CN104511396A - 涂布装置 - Google Patents

涂布装置 Download PDF

Info

Publication number
CN104511396A
CN104511396A CN201410381793.6A CN201410381793A CN104511396A CN 104511396 A CN104511396 A CN 104511396A CN 201410381793 A CN201410381793 A CN 201410381793A CN 104511396 A CN104511396 A CN 104511396A
Authority
CN
China
Prior art keywords
nozzle
scanning direction
coating
sub scanning
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201410381793.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104511396B (zh
Inventor
相良秀一
上野雅敏
高村幸宏
大宅宗明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Publication of CN104511396A publication Critical patent/CN104511396A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN104511396B publication Critical patent/CN104511396B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/02Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
    • B05C5/027Coating heads with several outlets, e.g. aligned transversally to the moving direction of a web to be coated

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

本发明提供一种涂布装置,其可减少被废弃的涂布液的量且提高涂布效率。多个喷嘴包括:第一喷嘴群,在主扫描方向上隔开规定的间隔而排列;以及第二喷嘴群,相对于所述第一喷嘴群而与基板的主面平行且在副扫描方向上隔开间隔而排列。间距调整机构包括:对第一喷嘴群的喷嘴加以保持的滑动格,对第二喷嘴群的喷嘴加以保持的滑动格,从副扫描方向的一侧抵接于滑动格的杆,从副扫描方向的另一侧将滑动格向杆赋能的喷嘴赋能机构,以及对杆的副扫描方向的位置进行调整的驱动机构。

Description

涂布装置
技术领域
本发明涉及一种将涂布液涂布于基板的涂布装置的技术。
背景技术
近年来,开发出一种利用有机电致发光(Electro Luminescence,EL)材料的有机EL显示装置。例如,在使用了高分子有机EL材料的有源矩阵(active matrix)驱动方式的有机EL显示装置的制造中,对玻璃基板(以下简称作“基板”),依次形成薄膜晶体管(Thin Film Transistor,TFT)电路、形成成为阳极的铟锡氧化物(Indium Tin Oxide,ITO)电极、形成间隔壁、涂布包含空穴(hole)传输材料的流动性材料(以下称作“空穴传输液”)、利用加热处理形成空穴传输层、涂布包含有机EL材料的流动性材料(以下称作“有机EL液”)、利用加热处理形成有机EL层、形成阴极、及通过形成绝缘膜而进行密封。
在有机EL显示装置的制造中,作为将空穴传输液或有机EL液涂布于基板的装置,专利文献1所示的装置已为人所知。此种涂布装置中,将连续地喷出流动性材料的多个喷嘴,相对于基板而在主扫描方向及副扫描方向上相对移动,由此将流动性材料条纹状地涂布于基板上。
专利文献1的涂布装置中,从3根喷嘴喷出3种有机EL液,并涂布于预先形成在基板上的涂布区域的间隔壁之间的3个槽中,所述3种有机EL液分别包含红色(R)、绿色(G)、蓝色(G)这3种颜色互不相同的有机EL材料。
该装置中,3根喷嘴由保持构件而保持为一体。而且,通过以与基板垂直的支持轴为中心来转动该保持构件,而可使3根喷嘴的副扫描方向上的间距发生变动。由此,调整有机EL液的涂布间距。
而且,专利文献2的涂布装置中,当因供涂布液涂布的喷嘴的安装误差或制造误差等,而喷嘴间间距变得不均匀时,设置用以使喷嘴间间距均匀化的间距调整机构。
该装置中,各喷嘴搭载于可在副扫描方向上移动的滑块(slider)上。而且,间距调整机构通过使各滑块在副扫描方向上移动,而可使各喷嘴个别地移动。由此,进行各喷嘴的与副扫描方向相关的喷嘴间间距的调整。
[现有技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本专利特开2003-010755号公报
[专利文献2]日本专利特开2008-155138号公报
发明内容
[发明所要解决的问题]
且说,通过增加喷嘴的数量,以一次主扫描方向的移动便可形成多个条纹线,从而可缩短涂布时间。然而,当多个喷嘴在主扫描方向上移动时,因从到达基板的涂布对象区域前开始持续喷出涂布液,所以如果在主扫描方向上增加喷嘴的数量,则喷嘴到达基板的涂布区域为止的距离变长,从而被废弃的涂布液增多。
为了应对所述问题,而考虑缩短在主扫描方向上排列的喷嘴的间隔。然而,在设置如专利文献2所述那样的间距调整机构时,因在缩小该机构自身的尺寸方面存在极限,所以存在不容易缩小主扫描方向的喷嘴间隔的问题。
本发明鉴于所述课题而完成,目的在于提供一种可减少被废弃的涂布液的量且提高涂布效率的技术。
[解决问题的手段]
为了解决所述课题,第一形态为将涂布液涂布于基板上的涂布装置,包括:基板保持部,对基板加以保持;多个喷嘴,朝向所述基板连续地喷出涂布液;喷嘴安装部,安装着所述多个喷嘴;主扫描机构,在与所述基板的主面平行的主扫描方向上,使所述多个喷嘴连同所述喷嘴安装部一起相对于所述基板相对地移动;副扫描机构,在与所述基板的所述主面平行、且与所述主扫描方向交叉的副扫描方向上,使所述多个喷嘴及所述喷嘴安装部相对于所述基板相对地移动;以及间距调整机构,通过使所述多个喷嘴在所述副扫描方向上移动,而对关于所述副扫描方向相互邻接的2个所述喷嘴间的距离进行调整,且所述多个喷嘴包括:在所述主扫描方向上隔开规定的间隔而排列的第一喷嘴群,以及相对于所述第一喷嘴群而在所述副扫描方向上隔开规定的间隔排列的第二喷嘴群。
而且,第二形态在第一形态的涂布装置中,所述间距调整机构包括:喷嘴保持部,可在副扫描方向上移动地保持所述喷嘴;喷嘴抵接部,从所述副扫描方向的一侧抵接于所述喷嘴保持部;喷嘴赋能机构,从所述副扫描方向的另一侧将所述喷嘴保持部向所述喷嘴抵接部赋能;以及驱动机构,对所述喷嘴抵接部的所述副扫描方向的位置进行调整。
而且,第三形态在第二形态的涂布装置中,喷嘴抵接构件配置于对所述第二喷嘴群的喷嘴加以保持的邻接的2个喷嘴保持部间,所述喷嘴抵接构件抵接于对所述第一喷嘴群的喷嘴加以保持的各个所述喷嘴保持部。
而且,第四形态在第二形态的涂布装置中,所述喷嘴赋能机构包括弹性构件,所述弹性构件将对所述第一喷嘴群及所述第二喷嘴群的所述喷嘴加以保持的2个所述喷嘴保持部之间予以连接。
而且,第五形态在第二形态的涂布装置中,所述喷嘴赋能机构包括:楔形抵接构件,以夹住的状态抵接于对所述第一喷嘴群的所述喷嘴及所述第二喷嘴群的2个所述喷嘴分别加以保持的2个所述喷嘴保持部;以及移动机构,使所述楔形抵接构件朝向所述2个喷嘴保持部之间移动。
而且,第六形态在第二形态的涂布装置中,所述喷嘴赋能机构包括磁体,所述磁体配置于对所述第一喷嘴群的所述喷嘴、及所述第二喷嘴群的所述喷嘴分别加以保持的2个所述喷嘴保持部之间,所述2个所述喷嘴保持部包括磁性部,所述磁性部具有相对于所述磁体排斥的磁极。
[发明的效果]
根据第一形态,相对于第一喷嘴群,在副扫描方向上隔开间隔而排列第二喷嘴群,由此可缩短主扫描方向上的两端的喷嘴的距离。因此,可连续地喷出涂布液,且可减少在喷嘴到达基板的涂布区域前被废弃的涂布液的量。并且,通过增加喷嘴的数量而可提高涂布效率。
根据第二形态,可进行副扫描方向上的喷嘴间隔的调整,因而可提高涂布精度。
根据第三形态,可利用通过第二喷嘴群的喷嘴保持部之间的喷嘴保持部,来进行位于离开驱动机构的位置的第一喷嘴群的喷嘴保持部的位置调整。
根据第四形态,可利用1个弹性构件,来将2个喷嘴保持部朝向抵接于各喷嘴保持部的喷嘴抵接部赋能。
根据第五形态,可利用1个楔形构件,来将2个喷嘴保持部朝向抵接于各喷嘴保持部的喷嘴抵接部赋能。
根据第六形态,可利用1个磁体,来将2个喷嘴保持部朝向抵接于各喷嘴保持部的喷嘴抵接部赋能。
附图说明
图1是第一实施方式的涂布装置的俯视图。
图2是第一实施方式的涂布装置的正视图。
图3是涂布头所具备的喷嘴安装部的概略俯视图。
图4是第二实施方式的涂布头所具备的喷嘴安装部的概略俯视图。
图5是第三实施方式的涂布头所具备的喷嘴安装部的概略俯视图。
图6是第三实施方式的喷嘴赋能机构的概略侧视图。
图7是第四实施方式的涂布头所具备的喷嘴安装部的概略俯视图。
图8是第五实施方式的涂布头所具备的喷嘴安装部的概略俯视图。
图9是第六实施方式的涂布头所具备的喷嘴安装部的概略俯视图。
[符号的说明]
1:涂布装置
2:控制部
3、3A、3B、3C、3D、3E:间距调整机构
9:基板
10:平台
11:拍摄部
12:受液部
20:平台移动机构
21:基台
22:副扫描机构
23:支持板
24:旋转机构
30、30A、30B、30C、30D、30E:涂布头
31:喷嘴
31A:第一喷嘴群
31B:第二喷嘴群
32A、32B:滑动格(喷嘴保持部)
33、33B、33C:喷嘴赋能机构
33A、33D、33E:弹性构件(喷嘴赋能机构)
33SA、33SB:抵接面
221:线性电动机
222:导轨
34、34A、34B、34C:喷嘴安装部
3421、3421A:引导槽
3422:开口部
3425、3427:贯通孔
35、35A、35B:位置调整机构
40:涂布液供给机构
41:涂布液积蓄部
42:供给管
50:头移动机构
51:引导构件
52:滑块
53:滑轮
54:同步传送带
91:涂布区域
331:杆
332:赋能致动器
333:楔形抵接构件
334:杆
335:缸体
351、351A、351B:致动器(驱动机构)
352、352A、352B:杆(喷嘴抵接部)
336:磁体
337:磁性体(磁性部)
X、Y、Z:方向
具体实施方式
以下,参照附图对本发明的实施方式的涂布装置1进行说明。另外,附图中,为了容易理解,有时视需要而将各部的尺寸或数量进行夸张或简化而加以图示。而且,图1及以后的各图中,为了方便说明,示出将X轴方向及与其正交的Y轴方向设为水平方向、将铅垂方向设为Z轴方向的XYZ正交座标系。然而,所述各方向并非为限定各要素的配置关系的含义。
<1.第一实施方式>
<1.1.构成及功能>
图1是第一实施方式的涂布装置1的俯视图。而且,图2是第一实施方式的涂布装置1的正视图。
涂布装置1作为用以制造有机EL显示装置的装置而构成,该有机EL显示装置将有机EL液、空穴传输材料或空穴注入材料等流动性材料用作涂布液。另外,涂布装置1中,可使用有机EL液、空穴传输材料、空穴注入材料等多种涂布液。
该涂布装置1主要包括:将基板9保持为水平的平台10,使平台10移动的平台移动机构20,用以将涂布液涂布于保持于平台10的基板9的上表面的涂布头30,对涂布头30供给涂布液的涂布液供给机构40,以及使涂布头30移动的头移动机构50。而且,涂布装置1包括控制部2,该控制部2与涂布装置1所具备的各部电连接,并对这些各部的运行进行控制。
平台10具有平板状的外形,在其上表面将基板9载置成水平姿势而加以保持。而且,平台10的尺寸比基板9小。在平台10的上表面形成多个抽吸孔(省略图示)。这些抽吸孔与真空泵等连接,通过使该真空泵运行,而当在平台10上载置基板9时,利用抽吸孔的抽吸压使基板9吸附并固定地保持于平台10的上表面。而且,平台10在其内部具有由加热器构成的加热机构(省略图示)。而且,可将载置于平台10上的基板9加热至规定的温度。
平台移动机构20使平台10在相对于基板9的主面(分别与基板9的长度方向及宽度方向平行的面)平行的规定的方向(即,图1中的Y轴方向,以下称作“副扫描方向”)上水平移动。平台移动机构20包括:使平台10旋转的旋转机构24,可旋转地支持平台10的支持板23,对支持板23进行水平支持的基台21,以及使基台21在副扫描方向上移动的副扫描机构22。旋转机构24、副扫描机构22与控制部2电连接,并根据来自控制部2的指示使平台10移动。
旋转机构24包括安装于平台10的内部的包含转子的电动机。而且,在平台10的中央部下表面侧与支持板23之间设置旋转轴承机构。因而,如果使电动机运行,则转子在绕Z轴的旋转方向上驱动,平台10以旋转轴承机构的旋转轴为中心而在规定角度的范围内旋转。
副扫描机构22包括:安装于从下方对支持板23进行支持的基台21的下表面的线性电动机221,以及沿副扫描方向延伸的一对导轨222。因此,如果使线性电动机221驱动,则基台21及平台10沿着导轨222而在副扫描方向上移动。
涂布头30包括多个喷嘴31。涂布头30朝向保持于平台10的基板9的上表面连续地喷出包含有机EL材料的涂布液。换句话说,涂布头30为用以将涂布液以液柱的状态(也称作连续流体)喷出的喷出机构。
本实施方式中,多个喷嘴31在涂布头30上并排2列。更详细来说,多个喷嘴31以如下方式而配置,即,形成:第一喷嘴群31A的列,在与基板9的主面平行且与副扫描方向垂直的方向(即,与图1中的Y轴方向垂直的X轴方向,以下称作“主扫描方向”)上隔开规定的间隔而排列;以及第二喷嘴群31B的列,相对于该第一喷嘴群31A的各喷嘴31而在副扫描方向上隔开规定的间隔排列。
本实施方式中,在第一喷嘴群31A及第二喷嘴群31B的各个中,在主扫描方向上邻接的2根喷嘴31、喷嘴31间的关于副扫描方向的距离被调整为如下,即,等于预先形成于基板9的涂布区域91(图1中由虚线包围而表示)上的沿主扫描方向延伸的间隔壁间的间距(以下称作“间隔壁间距”)的3倍。另外,关于对该间距进行调整的间距调整机构3,将在后述的涂布头30的说明中进行详述。
涂布液供给机构40主要包括:积蓄包含有机EL材料的涂布液的涂布液积蓄部41,将涂布液供给至涂布头30为止的供给管42,以及用以从涂布液积蓄部41送出涂布液的泵(省略图示)。供给管42一端与涂布液积蓄部41连通连接、另一端以与各喷嘴31一对一对应的方式分支并连接于各喷嘴31。
头移动机构50包括:一对引导构件51;滑块52,可相对于引导构件51滑动地配设;一对滑轮(pulley)53,配设于一对引导构件51的两端部附近且能够以朝向Z轴方向的轴为中心进行旋转;以及环形状的同步传送带(belt)54,卷绕在滑轮53上。
滑块52通过从气体供给源(省略图示)供给固定压力的气体,而相对于引导构件51以非接触状态卡合且可在主扫描方向上移动地受到支持。而且,滑块52的一端固定于同步传送带54。另一方面,在滑块52的另一端固定涂布头30。因此,利用电动机(省略图示)的驱动而使同步传送带54顺时针或逆时针旋转,由此可使涂布头30在(-X)方向或(+X)方向上来回移动。此时,滑块52相对于引导构件51以非接触状态而受到支持,因而可使涂布头30高速且顺畅地来回移动。
头移动机构50成为使涂布头30在主扫描方向上移动的主扫描机构。另外,头移动机构50与控制部2电连接,且根据来自控制部2的指示而使涂布头30移动。
而且,每当涂布头30的朝向主扫描方向的移动结束时,使对基板9加以保持的平台10在副扫描方向上移动,由此对基板9的表面的涂布区域91执行涂布液的涂布。另外,在涂布头30的主扫描时,在受液部12的附近完成加速或减速,从而在基板9的上方,涂布头30例如以每秒3m~5m左右的固定速度移动。
控制部2执行各种运算处理,且控制涂布装置1所具备的各部的运行。控制部2包含计算机,该计算机例如具有:进行各种运算处理的中央处理器(central processing unit,CPU),存储引导程序(boot program)等的只读存储器(read-only memory,ROM),成为运算处理的作业区域的随机访问存储器(Random Access Memory,RAM),存储程序或各种数据文件等的硬盘等存储部,进行各种显示的显示器,键盘及鼠标等输入部,经由局域网(local area network,LAN)等而具有数据通信功能的数据通信部等。计算机依据安装于计算机的程序而运行,由此该计算机作为涂布装置1的控制部2发挥功能。另外,控制部2中实现的各功能部也可通过计算机执行规定的程序而实现,还可由专用的硬件(hardware)实现。而且,控制部2中实现的各功能部也可由多台计算机实现。
而且,该涂布装置1包括用以对形成于基板9上的对准标记(省略图示)进行拍摄而进行检测的左右一对拍摄部11。该一对拍摄部11上分别配设着电荷耦合器件(Charge Coupled Device,CCD)相机。而且,根据由拍摄部11检测到的对准标记的位置,来进行基板9的位置对准。
而且,在关于涂布头30的来回移动方向(X轴方向)的平台10的两侧,配设着接收来自涂布头30的喷嘴31的涂布液的一对受液部12。涂布头30在未对基板9进行涂布处理的期间(待机期间),也连续地喷出涂布液。受液部12为用以接收在所述期间喷出的涂布液的机构,其内部具备多孔性构件。因此,可防止从涂布头30喷出的涂布液向周围飞溅。
一边参照图3一边对涂布头30的构成进行详细说明。图3是涂布头30所具备的喷嘴安装部34的概略俯视图。涂布头30包括喷嘴安装部34,所述喷嘴安装部34安装着朝向基板9连续地喷出涂布液的多个喷嘴31。
多个喷嘴31分别保持于呈大致长方体形状的滑动格32A、滑动格32B(喷嘴保持部)。滑动格32A对第一喷嘴群31A的喷嘴31加以保持,滑动格32B对第二喷嘴群31B的喷嘴31加以保持。滑动格32A、滑动格32B中,朝向Z轴方向贯通形成着用以插通并保持喷嘴31的插入孔。各滑动格32A、滑动格32B嵌入至各个形成于喷嘴安装部34的多个引导槽3421中。各引导槽3421沿Y轴方向直线状地延伸。滑动格32A、滑动格32B可沿着该引导槽3421的延伸方向而直线移动。
在喷嘴安装部34,多个引导槽3421在X轴方向上隔开固定间隔而排列成2列。位于-Y侧的一列多个引导槽3421中收容滑动格32A,位于+Y侧的另一列多个引导槽3421中收容滑动格32B。图3所示的例中,收容着滑动格32A的引导槽3421,关于X轴方向而配置于收容滑动格32B的2个相邻的引导槽3421、引导槽3421的中间位置。
在引导槽3421的底面形成着沿Y轴方向延伸的开口部3422。开口部3422作为用以使喷嘴31的前端部朝向基板9突出的开口而发挥功能。而且,在引导槽3421的+Y侧内壁面,形成着朝向+Y方向贯通的贯通孔3425。贯通孔3425中插通后述的位置调整机构35的杆352(喷嘴抵接部)。
在喷嘴安装部34的+Y侧设置着位置调整机构35。位置调整机构35对收容于引导槽3421的各滑动格32A、滑动格32B的沿着引导槽3421的位置(即,Y轴方向上的位置)进行调整。位置调整机构35包括致动器(actuator)351(驱动机构)、及从该致动器351延伸的多个杆352。
各杆352插通至形成于引导槽3421的+Y侧的内壁面的贯通孔3425中。各杆352的前端部固定于滑动格32A、滑动格32B的+Y侧的侧面部。杆352的后端部与致动器351连结。致动器351依据来自控制部2的指令而驱动,使杆352沿Y轴方向而向前方或后方移动,由此来调整滑动格32A、滑动格32B的位置。滑动格32A、滑动格32B对喷嘴31加以保持,因此通过位置调整机构35对滑动格32A、滑动格32B的位置进行调整,而各喷嘴31的位置得到调整。
如图3所示,与滑动格32A连接的杆352配置于滑动格32B、滑动格32B之间的位置,该滑动格32B、滑动格32B对第二喷嘴群31B中的、在X轴方向上相邻的2个喷嘴31、喷嘴31加以保持。为了实现涂布头30的小型化,邻接的滑动格32B、滑动格32B间的距离(换句话说,收容着滑动格32B、滑动格32B的引导槽3421、引导槽3421的形成间隔)比对第一喷嘴群31A加以保持的一个滑动格32A的宽度窄。本实施方式中,在邻接的滑动格32B、滑动格32B间配置比滑动格32A细的杆352,来传递致动器351的动力。由此,可有效地进行对配置于远离致动器351的位置的第一喷嘴群31A的喷嘴31加以保持的各滑动格32A的位置调整。
在喷嘴安装部34的-Y侧设置着喷嘴赋能机构33。喷嘴赋能机构33包括多个杆331、及将各杆331向+Y侧赋能的赋能致动器332。赋能致动器332可包含与各杆331相对应的多个气缸(air cylinder)、以及对这些多个气缸的压力进行控制的调节器(regulator)等。
利用喷嘴赋能机构33,各喷嘴31受到向+Y侧移动的力。与此相反地,位置调整机构35将各喷嘴31向-Y侧推回,由此相邻的喷嘴31、喷嘴31的关于Y轴方向的间距受到调整。如此,本实施方式中,由喷嘴赋能机构33、喷嘴安装部34及位置调整机构35构成间距调整机构3。
而且,虽省略图示,但在涂布头30上设置着锁定机构,该锁定机构用以将由间距调整机构3调整了Y轴方向的位置的各滑动格32A、滑动格32B加以固定。锁定机构例如可采用专利文献2所记载的机构。即,作为锁定机构,可采用向各滑动格32A、滑动格32B的侧部推压各滑动格32A、滑动格32B从而挤压至喷嘴安装部34的机构。而且专利文献2中也记载了解除该锁定的锁定解除机构,也可将该技术应用于本申请案中。当然,锁定机构及锁定解除机构并不限定于专利文献2所记载者,可采用与其类似的技术。
如以上般,本实施方式中,通过将副扫描方向的位置可调整的多个喷嘴31排列成2列,而比起排列成1列时,可缩短位于主扫描方向的两端的喷嘴31、喷嘴31间的距离。由此,在使涂布头30从受液部12到达基板9的涂布区域91之前,可有效地减少因从多个喷嘴31连续喷出涂布液而被废弃的涂布液的量。因此,可实现基板制造的成本降低。并且,通过增加喷嘴31,而可减少主扫描方向的移动次数。因此,可提高涂布效率。
另外,本实施方式中,通过使滑动格32A、滑动格32B沿着引导槽3421移动,而使喷嘴31在副扫描方向上直线移动。然而,该构成仅为一例。即,只要可使喷嘴31稳定地在副扫描方向上移动,则可采用任一构成。而且,并非仅使喷嘴31在沿副扫描方向的方向上移动,还可在具有主扫描方向的成分的方向上移动。
<2.第二实施方式>
接下来,对第二实施方式进行说明。另外,以后的说明中,有时对具有与已说明的要素相同的功能的要素,附上相同符号或追加字母的符号,而省略详细说明。
图4是第二实施方式的涂布头30A所具备的喷嘴安装部34A的概略俯视图。本实施方式的涂布头30A在喷嘴安装部34A中,沿Y轴方向延伸的引导槽3421A在X轴方向上隔开规定的间隔而等间隔地形成着多个。而且,在各引导槽3421A的内部,对第一喷嘴群31A加以保持的滑动格32A及对第二喷嘴群31B加以保持的滑动格32B以由弹性构件33A(例如螺旋弹簧(coil spring)等)连结的状态而收容。弹性构件33A处于被压缩的状态,且作为将滑动格32A及滑动格32B彼此离开的方向赋能的喷嘴赋能机构而发挥功能。
而且,在喷嘴安装部34A的-Y侧,设置着位置调整机构35A,该位置调整机构35A用以对保持第一喷嘴群31A的喷嘴31的滑动格32A在副扫描方向上的位置进行调整。位置调整机构35A具备与位置调整机构35大致相同的构成。详细而言,位置调整机构35A包括致动器351A、及一端与该致动器351A连接而另一端与滑动格32A连接的多个杆352A。
而且,在喷嘴安装部34A的+Y侧,设置着位置调整机构35B,该位置调整机构35B用以对保持第二喷嘴群31B的喷嘴31的滑动格32B在副扫描方向上的位置进行调整。位置调整机构35B具备与位置调整机构35大致相同的构成。详细而言,位置调整机构35B包括致动器351B、及一端与致动器351B连接而另一端与滑动格32B连接的多个杆352B。
致动器351A、致动器351B的各个与致动器351同样地,通过使多个杆352A、杆352B向前方或后方移动,而使滑动格32A、滑动格32B沿副扫描方向移动。
这样,本实施方式中,使用弹性构件33A以代替第一实施方式的喷嘴赋能机构33,由此将滑动格32A、滑动格32B向位置调整机构35的杆352A、杆352B赋能。即,本实施方式中,由弹性构件33A、喷嘴安装部34及位置调整机构35A、位置调整机构35B,构成对相邻的喷嘴31、喷嘴31间的间距进行调整的间距调整机构3A。在采用此种构成的涂布头30A的情况下,也可与第一实施方式的涂布头30同样地,减少涂布时的涂布液的废弃量,并增加喷嘴31的数量而提高涂布效率。
<3.第三实施方式>
图5是第三实施方式的涂布头30B所具备的喷嘴安装部34A的概略俯视图。而且,图6是第三实施方式的喷嘴赋能机构33B的概略侧视图。本实施方式的涂布头30B的间距调整机构3B具备与间距调整机构3A大致类似的构成,但在关于具备喷嘴赋能机构33B以代替弹性构件33A方面,与间距调整机构3A有所不同。
喷嘴赋能机构33B包括:楔形抵接构件333,以夹在扫描方向上排列的滑动格32A、滑动格32B间的状态而抵接于所述滑动格32A、滑动格32B;杆334,前端与楔形抵接构件333连接;以及缸体(cylinder)335,与杆334的基端部连接。另外,图5所示的图中,仅图示喷嘴赋能机构33B中的楔形抵接构件333,而省略了杆334及缸体335的图示。
缸体335利用未图示的固定单元而可配置于相对于喷嘴安装部34A固定的位置。而且,杆334从缸体335向朝向喷嘴安装部34A的-Z方向延伸。缸体335根据来自例如控制部2的指令而运行,由此将其动力传递至杆334,并将楔形抵接构件333推向下方或向上方提拉。由此,楔形抵接构件333朝向滑动格32A、滑动格32B间的位置移动。而且,虽省略图示,但喷嘴赋能机构33B包括使楔形抵接构件333、杆334及缸体335一体地沿Y轴方向移动的移动机构。
楔形抵接构件333形成为剖面观察为大致三角形。更详细而言,楔形抵接构件333中如图6所示,抵接于滑动格32A、滑动格32B的抵接面33SA、抵接面33SB间的宽度随着朝向-Z方向而逐渐缩小,因此,传递缸体335的动力,而将楔形抵接构件333向-Z方向压下,由此滑动格32A、滑动格32B被朝向彼此离开的方向赋能。通过这样对滑动格32A、滑动格32B赋能,而可良好地利用位置调整机构35A、位置调整机构35B来进行滑动格32A、滑动格32B的副扫描方向上的位置调整。
在将具备此种喷嘴赋能机构33B的间距调整机构3B用于涂布头30B时,也可与第一实施方式的涂布头30及第二实施方式的涂布头30A同样地,减少涂布液的废弃量,并增加喷嘴31的数量而提高涂布效率。
另外,楔形抵接构件333也可不必剖面观察为三角形。楔形抵接构件333至少具有如下部分即可,即,随着楔形抵接构件333朝向滑动格32A、滑动格32B而Y轴方向(副扫描方向)的宽度以减小的方式发生变化的部分。
<4.第四实施方式>
图7是第四实施方式的涂布头30C所具备的喷嘴安装部34A的概略俯视图。涂布头30C具备与第二实施方式的涂布头30A大致相同的构成,也可采用磁体336作为喷嘴赋能机构33C。
更详细来说,在对第一喷嘴群31A的喷嘴31与第二喷嘴群31B的喷嘴31加以保持的2个滑动格32A、滑动格32B间,分别配设着磁体336。而且,在滑动格32A、滑动格32B中的与磁体336对向的面,安装着具有相对于磁体336排斥的磁极的磁性体337。利用该磁性体337将滑动格32A、滑动格32B向离开的方向赋能。因此,可利用位置调整机构35A、位置调整机构35B,而良好地进行滑动格32A、滑动格32B的副扫描方向上的位置调整。
为采用了具备此种喷嘴赋能机构33C的间距调整机构3C的涂布头30C的情况下,也可与第一实施方式的涂布头30、第二实施方式涂布头30A、第三实施方式的涂布头30B同样地,减少涂布液的废弃量,并增加喷嘴31的数量而提高涂布效率。
<5.第五实施方式>
所述实施方式2的涂布头30A中,各滑动格32A、滑动格32B受到来自赋能致动器332的赋能力,由此被朝向杆352赋能,并受到来自致动器351的推压力而得到调整位置。然而,还考虑由与赋能致动器332不同的机构实现产生赋能力的机构。
图8是第五实施方式的涂布头30D所具备的喷嘴安装部34B的概略俯视图。在喷嘴安装部34B,与喷嘴安装部34A同样地形成2列沿Y轴方向延伸的多个引导槽3421,在一列多个引导槽3421中收容滑动格32A,在另一列多个引导槽3421中收容滑动格32B。然而,涂布头30D中,对滑动格32A、滑动格32B进行赋能的喷嘴赋能机构包含弹性构件33D而非包含赋能致动器332。
更详细来说,滑动格32A从设置于喷嘴安装部34B的-Y侧的位置调整机构35A的致动器351A,经由杆352A,而受到用以调整副扫描方向的位置的推压力。而且,由两端固定于滑动格32A的+Y侧侧面与引导槽3421的+Y侧内壁面的弹性构件33D,对滑动格32A朝向杆352A赋能。而且,滑动格32B从设置于喷嘴安装部34B的+Y侧的位置调整机构35B的致动器351B,经由杆352B,而受到用以调整副扫描方向的位置的推压力。而且,由两端固定于滑动格32B的-Y侧侧面与引导槽3421的-Y侧侧面的弹性构件33D,对滑动格32B朝向杆352B赋能。即,本实施方式中,由弹性构件33D、喷嘴安装部34B及位置调整机构35A、位置调整机构35B,来构成进行多个喷嘴31的副扫描方向的间距调整的间距调整机构3D。
这样,利用本实施方式的涂布头30D,也可缩短位于主扫描方向的两端的喷嘴31、喷嘴31间的距离,因而可减少连续喷出涂布液时被废弃的涂布液的量,并增加喷嘴31的数量。而且,在为本实施方式的涂布头30D的情况下,无须如图4所示的涂布头30A般,将传递致动器351A、致动器351B的动力的杆杆352A、杆352B配置于X轴方向上相邻的滑动格32A、滑动格32A间或滑动格32B、滑动格32B间。因此,可进一步缩短相邻的滑动格32A、滑动格32A或滑动格32B、滑动格间的距离。
另外,还考虑应用如喷嘴赋能机构33B般利用楔形抵接构件333、或者如喷嘴赋能机构33C般利用磁铁336来代替弹性构件33D而形成的机构。
而且,本实施方式中,构成为利用各自独立的致动器351A、致动器351B来推压多个滑动格32A及多个滑动格32B。然而,还考虑仅利用例如致动器351A、致动器351B中的其中一个来推压滑动格32A、滑动格32B的构成。例如,虽省略图示,但在设为仅利用致动器351A来推压滑动格32A、滑动格32B的构成的情况下,使杆以从致动器351A朝向滑动格32B,而通过在X轴方向上相邻的滑动格32A、滑动格32A间的方式延伸即可。而且,将对滑动格32B赋能的弹性构件33D的两端安装于滑动格32B的+Y侧侧面及引导槽3421的+Y侧内壁面即可。
<6.第六实施方式>
图9是第六实施方式的涂布头30E所具备的喷嘴安装部34C的概略俯视图。所述第五实施方式的涂布头30D中,作为喷嘴赋能机构的弹性构件33D固定于引导槽3421的内壁面与滑动格32A或滑动格32B的侧面。与此相对,第六实施方式的涂布头30E中,使用将滑动格32A、致动器351B间及滑动格32B、致动器351A间加以连接的弹性构件33E。
更详细来说,在收容着滑动格32A的引导槽3421的+Y侧内壁面,形成着在+Y方向上贯通的贯通孔3427。这些贯通孔3427中,插通着一端与滑动格32A连接而另一端与致动器351B连接的弹性构件33E。
而且,在收容着滑动格32B的引导槽3421的-Y侧内壁面,形成着在-Y方向上贯通的贯通孔3427。这些贯通孔3427中,插通着一端与滑动格32B连接而另一端与致动器351A连接的弹性构件33E。
本实施方式中,利用积蓄在弹性构件33E的弹力,而将滑动格32A、滑动格32B分别朝向杆342A、杆342B赋能。该状态下,滑动格32A、滑动格32B分别受到来自致动器351A、致动器351B的推压力,由此进行副扫描方向上的位置调整(间距调整)。即,本实施方式中,由弹性构件33E、喷嘴安装部34C及位置调整机构35A、位置调整机构35B,来构成进行多个喷嘴31的副扫描方向的间距调整的间距调整机构3E。
另外,各弹性构件33E为了能够对滑动格32A、滑动格32B分别进行赋能直至抵接于引导槽3421的+Y侧端部(内壁面)及-Y侧端部(内壁面)为止,而在副扫描方向上具有足够的长度。
弹性构件33E与滑动格32A或滑动格32B间的连接也可解除。该情况下,在进行间距调整后,利用省略图示的锁定机构将滑动格32A、滑动格32B相对于各引导槽3421的位置加以固定,然后,致动器351A及致动器351B分别朝向-Y方向及+Y方向移动。由此,弹性构件33E离开各滑动格32A、滑动格32B,从而对各滑动格32A、滑动格32B的赋能力被解除。由此,可使喷嘴31的位置变得更稳定。
已对本发明进行了详细说明,但所述说明在所有样态中为例示,本发明并不限定于此。应理解为只要不超过本发明的范围便可设想未例示的无数个变形例。而且,所述各实施方式中说明的各要素只要不相互矛盾,便可适当组合或者适当省略。

Claims (6)

1.一种涂布装置,将涂布液涂布于基板上,所述涂布装置的特征在于包括:
基板保持部,对基板加以保持;
多个喷嘴,朝向所述基板连续地喷出涂布液;
喷嘴安装部,安装着所述多个喷嘴;
主扫描机构,在与所述基板的主面平行的主扫描方向上,使所述多个喷嘴连同所述喷嘴安装部一起相对于所述基板相对地移动;
副扫描机构,在与所述基板的所述主面平行、且与所述主扫描方向交叉的副扫描方向上,使所述多个喷嘴及所述喷嘴安装部相对于所述基板相对地移动;以及
间距调整机构,通过使所述多个喷嘴在所述副扫描方向上移动,而对关于所述副扫描方向相互邻接的2个所述喷嘴间的距离进行调整,且
所述多个喷嘴包括:在所述主扫描方向上隔开规定的间隔而排列的第一喷嘴群,以及相对于所述第一喷嘴群而在所述副扫描方向上隔开规定的间隔排列的第二喷嘴群。
2.根据权利要求1所述的涂布装置,其特征在于:所述间距调整机构包括:
喷嘴保持部,可在所述副扫描方向上移动地保持所述喷嘴;
喷嘴抵接部,从所述副扫描方向的一侧抵接于所述喷嘴保持部;
喷嘴赋能机构,从所述副扫描方向的另一侧将所述喷嘴保持部向所述喷嘴抵接部赋能;以及
驱动机构,对所述喷嘴抵接部的所述副扫描方向的位置进行调整。
3.根据权利要求2所述的涂布装置,其特征在于:喷嘴抵接构件配置于对所述第二喷嘴群的喷嘴加以保持的邻接的2个喷嘴保持部间,所述喷嘴抵接构件抵接于对所述第一喷嘴群的喷嘴加以保持的各个所述喷嘴保持部。
4.根据权利要求2所述的涂布装置,其特征在于:所述喷嘴赋能机构包括弹性构件,所述弹性构件将对所述第一喷嘴群及所述第二喷嘴群的所述喷嘴加以保持的2个所述喷嘴保持部之间予以连接。
5.根据权利要求2所述的涂布装置,其特征在于:所述喷嘴赋能机构包括:
楔形抵接构件,以被夹住的状态抵接于对所述第一喷嘴群的所述喷嘴及所述第二喷嘴群的2个所述喷嘴分别加以保持的2个所述喷嘴保持部;以及
移动机构,使所述楔形抵接构件朝向所述2个喷嘴保持部之间移动。
6.根据权利要求2所述的涂布装置,其特征在于:所述喷嘴赋能机构包括磁体,所述磁体配置于对所述第一喷嘴群的所述喷嘴、及所述第二喷嘴群的所述喷嘴分别加以保持的2个所述喷嘴保持部之间,
所述2个所述喷嘴保持部包括磁性部,所述磁性部具有相对于所述磁体排斥的磁极。
CN201410381793.6A 2013-09-30 2014-08-05 涂布装置 Expired - Fee Related CN104511396B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013203387A JP6232239B2 (ja) 2013-09-30 2013-09-30 塗布装置
JP2013-203387 2013-09-30

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104511396A true CN104511396A (zh) 2015-04-15
CN104511396B CN104511396B (zh) 2017-04-12

Family

ID=52787608

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410381793.6A Expired - Fee Related CN104511396B (zh) 2013-09-30 2014-08-05 涂布装置

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6232239B2 (zh)
KR (1) KR101597042B1 (zh)
CN (1) CN104511396B (zh)
TW (1) TWI562832B (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108269699A (zh) * 2018-03-16 2018-07-10 广州中力自动化设备科技有限公司 一种恒流源赋能机
CN108686846A (zh) * 2017-03-30 2018-10-23 日本发条株式会社 供给试剂的方法以及经该方法处理的结构体

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111508874A (zh) * 2020-04-27 2020-08-07 南昌欧菲显示科技有限公司 喷管安装组件及蚀刻装置

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4297396A (en) * 1978-12-19 1981-10-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Coating method
JP2000015162A (ja) * 1998-06-30 2000-01-18 Asmo Co Ltd 自動グリース塗布装置
JP2003010755A (ja) * 2001-06-27 2003-01-14 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 塗布装置
TW200406256A (en) * 2002-10-30 2004-05-01 Ind Tech Res Inst Image alignment method and device for biochip-manufacturing apparatus
CN1657289A (zh) * 2004-02-19 2005-08-24 精工爱普生株式会社 吐出装置及材料涂敷方法、滤色片基板及装置的制造方法
CN1894046A (zh) * 2003-12-17 2007-01-10 Itw吉马股份公司 喷涂设备
JP2008155138A (ja) * 2006-12-25 2008-07-10 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 塗布装置
US20090285991A1 (en) * 2008-05-14 2009-11-19 Tokyo Electron Limited Coating apparatus and method

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3891164B2 (ja) * 2003-10-15 2007-03-14 セイコーエプソン株式会社 吐出装置
JP4679895B2 (ja) * 2003-12-17 2011-05-11 大日本印刷株式会社 パターン形成装置、ヘッドユニット
JP4745727B2 (ja) * 2005-06-16 2011-08-10 芝浦メカトロニクス株式会社 ペースト塗布装置
JPWO2008093701A1 (ja) * 2007-01-30 2010-05-20 東レエンジニアリング株式会社 塗布装置
JP2009080454A (ja) * 2007-09-06 2009-04-16 Seiko Epson Corp 配向膜形成用組成物、液晶装置の製造方法
JP5037277B2 (ja) * 2007-09-18 2012-09-26 パナソニック株式会社 粘性流体塗布装置
JP5126185B2 (ja) * 2009-08-26 2013-01-23 カシオ計算機株式会社 塗布装置
US9299959B2 (en) * 2012-06-06 2016-03-29 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Inkjet device and manufacturing method for organic el device

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4297396A (en) * 1978-12-19 1981-10-27 Fuji Photo Film Co., Ltd. Coating method
JP2000015162A (ja) * 1998-06-30 2000-01-18 Asmo Co Ltd 自動グリース塗布装置
JP2003010755A (ja) * 2001-06-27 2003-01-14 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 塗布装置
TW200406256A (en) * 2002-10-30 2004-05-01 Ind Tech Res Inst Image alignment method and device for biochip-manufacturing apparatus
CN1894046A (zh) * 2003-12-17 2007-01-10 Itw吉马股份公司 喷涂设备
CN1657289A (zh) * 2004-02-19 2005-08-24 精工爱普生株式会社 吐出装置及材料涂敷方法、滤色片基板及装置的制造方法
JP2008155138A (ja) * 2006-12-25 2008-07-10 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 塗布装置
US20090285991A1 (en) * 2008-05-14 2009-11-19 Tokyo Electron Limited Coating apparatus and method

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108686846A (zh) * 2017-03-30 2018-10-23 日本发条株式会社 供给试剂的方法以及经该方法处理的结构体
CN108686846B (zh) * 2017-03-30 2021-05-18 日本发条株式会社 供给试剂的方法以及经该方法处理的结构体
CN108269699A (zh) * 2018-03-16 2018-07-10 广州中力自动化设备科技有限公司 一种恒流源赋能机
CN108269699B (zh) * 2018-03-16 2024-01-30 广州中力自动化设备科技有限公司 一种恒流源赋能机

Also Published As

Publication number Publication date
CN104511396B (zh) 2017-04-12
JP2015066501A (ja) 2015-04-13
TW201511840A (zh) 2015-04-01
KR101597042B1 (ko) 2016-02-23
JP6232239B2 (ja) 2017-11-15
KR20150037502A (ko) 2015-04-08
TWI562832B (en) 2016-12-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107541711A (zh) 基板的夹持装置、成膜装置、基板载置装置及其方法
CN1986224B (zh) 显示装置的制造装置及显示装置的制造方法
US20140014918A1 (en) Organic layer deposition apparatus, method of manufacturing organic light emitting display device using the apparatus, and organic light emitting display device manufactured using the method
US20090013927A1 (en) Stage apparatus and coating treatment device
KR101845090B1 (ko) 도포막 형성 장치 및 도포막 형성 방법
CN104511396A (zh) 涂布装置
JP2016504491A (ja) エッジ除外シールドを整備するための方法及びシステム
JP2014227607A (ja) 蒸着用基板移動部、これを備える有機層蒸着装置及び有機発光ディスプレイ装置
KR102541450B1 (ko) 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법
US20120090544A1 (en) Thin film deposition apparatus for continuous deposition, and mask unit and crucible unit included in thin film deposition apparatus
KR20180092876A (ko) 도포 장치 및 도포 방법
CN103107132A (zh) 用于制造平板显示器的设备
CN111908123B (zh) 储料器输送机
KR101859279B1 (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
US9640784B2 (en) Deposition apparatus, method of manufacturing organic light emitting display apparatus using the same, and organic light emitting display apparatus manufactured by using the method
CN1657181B (zh) 用于在基板上沉积有机材料的装置
KR20150008301A (ko) 기판 이송장치용 승강장치 및 이를 포함하는 기판 이송장치
US10850507B2 (en) Substrate coating device having moving unit for moving substrate holding unit and droplet discharging unit in main scanning direction and sub scanning direction and method
CN110783248A (zh) 静电吸盘系统、成膜装置、吸附及成膜方法、电子器件的制造方法
KR101416593B1 (ko) 롤러의 처짐 방지를 위한 기판 이송 장치
KR101328574B1 (ko) 기판이송장치
CN103288356B (zh) 涂布装置
KR101530318B1 (ko) 증발원 유닛 및 증착 장치
CN110777332B (zh) 静电吸盘系统、成膜装置和方法、吸附方法及电子器件的制造方法
CN103847229A (zh) 基板印刷装置和基板印刷方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20170412

Termination date: 20200805