逆止弁を介して開口する代わりに、他端側がシリンダ室内においてピストンロッドのピストン部分に対して前記先端部側の領域に第１の逆止弁を介して開口し、
潤滑剤貯留室は、前記シリンダ室内においてピストンロッドのピストン部分に対して前記先端部とは反対側の領域に第２の逆止弁を介して接続される代わりに、前記シリンダ室内においてピストンロッドのピストン部分に対して前記先端部側の領域に第２の逆止弁を介して接続され、
前記ピストンロッドが移動基体により押圧されたときに、シリンダ室内の潤滑剤が前記潤滑剤注入口に供給される代わりに潤滑剤貯留室からシリンダ室に潤滑剤が補充され、
当該ピストンロッドが付勢手段により復帰するときに、潤滑剤貯留室からシリンダ室に潤滑剤が補充される代わりにシリンダ室内の潤滑剤が前記潤滑剤注入口に供給されるように構成してもよい。

また前記シリンダ室と前記潤滑剤貯留室とが第２の逆止弁を介して接続される代わりに第２の逆止弁を介さずに直接接続され、前記潤滑剤貯留室と大気雰囲気との間には、当該潤滑剤貯留室内の圧力が大気雰囲気よりも低くなったときに開く第２の逆止弁が介在するように構成してもよい。

さらに本発明の基板搬送装置は、上述の直線案内装置における移動基体に、基板を保持する保持部材を設けたことを特徴とする。さらにまた本発明の基板処理装置は、基板を載置するか又は処理する複数の基板載置部を備え、この基板載置部同士に対して、前記基板搬送装置により基板を搬送することを特徴とする。

本発明によれば、駆動機構により移動基体側を移動させて、給脂ロッドを押圧することにより給脂ロッドから移動基体に給脂しているので、所定のタイミングで作業者の手を介することなく自動的に容易に給脂を行うことができる。また給脂ロッドの押圧量に応じた潤滑剤が移動基体に給脂されるので、潤滑剤の給脂量が安定する。さらに給脂を行う度に潤滑剤貯留室から潤滑剤がシリンダ室に補充されるので、シリンダ室内の潤滑剤量が安定し、安定した給脂を行うことができる。

本発明に係るレジストパターン形成装置の実施の形態を示す平面図である。 前記レジストパターン形成装置を示す斜視図である。 前記レジストパターン形成装置を示す側部断面図である。 前記レジストパターン形成装置に設けられたキャリアブロックの受け渡し手段を示す概略斜視図である。 前記受け渡し手段のＹ軸給脂ユニットの一例を示す断面図である。 前記Ｙ軸給脂ユニットに設けられた第１の逆止弁を説明するための断面図である。 前記Ｙ軸給脂ユニットの作用を説明するための断面図である。 前記Ｙ軸給脂ユニットの他の例を示す断面図である。 前記Ｙ軸給脂ユニットのさらに他の例を示す断面図である。 図８に示すＹ軸給脂ユニットの作用を説明するための断面図である。 Ｚ軸給脂ユニット及びＸ軸給脂ユニットを説明するための正面図及び側面図である。

以下本発明の直線案内装置を備えた基板処理装置を、塗布、現像装置に適用した場合を例にして説明する。先ず前記塗布、現像装置に露光装置を接続したレジストパターン形成装置について、図面を参照しながら簡単に説明する。図１は、前記レジストパターン形成装置の一実施の形態の平面図を示し、図２は同概略斜視図である。この装置には、キャリアブロックＳ１が設けられており、このブロックＳ１では、載置台１１上に載置された密閉型のキャリア１０から基板搬送装置をなす受け渡し手段ＣがウエハＷを取り出して、当該ブロックＳ１に隣接された処理ブロックＳ２に受け渡すと共に、前記受け渡し手段Ｃが、処理ブロックＳ２にて処理された処理済みのウエハＷを受け取って前記キャリア１０に戻すように構成されている。前記受け渡し手段Ｃは本発明の直線案内装置を備えるものであり、後で詳述する。

前記処理ブロックＳ２には、図２に示すように、この例では現像処理を行うための第１のブロック（ＤＥＶ層）Ｂ１、レジスト膜の下層側に形成される反射防止膜の形成処理を行なうための第２のブロック（ＢＣＴ層）Ｂ２、レジスト液の塗布処理を行うための第３のブロック（ＣＯＴ層）Ｂ３、レジスト膜の上層側に形成される反射防止膜の形成処理を行なうための第４のブロック（ＴＣＴ層）Ｂ４を下から順に積層して構成されている。

第２のブロック（ＢＣＴ層）Ｂ２と第４のブロック（ＴＣＴ層）Ｂ４とは、各々反射防止膜を形成するための薬液をスピンコーティングにより塗布する塗布ユニットと、この塗布ユニットにて行われる処理の前処理及び後処理を行うための加熱・冷却系の処理ユニット群と、前記塗布ユニットと処理ユニット群との間に設けられ、これらの間でウエハＷの受け渡しを行なう搬送アームＡ２，Ａ４と、を備えている。第３のブロック（ＣＯＴ層）Ｂ３においても、前記薬液がレジスト液であることを除けば同様の構成である。

一方、第１の処理ブロック（ＤＥＶ層）Ｂ１については、一つのＤＥＶ層Ｂ１内に現像ユニット１２が２段に積層されている。そして当該ＤＥＶ層Ｂ１内には、これら２段の現像ユニット１２にウエハＷを搬送するための搬送アームＡ１が設けられている。つまり２段の現像ユニット１２に対して搬送アームＡ１が共通化されている構成となっている。

さらに処理ブロックＳ２には、図１及び図３に示すように、棚ユニットＵ１が設けられ、この棚ユニットＵ１の各部同士の間では、前記棚ユニットＵ１の近傍に設けられた昇降自在な受け渡しアームＤによってウエハＷが搬送される。キャリアブロックＳ１からのウエハＷは前記棚ユニットＵ１の一つの受け渡しユニット、例えば第２のブロック（ＢＣＴ層）Ｂ２の対応する受け渡しユニットＣＰＬ２に受け渡し手段Ｃによって順次搬送される。第２のブロック（ＢＣＴ層）Ｂ２内の搬送アームＡ２は、この受け渡しユニットＣＰＬ２からウエハＷを受け取って各ユニット（反射防止膜ユニット及び加熱・冷却系の処理ユニット群）に搬送し、これらユニットにてウエハＷには反射防止膜が形成される。

その後、ウエハＷは棚ユニットＵ１の受け渡しユニットＢＦ２、受け渡しアームＤ、棚ユニットＵ１の受け渡しユニットＣＰＬ３及び搬送アームＡ３を介して第３のブロック（ＣＯＴ層）Ｂ３に搬入され、レジスト膜が形成される。こうしてレジスト膜が形成されたウエハＷは、搬送アームＡ３を介して、棚ユニットＵ１の受け渡しユニットＢＦ３に受け渡される。なおレジスト膜が形成されたウエハＷは、第４のブロック（ＴＣＴ層）Ｂ４にて更に反射防止膜が形成される場合もある。この場合は、ウエハＷは受け渡しユニットＣＰＬ４を介して搬送アームＡ４に受け渡され、反射防止膜が形成された後、搬送アームＡ４により受け渡しユニットＴＲＳ４に受け渡される。

一方ＤＥＶ層Ｂ１内の上部には、棚ユニットＵ１に設けられた受け渡しユニットＣＰＬ１１から棚ユニットＵ２に設けられた受け渡しユニットＣＰＬ１２にウエハＷを直接搬送するための専用の搬送手段であるシャトルアームＥが設けられている。レジスト膜やさらに反射防止膜が形成されたウエハＷは、受け渡しアームＤにより受け渡しユニットＢＦ３、ＴＲＳ４を介して受け渡しユニットＣＰＬ１１に受け渡され、ここからシャトルアームＥにより棚ユニットＵ２の受け渡しユニットＣＰＬ１２に直接搬送され、インターフェイスブロックＳ３に取り込まれることになる。なお図３中のＣＰＬが付されている受け渡しユニットは、温調用の冷却ユニットを兼ねており、ＢＦが付されている受け渡しユニットは、複数枚のウエハＷを載置可能なバッファユニットを兼ねている。

次いで、ウエハＷはインターフェイスアームＦにより露光装置Ｓ４に搬送され、ここで所定の露光処理が行われた後、棚ユニットＵ２の受け渡しユニットＴＲＳ６に載置されて処理ブロックＳ２に戻される。戻されたウエハＷは、第１のブロック（ＤＥＶ層）Ｂ１にて現像処理が行われ、搬送アームＡ１により棚ユニットＵ１における受け渡し手段Ｃのアクセス範囲の受け渡し台に搬送され、受け渡し手段Ｃを介してキャリア１０に戻される。なお図１においてＵ３は加熱部と冷却部とを積層した熱系ユニット群である。

そして上述のレジストパターン形成装置は、各処理モジュールのレシピの管理や、ウエハＷの搬送フロー（搬送経路）のレシピの管理、各処理モジュールにおける処理や、受け渡し手段Ｃ、搬送アームＡ１〜Ａ４、受け渡しアームＤ、シャトルアームＥ，インターフェイスアームＦ等の駆動制御を行うコンピュータからなる制御部２を備えている。この制御部２は、例えばコンピュータプログラムからなるプログラム格納部を有しており、このプログラム格納部には、レジストパターン形成装置全体の作用、つまりウエハＷに対して所定のレジストパターンを形成するための、各モジュールにおける処理や、ウエハＷの搬送、後述する給脂処理が実施されるようにステップ（命令）群を備えた例えばソフトウェアからなるプログラムが格納される。そして、これらプログラムが制御部２に読み出されることにより、制御部２によってレジストパターン形成装置全体の作用が制御される。なおこのプログラムは、例えばフレキシブルディスク、ハードディスク、コンパクトディスク、マグネットオプティカルディスク、メモリーカード等の記憶媒体に収納された状態でプログラム格納部に格納される。

続いて前記キャリアブロックＳ１に設けられた受け渡し手段Ｃについて説明する。この受け渡し手段Ｃは、図１及び図４に示すように、ウエハＷを保持する保持部材をなすフォーク３１が基台３２に沿って進退自在（図４中Ｘ軸方向に移動自在）に構成されると共に、前記基台３２が回転機構３３により鉛直軸まわりに回転自在に構成されている。前記フォーク３１は、その基端側が支持部材３０に支持され、この支持部材３０が基台３２内部に設けられたタイミングベルトを用いた駆動機構により基台３２に沿って移動するように構成されている。

前記回転機構３３の下方側には昇降台３４が設けられており、この昇降台３４は上下方向（Ｚ軸方向）に直線状に伸びるＺ軸ガイドレール３５に沿って昇降自在に設けられている。詳しくは昇降台３４の左右両側には夫々Ｚ軸ガイドレール３５が設けられていると共に、昇降台３４の左右両側には夫々Ｚ軸移動基体３６（３６Ａ，３６Ｂ、図９参照）が取り付けられている。そしてこれらＺ軸移動基体３６が夫々駆動機構により駆動されてＺ軸ガイドレール３５に沿って摺動するようになっている。例えばＺ軸移動基体３６の駆動機構としては、タイミングベルトを用いた機構やボールネジ機構等、周知の構成を用いることができる。この例ではＺ軸ガイドレール３５及び駆動機構は夫々カバー体３７により覆われており、これらカバー体３７は例えば上部側にて接続されて一体となっている。

前期Ｚ軸ガイドレール３５及びカバー体３７の下方側は共通のＹ軸移動基体４１に取り付けられている。このＹ軸移動基体４１は、Ｙ軸方向に直線状に伸びるＹ軸ガイドレール４２に沿って、駆動機構５により摺動移動するように構成されている。この例におけるＹ軸移動基体４１の駆動機構５としては、図１に示すようにタイミングベルト５１を用いた機構が用いられている。このタイミングベルト５１はＹ軸方向に沿って伸びるように、モータＭにより駆動する駆動プーリ５２と従動プーリ５３の間に架け渡され、モータＭの回転により、図中Ｙ軸方向の一方側及び他方側に移動自在に構成されている。

一方前記Ｙ軸移動基体４１はブラケット４３を介してタイミングベルト５１に接続されている。ここでタイミングベルト５１の表面全体には、図４に示すように凹凸５１ａが形成される一方、ブラケット４３の表面にも前記凹凸５１ａと係合する凹凸４３ａが形成されている。そしてタイミングベルト５１の凹凸５１ａとブラケット４３の凹凸４３ａとが互いに係合しながらＹ軸方向に移動することにより、Ｙ軸移動基体４１がＹ軸ガイドレール４２に沿って摺動移動することになる。

この際例えばＹ軸ガイドレール４２には、その長さ方向に沿って図示しないボール（転動体）の転送面が形成され、Ｙ軸移動基体４１とＹ軸ガイドレール４２とは前記ボールを介して接触するように構成されている。こうして前記フォーク３１は、進退自在、昇降自在、鉛直軸周りに回転自在及びキャリア１０の配列方向（Ｙ軸方向）に移動自在に設けられることになる。

ここで前記基台３２、Ｙ軸ガイドレール４２及びＺ軸ガイドレール３５は、夫々本発明の案内軌道に相当し、フォーク３１の支持部材３０、Ｙ軸移動基体４１及びＺ軸移動基体３６は本発明の移動基体に夫々相当する。以下では、Ｙ軸ガイドレール４２及びＹ軸移動基体４１を例にして説明する。

前記Ｙ軸ガイドレール４２は、図１に示すように、キャリア１０の配列方向に沿って設けられており、当該Ｙ軸ガイドレール４２における一端側近傍には、Ｙ軸給脂ユニット６が設けられている。このＹ軸給脂ユニット６は、前記Ｙ軸移動基体４１に対して潤滑剤を供給する役割を果たすものであり、前記フォーク３１が前記キャリアブロックＳ１における一端側のキャリア１０Ａに対してアクセスするときにＹ軸移動基体４１と緩衝しないように配置されている。このＹ軸給脂ユニット６は例えばキャリアブロックＳ１のベースプレート１３に固定して設けられている。

前記Ｙ軸給脂ユニット６は、図５に示すように、前記Ｙ軸移動基体４１の移動方向（Ｙ軸方向）に伸びるシリンダ室６１と、前記Ｙ軸移動基体４１に潤滑剤を供給するための給脂機構６０とを備えている。前記シリンダ室６１には潤滑剤が充填されており、この潤滑剤としては、鉱物グリスや化学合成グリス、オイル、シリコン系の油脂を用いることができる。

続いて前記給脂機構６０について説明する。この給脂機構６０は、前記シリンダ室６１内に嵌合した状態でＹ軸移動基体４１の移動方向に移動自在に設けられた給脂用のピストンロッドをなす給脂ロッド７を備えている。この給脂ロッド７の先端領域はシリンダ室６１からＹ軸移動基体４１側に向けて突出するように設けられると共に、シリンダ室６１内におけるその基端側近傍にはピストン７１が設けられている。このピストン７１は前記シリンダ室６１の内壁に対して摺動した状態でＹ軸方向に移動可能に構成され、これにより前記給脂ロッド７は、シリンダ室６１の一端を押圧自在に塞ぐことになる。また給脂ロッド７の基端部は付勢手段をなすバネ７２を介してシリンダ室６１の内壁と接続されており、このバネ７２は給脂ロッド７２に対して前記Ｙ軸移動基体４１側に付勢力を作用させている。付勢手段としては、バネ７２以外にシリコンゴムやシリコンゴムスポンジ等を用いることができる。

前記給脂ロッド７の内部には潤滑剤供給路７３が形成されている。この潤滑剤供給路７３は、その一端側が前記先端部において潤滑剤吐出口７４として開口し、その他端側がシリンダ室６１内において前記ピストン７１に対して前記先端部とは反対側の領域Ｓ１に第１の逆止弁７５ａを介して潤滑剤供給口７５として開口している。この第１の逆止弁７５ａは、潤滑剤供給路７３内の圧力Ｐ１よりもシリンダ室６１における前記領域Ｓ１の圧力Ｐ２が高くなったときに開くように構成されている。

この第１の逆止弁７５ａの構造について、図６を用いて説明する。本発明でいう逆止弁とは、流体である潤滑剤を一方向に通流させ、逆流を防止する弁のことであり、通常の通流方向に対して逆圧がかかった場合に閉じて、逆流を防止する。この例では逆止弁７５ａは、給脂ロッド７の潤滑剤供給口７５の外側に設けられた弁本体１００と、当該弁本体１００に設けられた潤滑剤通流口１０１と、弁本体１００の内部に移動可能に設けられたボール体１０２とを備えている。

この逆止弁７５ａでは、通常の通流方向に対して逆圧がかかった場合、つまり潤滑剤供給路７３内の圧力Ｐ１よりもシリンダ室６１内の圧力Ｐ２が低いときには、図６（ａ）に示すように、前記ボール体１０２が負圧により潤滑剤通流口１０１側に押し付けられて、当該潤滑剤通流口１０１を塞ぐように構成されている。この場合には、潤滑剤供給路７３内とシリンダ室６１内とは連通せず、第１の逆止弁７５ａは閉じた状態となる。

また潤滑剤供給路７３内の圧力Ｐ１よりもシリンダ室６１内の圧力Ｐ２が高いときには、図６（ｂ）に示すように、前記ボール体１０２は潤滑剤通流口１０１側から離れて、当該潤滑剤通流口１０１を開くように構成されている。この場合には、潤滑剤供給路７３内とシリンダ室６１内とが連通し、第１の逆止弁７５ａは開いた状態となる。

また給脂ロッド７における先端領域は、先端部に向けて徐々に細くなるようなノズル状に構成されると共に、給脂ロッド７におけるＹ軸給脂ユニット６から突出した領域には、その周囲に位置決め用のフランジ７６が形成されている。このフランジ７６は、後述するようにＹ軸移動基体４１により給脂ロッド７を押圧するときに、Ｙ軸移動基体４１を給脂ロッド７に対して所定位置に固定した状態で押圧する役割を果たす。またＹ軸移動基体４１により給脂ロッド７を押圧したとき、当該押圧ロッド７の押圧終了位置を決定する役割も果たしている。

さらにシリンダ室６１と給脂ロッド７との接合面や、給脂ロッド７とピストン７１との接合面、ピストン７１とシリンダ室６１との接合面には、夫々シール部材をなす例えばＯリング７７ａ，７７ｂ，７７ｃが設けられている。

さらにまたシリンダ室６１の上部側には潤滑剤が貯留される潤滑剤貯留室６４が設けられている。このシリンダ室６１と潤滑剤貯留室６４との間は、シリンダ室６１内における前記領域Ｓ１において、第２の逆止弁６２を備えた通流口６３により接続されている。この第２の逆止弁６２は、シリンダ室６１内における前記領域Ｓ１の圧力Ｐ２よりも潤滑剤貯留室６４内の圧力Ｐ３が高くなったときに開くように構成されている。

当該第２の逆止弁６２も第１の逆止弁７５ａと同様に構成され、この場合には図６（ａ）におけるシリンダ室６１が潤滑剤貯留室６４に相当し、潤滑剤通路７３がシリンダ室６１に相当する。前記ボール体１０２は、通常の通流方向に対して逆圧がかかった場合、つまりシリンダ室６１内の前記領域Ｓ１内の圧力Ｐ２よりも潤滑剤貯留室６４内の圧力Ｐ３が低いときには、図６（ａ）に示すように、負圧によりボール１０２が潤滑剤通流口１０１側に押し付けられて、当該潤滑剤通流口１０１を塞ぐように構成されている。この場合には、シリンダ室６１内と潤滑剤貯留室６４内とは連通せず、第２の逆止弁６２は閉じた状態となる。

またシリンダ室６１内の前記圧力Ｐ２よりも潤滑剤貯留室６４の圧力Ｐ３が高いときには、図６（ｂ）に示すように、ボール１０２が潤滑剤通流口１０１側から離れて、当該潤滑剤通流口１０１を開くように構成されている。この場合には、シリンダ室６１内と潤滑剤貯留室６４とが連通し、第２の逆止弁６２は開いた状態となる。給脂ユニット６においては、給脂ロッド７、ピストン７１、バネ７２、第１の逆止弁７５ａを備えた潤滑剤供給路７３、第２の逆止弁６２を備えた潤滑剤貯留室６４と、により給脂機構６０が構成されている。

一方Ｙ軸移動基体４１側における、Ｙ軸給脂ユニット６に対向する端面には、当該Ｙ軸移動基体４１に潤滑剤を供給するために、潤滑剤注入口４４が形成されている。この潤滑剤注入口４４は、前記給脂ロッド７の先端領域と嵌合する形状の凹部として形成されている。また潤滑剤注入口４４の入り口近傍には、給脂ロッド７と嵌合したときに、これらの間を気密に塞ぐために、シール部材例えばＯリング４７が設けられている。

Ｙ軸移動基体４１における当該潤滑剤注入口４４の下流側の構造については、Ｙ軸移動基体４１と摺動する部材例えばＹ軸ガイドレール４２や、前記図示しない転動体との接合面に対して潤滑剤を供給する構成であれば適宜選択できる。例えば図５に示す例は、Ｙ軸移動基体４１とＹ軸ガイドレール４２との間に開口する潤滑剤吐出部４５を形成し、この潤滑剤吐出部４５と潤滑剤注入口４４とを供給路４６を介して接続するように構成したものである。また例えばＹ軸移動基体４１と摺動する部材との接合面に、例えば潤滑剤を吸貯できる例えばスポンジ状の潤滑剤吸貯体を設け、ここに潤滑剤注入口４４から潤滑剤を供給するように構成してもよい。

続いてこのＹ軸給脂ユニット６を用いたＹ軸移動基体４１への給脂処理について説明する。この給脂処理は、レジストパターン形成装置の全体の動作を統括的に制御する制御部２によって、駆動機構５であるタイミングベルト５１の駆動を制御することによって行われる。Ｙ軸移動基体４１に潤滑剤を供給するために、当該移動基体４１により、潤滑剤注入口４４と給脂ロッド７の先端部とを嵌合させた状態でバネ７２の付勢力に抗して当該給脂ロッド７を押圧したり、前記移動基体４１を退行させて前記給脂ロッド７の押圧を解除するように、前記駆動機構５を制御する手段は当該制御部２に相当する。前記給脂処理は、制御部２により所定のタイミング、例えば所定数のロットのウエハＷに対して処理を行った後、次のロットのウエハＷに対して処理を開始する前のタイミングで実行される。

この給脂処理では、図７（ａ）に示すように、先ずＹ軸移動基体４１を給脂開始位置まで移動する。この給脂開始位置は、通常位置にある給脂ロッド７の先端部とＹ軸移動基体４１の潤滑剤注入口４４とが嵌合し、給脂ロッド７のフランジ７６にＹ軸移動基体４１の端面が当接している位置である。また給脂開始位置は、Ｙ軸移動基体４１が通常のウエハＷの搬送動作で移動する領域よりも外側の位置であるので、この給脂処理を行うときのみ、Ｙ軸移動基体４１がこの位置まで移動する。この際通常位置にある給脂ロッド７では、第１の逆止弁７５ａにより、潤滑剤供給口７４が閉じられており、図７（ａ）では潤滑剤供給口７５が閉じられた状態を示している。また潤滑剤供給路７３には、図５及び図７（ａ）に示すように、前回の給脂処理により残ったグリスがその先端部近傍まで入りこんでいる。

次いで図７（ｂ）に示すように、Ｙ軸移動基体４１をさらにＹ軸給脂ユニット６側に移動する。このようにすると、Ｙ軸移動基体４１は潤滑剤注入口４４に給脂ロッド７の先端部が嵌合した状態でＹ軸給脂ユニット６側に移動し、給脂ロッド７がＹ軸移動基体４１により押圧される。これによりピストン７１がシリンダ室６１内をバネ７２の付勢力に抗してバネ７２側に移動し、こうして給脂ロッド７の周囲に形成されたフランジ７６がシリンダ室６１の外面に当接するまで、Ｙ軸移動基体４１により給脂ロッド７を押圧する。

この段階では、通流口６３の第２の逆止弁６２は閉じられているので、ピストン７１がシリンダ室６１内においてバネ７２側に移動すると、シリンダ室６１内における前記領域Ｓ１の容積が小さくなり、当該領域Ｓ１内の圧力Ｐ２が高くなる。これにより図６（ｂ）に示すように、シリンダ室６１内における当該領域Ｓ１の圧力Ｐ２は潤滑剤供給路６３の圧力Ｐ１よりも高くなるので、第１の逆止弁７５ａが開き、シリンダ室６１内のグリスが潤滑剤供給路７３に流れ込む。なお図６（ｂ）では第１の逆止弁７５ａが開いた状態を示している。一方この潤滑剤供給路７３に新たなグリスが供給されると、当該供給路７３内のグリスはそのまま潤滑剤吐出口７４からＹ軸移動基体４１の潤滑剤注入口４４に流出し、こうしてＹ軸移動基体４１に対してグリスが給脂される。

この際グリスの供給量は、Ｙ軸移動基体４１による給脂ロッド７の押圧力に応じて決定される。つまりピストン７１がシリンダ室６１内をバネ７２側に移動する距離が長い程、シリンダ室６１内における前記領域Ｓ１内の圧力Ｐ２が高まるため、潤滑剤供給路７３を介して、Ｙ軸移動基体４１側へ流れ込むグリスの量が多くなる。

ここでこの例では既述のように、前記Ｙ軸移動基体４１が給脂ロッド７のフランジ７６に当接する位置が、Ｙ軸移動基体４１による給脂ロッド７の押圧開始位置、前記フランジ７６がシリンダ室６１に当接した位置が押圧終了位置となる。つまり前記フランジ７６により押圧開始位置と押圧終了位置とが決定されるため、これらは常に一定となる。従ってシリンダ室６１内にグリスを充填しておき、かつ潤滑剤供給路７３内のグリス量がほぼ同じである場合、給脂ロッド７をＹ軸移動基体４１により押圧すれば、前記押圧開始から押圧終了までに給脂ロッド７からＹ軸移動基体４１に供給されるグリス量はほぼ一定量となる。そしてＹ軸移動基体４１側では、潤滑剤吐出部４５から供給路４６を介してＹ軸移動基体４１とＹ軸ガイドレール４２の接触部にグリスが給脂されることになる。

このようにしてＹ軸移動基体４１により給脂ロッド７を押圧してＹ軸移動基体４１に対して給脂処理を行った後、図７（ｃ）に示すように、Ｙ軸移動基体４１を例えば給脂開始位置よりも退行させ、給脂ロッド７の押圧を解除して給脂処理を終了する。この際給脂ロッド７はバネ７２により押圧前の通常位置まで復帰しようとするが、このときにはピストン７１がＹ軸移動基体４１側へ移動し、シリンダ室６１内における前記領域Ｓ１の容積が大きくなるため、当該領域Ｓ１の圧力Ｐ２が低くなる。こうして潤滑剤貯留室６４内の圧力Ｐ３がリンダ室６１内における前記領域Ｓ１内の圧力Ｐ２よりも高くなると、第２の逆止弁６２が開き、潤滑剤貯留室６４からシリンダ室６１内へグリスが供給される。

この際潤滑剤貯留室６４はシリンダ室６１の上方側に設けられているので、潤滑剤貯留室６４内のグリスは自重によりシリンダ室６１に供給される。そして潤滑剤貯留室６４の圧力Ｐ３とシリンダ室６１における前記領域Ｓ１内の圧力Ｐ２とが平衡状態になるまで、つまりシリンダ室６１内がグリスで充填されるまで供給される。これによりシリンダ室６１には、給脂処理により減少した分量分のグリスが補充されることになる。

一方給脂ロッド７はシリンダ室６１内へのグリスの補充により、当該シリンダ室６１内の圧力Ｐ２が次第に高くなり、バネ７２の復元力により前記基準位置に復帰する。このときには、既述の図６（ａ）に示すように、通常の通流方向に対して逆圧がかかった状態となるので、ボール１０２は負圧により潤滑剤通流口１０１側に押し付けられて、当該潤滑剤通流口１０１を塞ぎ、潤滑剤供給路７３内のグリスがシリンダ室６１へ逆流することが防止される。なお給脂ロッド７の潤滑剤供給路７３では、前記給脂処理にて当該供給路７３から吐出されなかったグリスが当該供給路７３の先端部近傍まで入り込んだ状態となっている。

このように当該実施の形態では、シリンダ室６１内の容量と給脂ロッド７内の潤滑剤供給路７３の容量と、フランジ７６の大きさや、取り付け位置により決定されるピストン７１による押圧量とにより、押圧開始から押圧終了までに給脂ロッド７からＹ軸移動基体４１に供給されるグリス量が決定される。このためこれらを適宜設定することにより、所望の供給量を設定することができる。

上述の実施の形態のＹ軸給脂ユニット６によれば、駆動機構５によりＹ軸移動基体４１側を移動させて給脂ロッド７を押圧することにより、Ｙ軸移動基体４１に対して給脂を行っているので、所定のタイミングで作業者の手を介することなく自動的に容易に給脂を行うことができる。

この際、給脂ロッド７の押圧量に応じたグリスがＹ軸移動基体４１に給脂されるので、グリスの給脂量が安定する。つまり上述の構成では、給脂ロッド７にフランジ７６を形成して、Ｙ軸移動基体４１が給脂ロッド７を押圧する開始位置と、押圧の終了位置とを決定しているため、既述のように常に一定量のグリスをＹ軸移動基体４１側に供給することができる。

また潤滑剤貯留室６４からシリンダ室６１にグリスを補充しているので、シリンダ室６１内のグリス量が安定し、安定した給脂を行うことができる。つまり既述のように、給脂処理毎にシリンダ室６１にグリスが補充することにより、次の給脂処理開始時には、常にシリンダ室６１内にグリスが充填された状態を確保できる。さらに既述のようにＹ軸移動基体４１による給脂ロッド７の押圧量は常に一定である。このためＹ軸移動基体４１により給脂ロッド７を押圧するといった簡易な手法によって、常に一定量のグリスをＹ軸移動基体４１側に供給することができる。

このようにグリスの給脂量にばらつきが生じることがなく、安定した給脂を行うことができるので、本発明の直線案内装置を基板搬送装置である受け渡し手段Ｃに適用した場合には、受け渡し手段Ｃの動作が安定するという効果が得られる。

また本実施の形態の給脂ユニット６を基板処理装置に適用した場合には、装置を停止することなく、あるロットと次のロットとの間等の所定のタイミングで給脂処理を行うことができるので、装置の稼働率の低下を抑えることができる。また装置を停止させなくて済むため、装置を再稼働する際の調整作業が不要となるほか、作業者が給脂処理のために、Ｙ軸移動基体４１におけるカバーの脱着やネジの取り外しなどの作業を行うことがないので、作業者の負担が大幅に軽減され、これらの作業が不要となることから給脂処理に要する時間も短縮される。

さらにまた、Ｙ軸移動基体４１を移動させて給脂ロッド７を押圧することによって給脂が行われるため、給脂処理を実行するために別の駆動機構が不要であり、このため電源やケーブル等の駆動機構に付随する部品も不要となるので、給脂ユニット６を簡易かつ小型な構成とすることができる。

続いて本発明の他の実施の形態について図８を用いて説明する。この例のＹ軸給脂ユニット６５が上述のＹ軸給脂ユニット６と異なる点について、以下に説明するが、上述の実施の形態と同様の構成については同じ符号が付してある。この例のＹ軸給脂ユニット６５が上述のＹ軸給脂ユニット６と異なる点は、シリンダ室６１内において給脂ロッド７のピストン７１に対して先端部側の領域Ｓ２に第１の逆止弁７５ａを介して潤滑剤供給口７５を形成したことと、潤滑剤貯留室６４をシリンダ室６１内における前記領域Ｓ２に第２の逆止弁６２を介して接続したことである。

このような構成では、給脂ロッド７がＹ軸移動基体４１により押圧されると、シリンダ室６１内における前記領域Ｓ２の容積が大きくなるため、この領域Ｓ２の圧力Ｐ４が低くなる。そして潤滑剤貯留室６４の圧力Ｐ３が前記シリンダ室６１における前記領域Ｓ２の圧力Ｐ４よりも高くなると、第２の逆止弁６２が開いて潤滑剤貯留室６４からシリンダ室６１における前記領域Ｓ２に潤滑剤が補充される。

一方Ｙ軸移動基体４１が退行して、給脂ロッド７４の押圧が解除され、給脂ロッド７４がバネ７２により復帰しようとすると、シリンダ室６１における前記領域Ｓ２の容積が小さくなる。このため当該領域Ｓ２の圧力Ｐ４が高くなり、この圧力Ｐ４が給脂ロッド７の潤滑剤供給路７３の圧力Ｐ１よりも高くなると、第１の逆止弁７５ａが開き、当該領域Ｓ２から潤滑剤供給路７３にグリスが供給されて、当該グリスがＹ軸移動基体４１の潤滑剤注入口４４に供給される。

このような実施の形態においても、上述の実施の形態と同様に、駆動機構５によりＹ軸移動基体４１側を移動させて、給脂ロッド７を押圧し、この押圧量に応じたグリスを給脂ロッド７からＹ軸移動基体４１に給脂している。このため所定のタイミングで作業者の手を介することなく自動的に容易に給脂を行うことができる。また給脂ロッド７の押圧量に応じたグリスが給脂されるので、グリスの給脂量が安定する。さらに潤滑剤貯留室６４からグリスをシリンダ室６１に補充しているので、シリンダ室６１内のグリス量が安定し、安定した給脂を行うことができる。この際給脂処理毎に給脂処理により減少したグリスの分量分、シリンダ室６１に補充されるので、シリンダ室６１内のグリス量が一定となる。従って給脂ロッド７の押圧量を一定とすれば、常に給脂量が同じとなり、安定した給脂を行うことができる。

続いて本発明の他の実施の形態について、図９及び図１０を用いて説明する。以下では、この例のＹ軸給脂ユニット８が上述の図５に示す実施の形態と異なる点について説明するが、上述の実施の形態と同様の構成については同じ符号が付してある。シリンダ室６１の構成については上述の実施の形態とほぼ同様であるが、この例のシリンダ室６１は、通常位置におけるピストン７１の位置を規制するために、シリンダ室６１内に突出するピストン押え部材７８を備えている。

この例のＹ軸給脂ユニット８が上述の図５に示す実施の形態と異なる点は、前記シリンダ室６１が潤滑剤貯留室８１とが供給路８２を介して直接接続されており、この潤滑剤貯留室８１と大気雰囲気との間には、潤滑剤貯留室８１内の圧力が大気雰囲気よりも低くなったときに開く第２の逆止弁８３が介在することである。

図９及び図１０を用いて具体的に説明する。この例では、潤滑剤貯留室８１がシリンダ室６１の下方側に設けられており、潤滑剤貯留室８１及びシリンダ室６１は潤滑剤供給路８２により接続されている。また潤滑剤貯留室８１内には、当該貯留室８１内部をシリンダ室６１に直接接続される潤滑剤貯留部８４と、この潤滑剤貯留部８４に隣接する蓄圧部８５とに区画するために、潤滑剤貯留室８１の内壁に対してＹ軸方向に摺動するピストン８６が設けられている。前記蓄圧部８５は、大気雰囲気と第２の逆止弁８３を備えた給気路８７、及びリセットバルブ８８ａを備えた排気路８８を介して接続されている。また前記給気路８７に、一定圧力、例えば０．１ＭＰａの圧縮エアが接続するようにしてもよい。

この例の給脂ユニット８においても、上述の給脂ユニット６と同様に給脂処理が行われる。つまり給脂を行う際には、図１０（ａ）に示すように、Ｙ軸移動基体４１を給脂開始位置（押圧開始位置）まで移動する。この給脂開始位置は、通常位置にある給脂ロッド７とＹ軸移動基体４１の潤滑剤注入口４４とが嵌合し、給脂ロッド７のフランジ７６にＹ軸移動基体４１が当接している位置である。次いで図１０（ｂ）に示すように、Ｙ軸移動基体４１をＹ軸給脂ユニット８側に移動して、こうして通常位置にある給脂ロッド７をフランジ７６がシリンダ室６１に当接する押圧終了位置まで押圧する。これにより既述のように、第１の逆止弁７５ａを開き、シリンダ室６１内のグリスを潤滑剤供給口７５を介して給脂ロッド７内の潤滑剤供給路７３に供給して、潤滑剤吐出口７４からＹ軸移動基体４１の潤滑剤注入口４４に供給する。

こうして給脂処理を行った後、Ｙ軸移動基体４１を、前記給脂開始位置よりも退行させ、給脂ロッド７の押圧を解除して給脂処理を終了する。ここで給脂ロッド７はバネ７２により押圧前の前記通常位置まで復帰しようとするが、この復帰によりシリンダ室６１におけるピストン７１に対して先端部とは反対側の領域Ｓ１の容積が大きくなると、当該領域の圧力Ｐ２は低くなるので、潤滑剤貯留部８４との圧力差により潤滑剤貯留部８４からシリンダ室６１にグリスが供給される。この供給量は、給脂により減少した分量分に相当する。一方給脂ロッド７は、バネ７２の復元力と、シリンダ室６１内の圧力が高くなることにより、押圧前の通常位置に復帰する。

このように潤滑剤貯留部８４からシリンダ室６１内にグリスが供給されると、これに伴ってピストン８６が下流側に移動し、これにより前記蓄圧部８５の容積が大きくなるため、当該蓄圧部８５の圧力Ｐ５が低くなる。こうして蓄圧部８５の圧力Ｐ５が大気雰囲気よりも低くなると、第２の逆止弁８３が開き、大気雰囲気から当該蓄圧部８５に大気が供給される。このとき潤滑剤蓄留室８１内においてピストン８６が図１０（ｃ）に点線で示すように、最下流側に移動した場合には、リセットバルブ８８ａを開くと共に、潤滑剤貯留部８４に図示しない潤滑剤供給機構により新たな潤滑剤を補充して当該ピストン８６を所定位置まで戻す。

このような給脂ユニット８においても、上述の実施の形態と同様に、駆動機構５によりＹ軸移動基体４１側を移動させて、給脂ロッド７を押圧し、この押圧量に応じたグリスを給脂ロッド７からＹ軸移動基体４１に給脂している。このため所定のタイミングで作業者の手を介することなく自動的に容易に給脂を行うことができる。また給脂ロッド７の押圧量に応じたグリスが給脂されるので、グリスの給脂量が安定する。さらに潤滑剤貯留室８１からグリスをシリンダ室６１に補充しているので、シリンダ室６１内のグリス量が安定し、安定した給脂を行うことができる。この際、給脂処理毎に給脂処理により減少したグリスの分量分、シリンダ室６１に補充されるので、シリンダ室６１内のグリス量が一定となる。従って給脂ロッド７の押圧量を一定とすれば、常に給脂量が同じとなり、安定した給脂を行うことができる。

以上、Ｙ軸給脂ユニット６について説明したが、前記受け渡し手段Ｃは、図４及び図１１に示すように、Ｚ軸移動基体３６（３６Ａ，３６Ｂ）にグリスを供給するＺ軸給脂ユニット９１（９１Ａ，９１Ｂ）と、Ｘ軸移動基体であるフォーク３１の支持部材３０にグリスを供給するＸ軸給脂ユニット９２と、を備えている。この例においては、前記Ｚ軸給脂ユニット９１Ａ，９１Ｂは、２つのＺ軸移動基体３６Ａ，３６Ｂに夫々グリスを供給するために、２本のＺ軸ガイドレール３５の上方側の端部に夫々設けられている。この位置は、ウエハの搬送のために移動する領域よりも上方側の位置である。

これらＺ軸給脂ユニット９１は、Ｙ軸給脂ユニット６と同様に構成され、給脂ロッド９３が下方側に突出するように設けられている。一方前記Ｚ軸移動基体３６Ｂの上方側端面には、給脂ロッド９３に嵌合するように潤滑剤注入口９４が形成されており、グリスを給脂するときには、Ｚ軸移動基体３６Ｂを上昇させて給脂ロッド９３を押圧することにより、グリスが潤滑剤注入口９４を介してＺ軸移動基体３６Ｂに供給される。そしてＺ軸移動基体３６Ｂ側では、例えばＺ軸移動基体３６ＢとＺ軸ガイドレール３５との接触面に開口する供給路９４ａを介して、これらの間にグリスが供給される。

またＸ軸給脂ユニット９２は、この例においては、Ｙ軸移動基体４１に対してＹ軸給脂ユニット６から給脂処理を行なうときに、合わせてＺ軸移動基体３６及び支持部材３０への給脂を行うことができるように、Ｙ軸給脂ユニット６の上方側近傍位置に設けられている。つまりＹ軸移動基体４１が給脂処理を行うために、ウエハの搬送のために移動する領域よりも外側に移動したときであって、かつＺ軸移動基体３６が給脂処理を行うために、ウエハの搬送のために移動する領域よりも上方側に移動したときに、支持部材３０への給脂を行うことができるように、その配置場所が設定されている。この際、Ｙ軸移動基体４１やＺ軸移動基体３６は給脂処理時に移動するので、これらが給脂開始位置に移動したとき、給脂終了位置に移動したとき、給脂が終了して給脂開始位置よりも退行した位置にいるときのいずれの場合に支持部材３０への給脂処理を行うようにしてもよい。

このＸ軸給脂ユニット９２は、Ｙ軸給脂ユニット６と同様に構成され、給脂ロッド９５がＸ軸方向に突出するように設けられている。一方前記Ｘ軸移動基体をなす支持部材３０の背面には、給脂ロッド９５に嵌合するように潤滑剤注入口９６が形成されている。そしてグリスを給脂するときには支持部材３０を基台３２に沿って退行させて、前記給脂ロッド９５を押圧することにより、グリスが潤滑剤注入口９６を介してフォークに供給される。一方支持部材３０側では、例えば支持部材３０と基台３２との接触面に開口する供給路９６ａを介して、これらの間にグリスが供給される。なおＸ軸給脂ユニット９２は、支持部材３０が給脂ロッド９５を押圧するときに基台３２と緩衝しないようにその位置や形状が設定される。

このような構成では、Ｙ軸移動基体４１、Ｚ軸移動基体３６Ａ，３６Ｂ、支持部材３０に対して給脂処理を行なうときには、この給脂処理を近くの場所でまとめて行うことができるので、給脂処理に係る時間が短時間で済むというメリットがある。

以上において、以上の給脂ユニット６，８では、給脂ロッド７に設けたフランジ７６により、Ｙ軸移動基体４１による給脂ロッド７の押圧開始や押圧終了を決定するようにしているが、押圧終了はこれに限るものではない。例えばフランジ７６がシリンダ室６１と当接する前に押圧を終了させてもよく、例えば駆動機構５によりＹ軸移動基体４１を所定の位置まで移動させたときに押圧を終了してもよい。この場合、押圧量（Ｙ軸移動基体４１により給脂ロッド７を押圧した距離）に対応するグリスが給脂ロッド７からＹ軸移動基体４１に供給される。

また上述の給脂ユニット６，８では、シリンダ室６１や潤滑剤貯留室６４の周囲に断熱材を設けて、グリスの温度をある温度範囲に保持し、グリスの粘度の変化を抑えることが好ましい。また給脂ロッド７にフランジ７６を設けずに、例えば給脂ユニット６，８側にロッド状の位置決め部材を設け、これをＹ軸移動基体４１に当接させて、押圧開始位置や、押圧終了位置の位置決めを行うようにしてもよい。

さらに本発明の基板搬送装置は、上述のレジストパターン形成装置において、受け渡し手段Ｃのみならず、搬送アームＡ１〜Ａ４、受け渡しアームＤ、シャトルアームＥ、インターフェイスアームＦに適用できる。ここで基板を載置するか又は処理する複数の基板載置部とは、前記レジストパターン形成装置において、基板を処理するモジュールや、受け渡しのために基板が載置されるモジュールや、多数の基板を保持するキャリアやバッファをいう。また本発明の直線案内装置は、物質の搬送以外にも適用でき、例えば移動基体にノズルを固定して当該ノズルを案内軌道に沿って移動させる装置にも適用できる。

Ｗ 半導体ウエハ
Ｃ 受け渡し手段
Ａ１〜Ａ４ 搬送アーム
Ｄ 受け渡しアーム
Ｅ シャトルアーム
Ｆ インターフェイスアーム
２ 制御部
４１ Ｙ軸移動基体
４２ Ｙ軸ガイドレール
４４ 潤滑剤注入口
５ 駆動機構
６ Ｙ軸給脂ユニット
６１ シリンダ室
６３ 第２の逆止弁
６４ 潤滑剤貯留室
７ 給脂用ロッド
７１ ピストン
７３ 潤滑剤供給路
７４ 潤滑剤吐出口
７５ 潤滑剤供給口
７５ａ 第１の逆止弁

Claims (5)

1. 直線状に伸びる案内軌道に沿って移動基体を駆動機構により摺動移動させる直線案内装置において、
   前記移動基体における移動方向の一方側の端面に形成された凹部状の潤滑剤注入口と、
   前記案内軌道における端部に固定して設けられたシリンダ室と、
   前記移動基体に潤滑剤を供給するための給脂機構と、を備え、
   前記給脂機構は、
   このシリンダ室内に嵌合した状態で移動基体の移動方向に移動自在に設けられ、その先端部が前記潤滑剤注入口に突出すると共に当該注入口に嵌合するように構成された給脂用のピストンロッドと、
   前記ピストンロッド内に設けられ、その一端側が前記先端部に開口すると共に、その他端側がシリンダ室内においてピストンロッドのピストン部分に対して前記先端部とは反対側の領域に第１の逆止弁を介して開口する潤滑剤供給路と、
   前記ピストンロッドに対して前記移動基体側に付勢力を作用させるための付勢手段と、
   前記シリンダ室に潤滑剤を補充するために、当該シリンダ室内においてピストンロッドのピストン部分に対して前記先端部とは反対側の領域に第２の逆止弁を介して接続された潤滑剤貯留室と、
   前記移動基体により、前記潤滑剤注入口とピストンロッドの先端部とを嵌合させた状態で前記付勢手段の付勢力に抗して当該ピストンロッドを押圧し、次いで当該移動基体を退行させてピストンロッドの押圧を解除するように前記駆動機構を制御する手段と、を備え、
   前記第１の逆止弁は、潤滑剤供給路よりもシリンダ室内の圧力が高くなったときに開き、前記第２の逆止弁はシリンダ室内よりも潤滑剤貯留室の圧力が高くなったときに開き、
   前記ピストンロッドが移動基体に押圧されたときにシリンダ室内の潤滑剤が前記潤滑剤注入口に供給され、当該ピストンロッドが付勢手段により復帰するときに潤滑剤貯留室からシリンダ室に潤滑剤が補充されることを特徴とする直線案内装置。
2. 潤滑剤供給路は、他端側がシリンダ室内においてピストンロッドのピストン部分に対して前記先端部とは反対側の領域に第１の逆止弁を介して開口する代わりに、他端側がシリンダ室内においてピストンロッドのピストン部分に対して前記先端部側の領域に第１の逆止弁を介して開口し、
   潤滑剤貯留室は、前記シリンダ室内においてピストンロッドのピストン部分に対して前記先端部とは反対側の領域に第２の逆止弁を介して接続される代わりに、前記シリンダ室内においてピストンロッドのピストン部分に対して前記先端部側の領域に第２の逆止弁を介して接続され、
   前記ピストンロッドが移動基体により押圧されたときに、シリンダ室内の潤滑剤が前記潤滑剤注入口に供給される代わりに潤滑剤貯留室からシリンダ室に潤滑剤が補充され、
   当該ピストンロッドが付勢手段により復帰するときに、潤滑剤貯留室からシリンダ室に潤滑剤が補充される代わりにシリンダ室内の潤滑剤が前記潤滑剤注入口に供給されることを特徴とする請求項１記載の直線案内装置。
3. 前記シリンダ室と前記潤滑剤貯留室とが第２の逆止弁を介して接続される代わりに第２の逆止弁を介さずに直接接続され、前記潤滑剤貯留室と大気雰囲気との間には、当該潤滑剤貯留室内の圧力が大気雰囲気よりも低くなったときに開く第２の逆止弁が介在していることを特徴とする請求項１又は２記載の直線案内装置。
4. 請求項１ないし３のいずれか一つに記載の直線案内装置における移動基体に、基板を保持する保持部材を設けたことを特徴とする基板搬送装置。
5. 基板を載置するか又は処理する複数の基板載置部を備え、
   この基板載置部同士に対して、請求項４記載の基板搬送装置により基板を搬送することを特徴とする基板処理装置。

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