JP2010535838A - 新規調製方法 - Google Patents

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Abstract

本発明は、R1及びR2が明細書中で挙げられたように定義される一般式Iの化合物、その薬学的に許容される塩、その水和物の調製方法に関し、それは、R1が明細書で挙げられたように定義される一般式IIの化合物から出発して調製される。

Description

本発明は、一般式Iの化合物、その薬学的に許容される塩及びその溶媒和物の調製方法に関する。
Figure 2010535838
(I)
(式中、R1及びR2は、請求項1で定義されたとおりである。)
本発明は、CGRPのアンタゴニスト特性を有する一般式Iの化合物の技術的な調製方法に関する。加えて、本発明は、それらが一般式Iの化合物の調製に特に適切であるので、一般式V及び一般式VIの化合物自体に関する。
<発明の詳細な説明>
一般式V及び一般式VIの化合物は、CGRPに対するアンタゴニスト的性質を有する一般式Iの化合物の合成のための有用な出発原料である。
分離した中間体の段階は結晶性固体として得られ、これは、生じうる如何なるエナンチオマーの混合物の精製及び分離にも非常に有利である。
第一の側面においては、本発明は、一般式Iの化合物、その塩及びその溶媒和物の調製方法に関し、以下の工程を含む:
Figure 2010535838
(I)
(式中、R1は、H、C1-3−アルキル、C(O)−O−ベンジル、C(O)−O−tert−ブチル又はベンジルを示し、好ましくはH又はベンジルを示し並びに
2は、第2級アミン−NR2.12.2を示し、
ここで、R2.1及びR2.2は、互いに独立してC1-3−アルキル及びベンジルの中から選択されてもよく、又は
基−NR2.12.2は、共に、モルホリン−4−イル−、1−メチルピペラジン−4−イル−、1−ベンジルピペラジン−4−イル−、1−(C1-3−アルキルカルボニル)−ピペラジン−4−イル−、1−(tert−ブチロキシカルボニル)−ピペラジン−4−イル−、1−(ベンジルオキシカルボニル)−ピペラジン−4−イル−、ピペリジン−1−イル−及びピロリジン−1−イル−の中から選択される環状アミンを形成し、好ましくはモルホリン−4−イルである。)
(a)必要に応じて酸の存在下、及び非極性非プロトン性溶媒中で、一般式IIのグリコール酸エチルを、保護基を導入するための試薬と、好ましくは3,4−ジヒドロ−2H−ピラン又は塩化ベンジルと反応させて、一般式IIIのエステルを形成すること;
Figure 2010535838
(II)
(式中、R3は、C1-6−アルキル基を示し、好ましくはエチル基を示す。)
Figure 2010535838
(III)
(式中、PGは、保護基を示し、好ましくは
Figure 2010535838
及び
Figure 2010535838
から選択される基を示し、並びに
3はC1-6−アルキル基を示し、好ましくはエチル基を示す。)
(b)工程(a)の下で得られる一般式IIIのエステルを溶媒と混合し、強塩基の存在下、一般式IVの化合物と反応させること;
Figure 2010535838
(IV)
(ここで、R1は上記で定義されたとおりである。)
(c)工程(b)の下で得られる一般式Vの化合物を溶媒と混合し、強塩基を添加すること;
Figure 2010535838
(V)
(式中、PG、R1及びR3は、上記で定義されたとおりである。)
(d)必要に応じて、工程(c)の下で得られる一般式VIの化合物を極性溶媒から再結晶化し、得られる化合物を単離すること;
Figure 2010535838
(VI)
(式中、PGは、保護基を示し、好ましくは
Figure 2010535838
及び
Figure 2010535838
から選択される基を示し、
1は、H、C1-3−アルキル、C(O)−O−ベンジル、C(O)−O−tert−ブチル又はベンジルを示し、好ましくはH又はベンジルを示し、
4は基H2+(R4.12、HN+(R4.13又はM+を示し、
4.1はベンジル、C1-6−アルキル又はC3-6−シクロアルキルを示し、ここで複数の基R4.1は同一であっても異なっていてもよく及び
+はNa+、K+及びLi+から選択される金属カチオンを示し、好ましくはK+を示す。)
(e)工程(d)の下で得られる一般式VIの化合物を溶媒と混合し、低温で酸を添加すること;
(f)工程(e)の下で得られる一般式VIIの化合物から、保護基PGを開裂すること;
Figure 2010535838
(VII)
(式中、PG及びR1は、上記で定義されたとおりである。)
(g)工程(f)の下で得られる一般式VIIIの化合物を還元剤の存在下で、必要に応じて塩基の存在下で還元し、一般式IXの化合物を形成すること;
Figure 2010535838
(VIII)
(式中、R1は、上記で定義されたとおりである。)
Figure 2010535838
(IX)
(式中、R1は、上記で定義されたとおりである。)
(h)水酸化リチウム、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムの中から選択される対応するアルカリ溶液を添加することにより、工程(g)の下で得られた一般式(IX)の化合物を、一般式Xのアルカリ金属塩の形で単離すること;
Figure 2010535838
(X)
(式中、R1は、上記で定義されたとおりであり、M+は、Li+、Na+及びK+の中から選択される金属化チオオンを示し、好ましくはNa+を示す。)
(i)工程(h)の下で得られる一般式Xの化合物を、一般式XIの化合物とカップリングさせること;
Figure 2010535838
(XI)
(式中、R5は、窒素原子を介して結合するイミダゾール基又はトリアゾール基を示し、好ましくはイミダゾール基を示す。)
(j)工程(i)で形成される一般式XIIの生成物を、一般式XIIIの化合物と反応させること;
Figure 2010535838
(XII)
(式中、R1は、上記で定義されたとおりである。)
Figure 2010535838
(XIII)
(式中、R2は、上記で定義されたとおりであり、nは、0、1、2又は3の数のうちの1つを示す。)
(k)続いて、R1が水素原子を示す一般式Iの化合物を調製するため、必要に応じて、R1がC(O)−O−ベンジル基、C(O)−O−tert−ブチル基又はベンジル基を示す一般式Iの化合物から、存在している全ての保護基を開裂すること;及び
(l)工程(k)の下で得られる、R1が水素原子を示す一般式Iの化合物を、必要に応じて、極性溶媒中で生理的に許容される酸と反応させて対応する塩を形成し、上記対応する塩を晶出して単離すること。
上記で挙げられた保護基PGは、一般的には、ヒドロキシ官能基の保護基を意味する。ヒドロキシ基の保護基の例としては、トリメチルシリル、トリメチルシリルエチル、tert−ブチルジメチルシリル、メトキシメチル、2−メトキシエトキシメチル、tert−ブチロキシカルボニル、アセチル、ベンゾイル、メチル、エチル、tert−ブチル、トリチル、ベンジル又はテトラヒドロピラニルが挙げられる。
工程(a)の反応においては、1.0当量のグリコール酸エチルを、1.0当量から1.3当量の保護基を導入するための試薬−例えば3,4−ジヒドロ−2H−ピラン又は塩化ベンジル−と反応させてもよい。非プロトン性溶媒は塩化メチレン、トルエン、o−キシレン、m−キシレン及びp−キシレン並びにこれらの溶媒の対応する混合物の中から選択してもよい。もう一つの実施態様においては、使用されるグリコール酸エチル1モル当たり、0.1Lから0.5Lの溶媒が使用されてもよい。
工程(a)で使用される酸は、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸及びベンゼンスルホン酸の中から選択されてもよい。
工程(b)における反応は、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、トルエン、tert−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、モノエチレングリコールエーテル、ジエチレンエチレングリコールエーテル、トリエチレングリコールエーテル及びポリエチレングリコールエーテルの中から選択される溶媒中で行われてもよい。反応において使用される強塩基は、カリウム−tert−ブトキシド、カリウム−tert−アミラート(potassium-tert-amylate)、ナトリウム−tert−ブトキシド、ナトリウム−tert−アミラート(sodium-tert-amylate)及びリチウム−tert−ブトキシドの中から選択されてもよい。工程(b)における反応においては、一般式IVの化合物1.0当量を、一般式IIIの化合物0.5当量から2.0当量と反応させてもよい。もう一つの実施態様においては、一般式IVの化合物1モル当たり、0.5Lから1.0Lの溶媒が使用される。
工程(c)の下で上記に記載された反応は、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、tert−アミルアルコール若しくはtert−ブタノール又はこれらの溶媒の混合物中で行われてもよい。一般式VIの化合物1モル当たり、1.0Lから2.0Lの溶媒を使用してもよい。
無機強塩基は、水酸化リチウム、水酸化カリウム及び水酸化ナトリウムの中から選択されてもよい。好ましくは、上記塩基は、使用される一般式Vの化合物1モル当たり、1.0モルから1.2モルの量で添加される。
工程(e)の下で上記に記載された反応は、溶媒として、トルエン、tert−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン又は2−メチルテトラヒドロフランの中で行われてもよい。一般式VIの化合物1モル当たり、1.5Lから5.0Lの溶媒を使用してもよい。
使用される酸は、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、リン酸、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸及びベンゼンスルホン酸の中から選択されてもよい。本発明によれば、塩酸及びメタンスルホン酸が特に重要である。使用される一般式VIの化合物1モルあたり、1.5当量から4.0当量の酸が添加される。
反応は−20℃から25℃の温度で行われてもよい。
工程(f)の下で上記に記載された保護基PGの開裂は、例えば"Protective Groups in Organic Synthesis"(Theodora W. Greene, Peter G.M. Wuts, Third Edition, Wiley Interscience)に記載されたように、文献の公知の方法を使用して行うことができる。例えば、工程(f)の下で上記に記載された保護基PGの開裂は、溶媒としてトルエン、tert−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン又は2−メチルテトラヒドロフランの中で行われてもよい。一般式VIIの化合物1モル当たり、1.5Lから5.0Lの溶媒が使用されてもよい。
使用される酸は、例えば、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、リン酸、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸及びベンゼンスルホン酸の中から選択されてもよい。本発明によれば、塩酸及びメタンスルホン酸が特に重要である。使用される一般式VIIの化合物1モルあたり、1.5当量から4.0当量の酸が添加されてもよい。
反応は−20℃から25℃の温度で行ってもよい。
もう一つの実施態様では、工程(f)の下で上記に挙げられた保護基PGの開裂は、溶媒としてのジオキサン又はトルエンの中で、塩酸を添加して行われてもよい。
工程(g)の下で上記に挙げられた塩基は、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N−メチルモルホリン、N−メチルピロリジン及びピリジンの中から選択されてもよい。使用される一般式VIIIの化合物1モル当たり、2.0当量から2.6当量の塩基が添加されてもよい。
工程(g)の下で記載もされた還元剤は、β−クロロジイソピノカンフェイルボラン、アルピンボラン及びメチル−CBS−オキサザボロリジンの中から選択されてもよい。使用される一般式VIIIの化合物1モル当たり、1.0当量から1.6当量の還元剤が添加されてもよい。
工程(h)の下で上記に記載されたアルカリ金属塩の単離は、対応する無機苛性アルカリ溶液を添加することにより行われる。これは、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムの中から選択されてもよく、好ましくは水性溶液の形態である。使用される一般式IXの化合物1モルあたり、1.0モルから1.5モルの苛性アルカリ溶液が添加される。
工程(i)におけるカップリングにおいては、1.0当量の一般式Xの化合物と、1.0当量から1.5当量の一般式XIの化合物とを極性溶媒中に懸濁し、強塩基の存在下で高温で反応してもよい。
本発明により使用されてもよい極性溶媒は、tert−ブタノール、tert−アミルアルコール、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン又はテトラヒドロフランであある。好ましくは、使用される一般式Xの化合物1モル当たり、3.0Lから6.0Lの溶媒が使用される。
塩基は、カリウム−tert−ブトキシド、ナトリウム−tert−ブトキシド、リチウム−tertブトキシド、カリウム−tert−アミラート(potassium-tert-amylate)及びナトリウム−tert−アミラート(sodium-tert-amylate)の中から選択されてもよい。反応は40℃から90℃の温度で行われてもよい。
工程(j)の下で上記に記載された反応は、アミン及び縮合剤の存在下、極性非プロトン性溶媒中で低温で行われてもよい。好ましくは、投入される一般式XIIの化合物1モル当たり、1.0当量から1.5当量の一般式XIIIの化合物が使用される。使用されるアミンは、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン及びトリブチルアミンの中から選択されてもよい。それは、使用される一般式XIIの化合物1モル当たり、4.0当量から6.0当量の量で使用されてもよい。
縮合剤は、必要に応じてヒドロキシコハク酸、ヒドロキシベンゾトリアゾール、p−ニトロフェノール又はペンタフルオロフェノールの存在下、プロパンホスホン酸無水物、ジシクロヘキシルカルボジイミド、カルボニルジイミダゾール、カルボニルジトリアゾール、2−(1H−ベンゾトリアゾール−1−イル)−1,1,3,3−テトラメチルウロニウム−テトラフルオロホウ酸塩、1−エチル−3−(3’−ジメチルアミノ−プロピル)−カルボジイミド及びクロロジメトキシトリアジンの中から選択されてもよい。それは、使用される一般式XIIの化合物1モル当たり、1.5当量から2.0当量の量で好ましく使用される。
テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、トルエン又は酢酸エチルを極性非プロトン性溶媒として使用してもよい。それは、使用される一般式XIIの化合物1モル当たり、4.0Lから6.0Lの量で好ましく使用される。
本発明によれば、好ましくは、反応は0℃と50℃との間の温度で行われる。
工程(k)における保護基の任意の開裂のために、工程(j)で得られ、R1がC(O)−O−ベンジル基又はベンジル基である一般式Iの化合物を、例えばメタノール、エタノール、水、アセトン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、トルエン又はプロパノールのような極性溶媒に溶解し、加圧された反応炉で水素化する。使用される水素化剤は、例えばPd/C又はPd(OH)2であってもよい。水素化のための有利な条件は、40℃から80℃の温度と、3bar以下の過剰な水素分圧である。触媒がろ過された後、もう一つの極性溶媒、好ましくはエタノールを添加して溶媒を濃縮することによりR1が水素原子である一般式Iの化合物が得られる。
工程(l)の下で上記に記載された反応は、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール若しくは水又はこれらの溶媒の混合物中で行われてもよい。生理的に許容される酸は、臭化水素酸、リン酸、硝酸、塩酸、硫酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、リンゴ酸、コハク酸、酢酸、フマル酸、マレイン酸、マンデル酸、乳酸、酒石酸及びクエン酸の中から選択されてもよい。
一般式XIの化合物は、以下の工程を含む方法により調製される。
Figure 2010535838
(XI)
(式中、R5は、窒素原子を介して結合したイミダゾール基又はトリアゾール基を示し、好ましくはイミダゾール基である。)
(a)カルボニルイミダゾール又はカルボニルトリアゾール、好ましくはカルボニルイミダゾールを、極性非プロトン性溶媒中に溶解し、高温で1,3,4,5−テトラヒドロ3−(4−ピペリジニル)−2H−1,3−ベンゾジアゼピン−2−オンと反応させること;及び
(b)R5がイミダゾール基を示す場合には、もう一つの極性非プロトン性溶媒を添加することにより、工程(a)で得られた粗生成物を晶出すること。
工程(a)の下で、上記に挙げられた溶媒は、アセトン、アセトニトリル、tert−ブチルメチルエーテル、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ピリジン及びN−メチルピロリドンの中から選択されてもよい。
工程(b)の下で上記に挙げられた極性非プロトン性溶媒は、tert−ブチルメチルエーテル、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、トルエン及び2−メチルテトラヒドロフランの中から選択されてもよい。
1,3,4,5−テトラヒドロ−3−(4−ピペリジニル)−2H−1,3−ベンゾジアゼピン−2−オンの調製方法は、欧州特許出願第04017424.5号に記載されている。
第二の側面においては、本発明は一般式Vの化合物に関する。
Figure 2010535838
(V)
(式中、PGは、保護基を示し、好ましくは
Figure 2010535838
及び
Figure 2010535838
から選択される基であり、
1は、H、C1-3−アルキル、C(O)−O−ベンジル、C(O)−O−tert−ブチル又はベンジルであり、好ましくはベンジルであり及び
3は、C1-6−アルキルであり、好ましくはエチルである。)
好ましい第二の側面は、式VaからVdの以下の化合物を包含する。
Figure 2010535838
より好ましい第二の側面は、結晶形状で生じ、高度の安定性により特徴付けられる式Vaの化合物(3Z)−3−(4−ベンジルオキシ−3,5−ジメチル−フェニル)−2−テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−アクリル酸エチルに関する。
Figure 2010535838
(Va)
上記式Vaの結晶性化合物は、特徴的な融点T=123±3℃により特徴付けられる。所定の値は、示差走査熱量測定法(DSC:開始の加熱速度10℃/分で評価)により決定した(Netzsch社、STA Jupiter)。
本発明の更なる目的は、第一の態様の下で、上記に記載された方法に従った一般式Iの化合物の調製のための中間生成物としての一般式Vの上記化合物の使用に関する。
第三の側面では、本発明は以下の工程により特徴付けられる一般式Vの化合物の調製方法に関する:
Figure 2010535838
(V)
(式中、PGは、保護基を示し、好ましくは
Figure 2010535838
及び
Figure 2010535838
から選択される基を示し、
1は、H、C1-3−アルキル、C(O)−O−ベンジル、C(O)−O−tert−ブチル又はベンジルを示し、好ましくはベンジルを示し及び
3はC1-6−アルキルを示し、好ましくはエチルを示す。)
(a)一般式IIのグリコール酸エステルを、必要に応じて酸又は塩基の存在下、非極性非プロトン性溶媒中で保護基を導入するための試薬、好ましくは3,4−ジヒドロ−2H−ピラン、ベンジルトリクロロアセトイミデート又はハロゲン化ベンジルと反応させ、一般式IIIのエステルを形成すること;
Figure 2010535838
(II)
(式中、R3は、C1-6−アルキル基を示し、好ましくはエチル基である。)
Figure 2010535838
(III)
(式中、PGは、保護基を示し、好ましくは
Figure 2010535838
及び
Figure 2010535838
から選択される基であり、
3は、C1-6−アルキル基を示し、好ましくはエチル基である。)
(b)工程(a)の下で得られる一般式IIIのエステルを溶媒と混合し、強塩基の存在下で一般式IVの化合物と反応させること;及び
Figure 2010535838
(IV)
(式中、R1は、上記で定義されたとおりである。)
(c)工程(b)の下でこのようにして得られる一般式Vの化合物を、必要に応じて再結晶化させること。
Figure 2010535838
(V)
(式中、PG、R1及びR3は、上記で定義されたとおりである。)
工程(a)の反応において、1.0当量のグリコール酸エチルを、1.0当量から1.1当量の、例えば、3,4−ジヒドロ−2H−ピラン又は塩化ベンジル等の保護基を導入するための試薬と反応させてもよい。非極性非プロトン性溶媒は、トルエン、o−キシレン、m−キシレン及びp−キシレン並びに対応するこれらの溶媒の混合物の中から選択されてもよい。使用されるグリコール酸エチル1モル当たり、0.1Lから0.5Lの溶媒を使用してもよい。
工程(a)で使用されるハロゲン化ベンジルは、塩化ベンジル、臭化ベンジル及びヨウ化ベンジルの中から選択してもよい。
工程(a)で使用される酸は、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸及びベンゼンスルホン酸の中から選択してもよい。
工程(a)で使用される塩基は、無機塩基又は有機塩基の中から選択してもよい。適切な無機塩基はアルカリ金属水酸化物(例えば、水酸化ナトリウム若しくは水酸化カルシウム)又は酸化銀である。使用できる有機塩基は、例えばトリエチルアミン又はヒューニッヒベース(Huenig Base)等の第三級アミンである。
工程(b)における反応は、2−メチルテトラヒドロフラン、トルエン、テトラヒドロフラン、tert−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、モノエチレングリコールエーテル、ジエチレングリコールエーテル、トリエチレングリコールエーテル及びポリエチレングリコールエーテルの中から選択される溶媒中で行ってもよい。反応において使用される強塩基は、1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン(DABCO)、カリウム−tert−ブトキシド、カリウム−tert−アミラート(potassium-tert-amylate)、ナトリウム−tert−ブトキシド、ナトリウム−tert−アミラート(sodium-tert-amylate)及びリチウム−tert−ブトキシドの中から選択されてもよい。
一般式Vの化合物が結晶性のものである場合は、それらは、工程(c)の下で上記に記載されたように再結晶化してもよい。
第四の側面において、本発明は一般式VIの化合物に関する。
Figure 2010535838
(VI)
(式中、PGは、保護基を示し、好ましくは
Figure 2010535838
及び
Figure 2010535838
から選択される基であり、
1は、H、C1-3−アルキル、C(O)−O−ベンジル、C(O)−O−tert−ブチル又はベンジルであり、好ましくはベンジルであり、
4は、基H2+(R4.12、HN+(R4.13又はM+を示し、
4.1は、ベンジル、C1-6−アルキル又はC3-6−シクロアルキルを示し並びに
+は、Na+、K+及びLi+から選択される金属カチオンであり、好ましくはK+である。)
好ましい第四の側面は、式VIaからVIdの以下の化合物及び必要に応じてそれらの水和物を含む。
Figure 2010535838
より好ましい第四の側面は、結晶形状で生じ、高度の安定性を特徴とする式VIaの化合物(3Z)−3−(4−ベンジルオキシ−3,5−ジメチル−フェニル)−2−テトラヒドロ−ピラン−2−イルオキシ)−アクリル酸−モノカリウム塩に関する。
Figure 2010535838
(VIa)
式VIaの結晶性の化合物は、特徴的な融点T=89±3℃を特徴とする。記載された上記の値は、示差走査熱量測定法(DSC:開始の加熱速度10℃/分で評価、Netzsch社製、STA Jupiter)により決定した。
より好ましい第四の態様は、結晶形状で生じ、高度の安定性を特徴とする式VIeの化合物(3Z)−3−(4−tert−ブチル−オキシカルボニロキシ−3,5−ジメチル−フェニル)−2−テトラヒドロ−ピラン−2−イルオキシ)−アクリル酸モノジシクロヘキシルアミン塩に関する。
Figure 2010535838
(VIe)
式VIeの結晶性の化合物は特徴的な融点T=140±3℃で特徴付けられる。記載された上記の値は、示差走査熱量測定法(DSC:開始の加熱速度10℃/分で評価、Netzsch社製、STA Jupiter)により決定した。
本発明の更なる目的は、第一の実施態様の下で上記に記載された方法に従って一般式Iの化合物を調製するための中間生成物としての一般式VIの上記化合物の使用に関する。
第五の態様では、本発明は、以下の工程により特徴付けられる一般式VIの化合物の調製方法に関する:
Figure 2010535838
(VI)
(式中、PGは、保護基を示し、好ましくは
Figure 2010535838
及び
Figure 2010535838
から選択される基であり、
1は、H、C1-3−アルキル、C(O)−O−ベンジル、C(O)−O−tert−ブチル又はベンジルを示し、好ましくはベンジルを示し、
4は、基H2+(R4.12、HN+(R4.13又はM+を示し、
4.1は、ベンジル、C1-6−アルキル又はC3-6−シクロアルキルを示し、及び
+は、Na+、K+及びLi+から選択される金属カチオンを示し、好ましくはK+を示す。)
(a)一般式Vの化合物を極性溶媒と混合し、無機強塩基を添加すること;及び
Figure 2010535838
(V)
(式中、PG、R1及びR3は、上記で定義されたとおりである。)
(b)工程(a)の下で得られる一般式VIの化合物を、次いで単離すること。
Figure 2010535838
(VI)
(式中、PG、R1及びR4は、上記で定義されたとおりである。)
工程(a)の下で上記に記載された反応は、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、tert−アミルアルコール若しくはtert−ブタノール又はこれらの極性溶媒の混合物の中で行ってもよい。
無機強塩基は、水酸化リチウム、水酸化カリウム及び水酸化ナトリウムの中から選択してもよい。
一般式Vの出発化合物は、第三の実施態様の下で上記に記載されたように調製される。
第六の側面においては、本発明は以下の工程を含む一般式XIIIの化合物の調製方法に関する:
Figure 2010535838
(XIII)
(式中、nは、1、2又は3の数のうちの1つを示し及び、
2は、第二級アミン−NR2.12.2を示し、
ここで、R2.1及びR2.2は、互いに独立してC1-3−アルキル及びベンジルの中から選択されてもよく又は
基−NR2.12.2は、共に、モルホリン−4−イル−、1−メチルピペラジン−4−イル−、1−ベンジルピペラジン−4−イル−、1−(C1-3−アルキルカルボニル)−ピペラジン−4−イル−、1−(tert−ブチロキシカルボニル)−ピペラジン−4−イル−、1−(ベンジルオキシカルボニル)−ピペラジン−4−イル−、ピペリジン−1−イル−及びピロリジン−1−イル−の中から選択される環状アミンを形成し、好ましくはモルホリン−4−イル−を形成する。)
(a)1−ベンジルピペリドンを溶媒中、脱水条件下、一般式XIVのアミンと反応させること;
H−NR2.12.2
(XIV)
(式中、R2.1及びR2.2は上記で定義されたとおりである。)
(b)工程(a)において形成されたエナミンを、加圧条件下及び触媒の存在下で還元し、塩酸を添加することにより結果として生成する一般式XVの生成物を単離すること;
Figure 2010535838
(XV)
(式中、n、R2.1及びR2.2は、上記で定義されたとおりである。)
(c)工程(b)の下で得られた一般式XVの化合物から、ベンジル保護基を除去し、一般式XVIの化合物を単離すること。
Figure 2010535838
(XVI)
(式中、n、R2.1及びR2.2は上記で定義されたとおりである。)
工程(a)における反応においては、1.0当量の1−ベンジルピペリドンを1.8当量から2.2当量、好ましくは2.0当量の一般式XIVのアミンと反応させてもよい。
使用される溶媒は、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、トルエン及びメチルテトラヒドロフランの中から選択することができ、それらの中でも酢酸イソプロピルが好ましく使用される。好ましくは、1−ベンジルピペリドン1モル当たり、0.5Lから1.0Lの溶媒を使用する。
工程(b)における還元は触媒の存在下で行われ、触媒はラネーニッケル、プラチナ/活性炭及び二酸化プラチナの中から選択され、好ましくはラネーニッケルが使用される。水素化の有利な条件は、20℃から70℃の温度と、5bar以下の過剰な水素分圧である。触媒をろ過した後、溶媒を留去することによって水素化された生成物を濃縮することができる。
一般式XVの塩酸塩を単離するには、使用される1−ベンジルピペリドンの量に基づいて、2.0当量から2.5当量の塩酸が添加される。
工程(c)の下で記載された、一般式XVの化合物からのベンジル保護基の開裂は、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、tert−ブタノール、水、アセトン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド又はこれらの溶媒の混合物等の極性溶媒中での水素化により行ってもよい。上記溶媒は、使用される一般式XVの化合物1モルあたり、0.5Lから2.5Lの量で、好ましくは、一般式XVの化合物1モルあたり、0.7Lから2.2Lの量で、好ましくは、一般式XVの化合物1モルあたり、0.7Lから1.5Lの量で、特に好ましくは、使用される一般式XVの化合物1モルあたり、1.0Lの量で添加してもよい。水素化は、パラジウム/活性炭及び水酸化パラジウムの中から選択されてもよい触媒の存在下で行われ、好ましくはパラジウム/活性炭が使用される。
水素化のための有利な条件は、40℃から80℃の温度と、最大5barの過剰な水素分圧である。
一般式XIIIの化合物は、例えば結晶化により単離されてもよい。
或いは、n及びR2が上記で定義されたとおりである一般式XIIIの化合物は、以下の工程を含む方法により調製されてもよい:
(a)1−ベンジルピペリドンを、溶媒中、脱水条件下、一般式XIVのアミンと反応させること;
H−NR2.12.2
(XIV)
(式中、R2.1及びR2.2は上記で定義されたとおりである。)
(b)工程(a)の下で得られたエナミンを、加圧条件下、且つ触媒の存在下で還元し、塩酸を添加することにより結果として生じる一般式XVの生成物を単離すること;
Figure 2010535838
(XV)
(式中、n、R2.1及びR2.2は、上記で定義されたとおりである。)
(c)工程(b)の下で得られ、n、R2.1及びR2.2が上記で定義されたとおりである一般式XVの化合物を、極性溶媒中で塩基と反応させ、R2.1及びR2.2が上記で定義されたとおりであり、nが0の数を示す一般式XVの化合物を形成すること;
(d)工程(c)の下で得られる一般式XVの化合物からベンジル保護基を除去し、一般式XVIの化合物を単離すること;並びに
Figure 2010535838
(XVI)
(式中、R2.1及びR2.2は、上記で定義されたとおりであり、nは0の数を示す。)
(e)工程(d)の下得られ、nが0の数を示す一般式XVIの化合物を、溶媒中で塩酸を加えることにより反応させ、nが1、2又は3の数のうちの1つを示す一般式XVIの化合物を得ること。
工程(a)における反応においては、1.0当量の1−ベンジルピペリドンを、1.8当量から2.2当量、好ましくは2.0当量の一般式XIVのアミンと反応させてもよい。
使用される上記溶媒は、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、トルエン及びメチルテトラヒドロフランの中から選択してもよく、その中でも酢酸イソプロピルが好ましく使用される。好ましくは、1−ベンジルピペリドン1モル当たり、0.5Lから1.0Lの溶媒が使用される。
工程(b)における還元は、ラネーニッケル、プラチナ/活性炭及び二酸化プラチナの中から選択されてもよい触媒の存在下で行われ、好ましくはラネーニッケルが使用される。水素化の有利な条件は、20℃から70℃の温度と5bar以下の過剰な水素分圧である。触媒がろ過により除去された後、水素化された生成物は溶媒を留去することにより濃縮されてもよい。
一般式XVの塩酸塩を単離するために、使用される1−ベンジルピペリドンの量に基づいて、2.0当量から2.5当量の塩酸が添加される。
工程(c)において記載された上記反応は、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、水、tert−ブタノール又はこれらの溶媒の混合物の中から選択される極性溶媒中で行われてもよい。溶媒は、使用される一般式XVの化合物を基準として1.0L/molから3.0L/molの量で使用してもよい。
使用される塩基は、アルカリ金属水酸化物又はアルカリ金属炭酸塩であってもよく、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウムであってもよい。
工程(d)の下で記載された一般式XVの化合物からのベンジル保護基の開裂は、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、tert−ブタノール、水、アセトン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド又はこれらの溶媒の混合物等、極性溶媒中での水素化により行われてもよい。上記溶媒は、使用される一般式XVの化合物1モルあたり、0.5Lから2.5Lの量で、好ましくは使用される一般式XVの化合物1モルあたり、0.7Lから1.5Lの量で、特に好ましくは使用される一般式XVの化合物1モルあたり、1.3Lの量で添加されてもよい。
水素化はパラジウム/活性炭及び水酸化パラジウムの中から選択されてもよい触媒の存在下で行われ、好ましくはパラジウム/活性炭が使用される。
水素化のための有利な条件は、40℃から80℃の温度と5bar以下の過剰な水素分圧である。
一般式XIIIの化合物を、例えば結晶化により単離してもよい。
nが1、2又は3の数を示す一般式XVIの化合物を得るための、工程(e)の下で記載される上記反応は、それぞれ、nが0の数を示す使用される一般式XVIの化合物の量に基づいて、1.8当量から2.5当量、好ましくは2.0当量から2.2当量の塩酸を添加することにより行われる。
メタノール又はエタノールを溶媒として使用してもよい。上記溶媒は、nが0の数を示す使用される一般式XVIの化合物1モル当たり、1.0Lから7.0Lの量で添加される。
もう一つの側面においては、本発明は、一般式Iの化合物を調製するための中間生成物としてあらかじめ挙げられた一般式XIIIの化合物の、第一の実施態様の下で上記に記載された方法における使用に関する。
<使用される用語と定義>
「第二級アミン」なる用語は、基R2.1及びR2.2が互いに独立に、C1-3−アルキル及びベンジルの中から選択されてもよい一般式−NR2.12.2のアミノ基、又は共に、モルホリン−4−イル−、1−メチルピペラジン−4−イル−、1−ベンジルピペラジン−4−イル−、1−C1-3−アルキルカルボニル−ピペラジン−4−イル−、1−tert−ブチロキシカルボニル−ピペラジン−4−イル−、1−ベンジルオキシカルボニル−ピペラジン−4−イル−、ピペリジン−1−イル−及びピロリジン−1−イル−の中から選択されてもよい環状アミンを形成する基−NR2.12.2を意味する。
例としては、以下のものが挙げられる。
Figure 2010535838
(他の基の一部となっているものを含め)「C1-3−アルキル」なる用語は、1個から3個の炭素原子を有する分岐及び非分岐のアルキル基を意味し、「C1-6−アルキル」なる用語は、1個から6個の炭素原子を有する分岐又は非分岐のアルキル基を意味する。これらの例としては、メチル、エチル、n−プロピル、iso−プロピル、n−ブチル、iso−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、tert−アミル又はn−ヘキシルが挙げられる。省略すれば、Me、Et、n−Pr、i−Pr等と記載される。必要に応じて上記の基にも使用される。
(他の基の一部となっているものも含め)「C3-6−シクロアルキル」なる用語は、3個から6個の炭素原子を有する環状アルキル基を意味する。これらの例としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル又はシクロヘキシルが挙げられる。特に明記しない限り、環状アルキル基は、メチル、エチル、iso−プロピル、tert−ブチル、ヒドロキシ、フッ素基、塩素基、臭素基及びヨウ素基の中から選択される1以上の基によって置換されていてもよい。
一般式Iの化合物は、例えばアミノ基のような塩基性の基を有していてもよい。したがってそれらは、分子内塩として、例えば臭化水素酸、リン酸、硝酸、塩酸、硫酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸等の薬学的に許容される無機酸、又は例えばリンゴ酸、コハク酸、酢酸、フマル酸、マレイン酸、マンデル酸、乳酸、酒石酸若しくはクエン酸等の薬学的に許容される有機酸との塩として存在していてもよい。
本発明は、遊離塩基の形態又は薬学的に許容される対応する酸との酸付加塩の形態のみならず、必要に応じて個々の光学異性体の形態、個々の鏡像異性体又はラセミ体の混合物の形態、互変異性体の形態のそれぞれの化合物に関する。
<実験の部>
[実施例1.1:(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−酢酸エチル(B)]
Figure 2010535838
20.00kg(182.50mol)のグリコール酸エチル(A)を60.0Lのトルエンに溶解し、71.04g(0.366mol)の4−トルエンスルホン酸1水和物を添加した。40.0Lトルエン中の15.83kg(182.50mol)3,4−ジヒドロ−2H−ピランの溶液を、得られた反応混合物に20℃で滴下方式で添加した。次いで、反応混合物を1時間20℃で撹拌し、反応が終結した後、37.0Lの水と、3.69L(49.28mol)のアンモニア溶液(25%)を添加した。相分離の後、有機相を40.0Lの水で洗浄し、次いで減圧下で溶媒を完全に留去した。
収率:32.0kg(理論値の88%)
[実施例1.2:(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−酢酸エチル(B)]
Figure 2010535838
100.00kg(960.52mol)のグリコール酸エチル(A)を180.0Lのトルエン中に溶解し、365.22g(1.92mol)の4−トルエンスルホン酸1水和物を添加した。20℃において、80.80kg(960.52mol)の3,4−ジヒドロ−2H−ピランの溶液を、得られた反応混合物に滴下方式で添加し、次いで混合物を20.0Lのトルエンで洗浄した。反応混合物を20℃で1時間撹拌し、反応が終結した後、反応混合物に100.0Lの水及び6.53kg(96.05mol)のアンモニア溶液(25%)を添加した。相分離の後、有機相を100.0Lの水で洗浄し、次いで減圧下で溶媒を完全に留去した。
収率:188.4kg(理論値の94.7%)
[実施例2.1:(3Z)−3−(4−ベンジルオキシ−3,5−ジメチル−フェニル)−2−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−アクリル酸エチル(D)]
Figure 2010535838
20.00kg(83.23mol)の4−ベンジルオキシ−3,5−ジメチルベンズアルデヒド(C)を50.0Lのテトラヒドロフランに溶解し、31.68kg(149.81mol)の(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−酢酸エチル(B)を添加した。20℃において、25.68kg(91.55mol)のカリウム−tert−アミラート(potassium-tert-amylate、テトラヒドロフラン中45%)を滴下方式で添加した。次いで、得られた反応混合物を20℃で3.5時間撹拌し、反応が終結した後、120.0Lの水を添加した。得られた懸濁液を0℃まで冷却し、この温度で1時間撹拌した。次いで生成物を遠心分離により除去し、乾燥させた。
収率:25.04kg(理論値の73%)
化学的純度(HPLC):99.8%
融点:122.6℃
[実施例2.2:(3Z)−3−(4−ベンジルオキシ−3,5−ジメチル−フェニル)−2−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−アクリル酸エチル(D)]
Figure 2010535838
100.0kg(416.15mol)の4−ベンジルオキシ−3,5−ジメチルベンズアルデヒド(C)を200.0Lのテトラヒドロフランに溶解し、141.41kg(749.06mol)の(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−酢酸エチル(B)を添加した。20℃で、128.42kg(457.76mol)のカリウム−tert−アミラート(potassium-tert-amylate、テトラヒドロフラン中45%)を滴下方式で添加した。次いで得られた反応混合物を25℃で2時間撹拌し、反応が終結した後、300.0Lの水を添加した。得られた懸濁液は25℃で1時間撹拌した。次いで生成物を遠心分離により除去し、乾燥させた。
収率:118.9kg(理論値の69.6%)
化学的純度(HPLC):99.8%
融点:122.6℃
[実施例3.1:(3Z)−3−(4−ベンジルオキシ−3,5−ジメチル−フェニル)−2−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−アクリル酸モノカリウム塩(E)]
Figure 2010535838
35.00kg(85.26mol)の(3Z)−3−(4−ベンジルオキシ−3,5−ジメチル−フェニル)−2−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−アクリル酸エチル(D)を157Lのtert−ブタノールに懸濁し、11.69kg(93.79mol)の45%水酸化カリウム溶液を計量して添加した。17.5Lのtert−ブタノールで洗浄し、反応混合物を1時間還流及び撹拌した。次いで溶液を60℃まで冷却した後、140.0Lのtert−ブチルメチルエーテルを添加した。次いで上記溶液を更に冷却し、20℃で種晶を添加した。20℃で1.5時間の撹拌の後、得られた生成物を遠心分離により除去して乾燥させた。
収率:35.50kg(理論値の99%)
化学的純度(HPLC):99.8%
融点:89℃
[実施例3.2:(3Z)−3−(4−ベンジルオキシ−3,5−ジメチル−フェニル)−2−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−アクリル酸モノカリウム塩(E)]
Figure 2010535838
115.0kg(280.15mol)(3Z)−3−(4−ベンジルオキシ−3,5−ジメチル−フェニル)−2−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)アクリル酸エチル(D)を、430Lのtert−アミルアルコールに懸濁し、38.42kg(308.16mol)の45%水酸化カリウム溶液を計量して添加した。30.0Lのtert−アミルアルコールで洗浄した後、反応混合物を還流温度まで加熱し、1時間撹拌した。次いで上記溶液を60℃まで冷却し、230.0Lのtert−ブチルメチルエーテルを添加した。次いで上記溶液を更に冷却し、40℃で種晶を添加した。20℃における1.0時間の撹拌の後、得られた生成物を遠心分離し、乾燥した。
収率:116.6kg(理論値の99%)
化学的純度(HPLC):99.8%
融点:89℃
[実施例4.1:(αR)−α−ヒドロキシ−3,5−ジメチル−4−(フェニルメトキシ)−フェニルプロパン酸モノナトリウム塩(H)]
Figure 2010535838
24.00kg(57.07mol)の(3Z)−3−(4−ベンジルオキシ−3,5−ジメチル−フェニル)−2−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−アクリル酸モノカリウム塩(E)を、240.0Lの2−メチルテトラヒドロフランに懸濁した。12.07kg(125.55mol)のメタンスルホン酸を0℃から5℃で添加した。得られた懸濁液を0℃で30分撹拌した。得られた溶液を−15℃にまで冷却した後、13.86kg(136.97mol)のトリエチルアミンを添加した。得られた懸濁液を0℃で30分間撹拌した。得られた溶液を−15℃にまで冷却した後、13.86kg(136.97mol)のトリエチルアミンを添加した。得られた懸濁液を、次いで、−15℃で42.24kg(85.60mol)のクロロジイソピノカンフェイルボラン(ヘプタン中65%)と組み合わせた。次いで反応混合物の温度を1時間以内に11℃まで上昇させ、48.0Lの水を滴下方式で添加した。2相の混合物の温度を25℃に調整し、水相を分離した。有機相を48.0Lの水で洗浄した。次いで、144Lの溶媒を減圧下で留去した。得られた残渣を168.0Lのテトラヒドロフランを添加することにより希釈し、3℃まで冷却した。得られた反応混合物に3℃で種晶を添加し、4.79kg(59.92mol)の水酸化ナトリウム溶液(50%)と20Lの水の混合物を計量して添加した。0℃から5℃で45分間撹拌した後、得られた生成物を遠心分離により除去し、乾燥させた。
収率:9.80kg(理論値の53%)
ee値:98%
化学的純度(HPLC):99.9%
[実施例4.2:(αR)−α−ヒドロキシ−3,5−ジメチル−4−(フェニルメトキシ)−フェニルプロパン酸モノナトリウム塩(H)]
Figure 2010535838
48.00kg(114.14mol)の(3Z)−3−(4−ベンジルオキシ−3,5−ジメチル−フェニル)−2−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−アクリル酸モノカリウム塩(E)を288.0Lのトルエン中に懸濁した。0℃から5℃で23.04kg(239.69mol)のメタンスルホン酸を添加した。得られた懸濁液を−5℃で30分間撹拌した。反応が完了した後、26.56kg(262.52mol)のトリエチルアミンを添加した。懸濁液を次いで、−5℃の温度で84.49kg(171.21mol)のクロロジイソピノカンフェイルボラン(ヘプタン中65%)と合わせた。次いで、反応混合物の温度を1時間以内に20℃まで上昇させ、192.0Lの水を滴下方式で添加した。2相混合物の温度を25℃に調整し、水相を分離した。有機相は308.0Lの水と10.04kg(125.55mol)の水酸化ナトリウム溶液(50%)と合わせた。この2相混合物を70℃まで加熱し、水相(生成物相)を分離した。次いで更に144Lの水を添加し、減圧下で48.0Lの溶媒を留去した。溶液を45℃に冷却し、種晶を添加した。次いで、溶液を更に20℃まで冷却した。20℃で30分間撹拌した後、得られた生成物を遠心分離して乾燥させた。
収率:23.9kg(理論値の65%)
ee値:99.6%
化学的純度(HPLC):99.9%
[実施例4.3:(αR)−α−ヒドロキシ−3,5−ジメチル−4−(フェニルメトキシ)−フェニルプロパン酸−モノナトリウム塩(H)]
Figure 2010535838
61.9kg(147.4mol)の(3Z)−3−(4−ベンジルオキシ−3,5−ジメチル−フェニル)−2−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−アクリル酸−モノカリウム塩(E)を300kgのトルエンに懸濁し、0℃で27.0L(189mol)のジオキサン性塩酸(7.0mol)を計量して添加し、22kgのトルエンを次いで添加した。得られた懸濁液は同じ温度で30分間撹拌した。懸濁液を20℃で30分以内に87.3kg(177.3mol)のクロロジイソピノカンフェイルボラン(ヘプタン中65%)と合わせ、次いで同じ温度で更に30分間撹拌した。得られた溶液は次いで、同じ温度で309Lの水で抽出した。有機相を319Lの水及び14.4kg(162mol)水酸化ナトリウム溶液(45%)と合わせた。2相混合物を70℃まで加熱し、水相(生成物相)を分離した。この相を124Lの水で希釈した後、溶液を40℃まで冷却し、240gの(H)を種晶として添加し、25℃まで冷却して最低30分撹拌した。得られた生成物をろ過し、20mlの水で洗浄して乾燥させた。
収率:26.7kg(理論値の56%)
ee値:98.6%
化学的純度(HPLC):99.9%
[実施例4.4:(αR)−α−ヒドロキシ−3,5−ジメチル−4−(フェニルメトキシ)−フェニルプロパン酸−モノナトリウム塩(H)]
Figure 2010535838
20g(47.6mmol)の(3Z)−3−(4−ベンジルオキシ−3,5−ジメチル−フェニル)−2−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−アクリル酸−モノカリウム塩(E)を60mLのトルエンに懸濁した。0℃から5℃で、12mL(144.9mmol)の37%水性塩酸を加えた。得られた懸濁液を5℃から10℃で30分間撹拌した。次いで懸濁液を、20℃で28.2g(57.2mmol)のクロロジイソピノカンフェイルボラン(ヘプタン中65%)と合わせて、次いで同じ温度で30分間撹拌した。得られた溶液を次いで、同じ温度で60mLの水で抽出した。有機相を60mLの水と4.2g(52.5mmol)の水酸化ナトリウム溶液(50%)と合わせた。2相混合物を70℃まで加熱し、水相(生成物相)を分離した。80mLの水で希釈した後、溶液を40℃まで冷却して種晶を添加し、種晶を添加した際の温度で更に10分間撹拌した。次いで、それを更に20℃まで冷却し、2時間撹拌した。得られた生成物をろ過し、20mlの水で洗浄して乾燥させた。
収率:9.2g(理論値の60%)
ee値:>99.9%
化学的純度(HPLC):99.9%
[実施例5.1:(1R)−4−(1,2,4,5−テトラヒドロ−2−オキソ−3H−1,3−ベンゾジアゼピン−3−イル)−1−カルボキシ−2−[3,5−ジメチル−4−(フェニルメトキシ)フェニル]−1−ピペリジンカルボン酸エチル(J)]
Figure 2010535838
10.00kg(31.02mol)の(αR)−α−ヒドロキシ−3,5−ジメチル−4−(フェニルメトキシ)−フェニルプロパン酸モノナトリウム塩(H)を取り、12.11kg(35.68mol)の1−(1H−イミダゾール−1−イル−カルボニル)−4−(1,2,4,5−テトラヒドロ−2−オキソ−3H−1,3−ベンゾジアゼピン−3−イル)−ピペリジン(I)を添加して、この混合物を160.0Lのtert−アミルアルコール中に懸濁した。次いで、30.0Lの溶媒を常圧で留去した。次いで15.96kg(34.13mol)のカリウム−tert−ブトキシド テトラヒドロフラン溶液を82℃で反応混合物に添加し、10.0Lのtert−アミルアルコールで洗浄した。82℃で1時間撹拌した後、16.59kg(136.51mol)の塩酸(30%)を添加した。結晶化を開始した後、23Lの水を流し込み、懸濁液を22℃まで冷却した。次いで懸濁液を22℃で16時間撹拌し、得られた生成物を遠心分離により除去して乾燥させた。
収率:17.70kg(理論値の93%)
ee値:99.9%
化学的純度(HPLC):98.7%
融点:132℃
[実施例5.2:(1R)−4−(1,2,4,5−テトラヒドロ−2−オキソ−3H−1,3−ベンゾジアゼピン−3−イル)−1−カルボキシ−2−[3,5−ジメチル−4−(フェニルメトキシ)フェニル]−1−ピペリジンカルボン酸エチル(J)]
Figure 2010535838
30.00kg(93.07mol)の(αR)−α−ヒドロキシ−3,5−ジメチル−4−(フェニルメトキシ)−フェニルプロパン酸モノナトリウム塩(H)を取り、33.17kg(97.72mol)の1−(1H−イミダゾール−1−イル−カルボニル)−4−(1,2,4,5−テトラヒドロ−2−オキソ−3H−1,3−ベンゾジアゼピン−3−イル)−ピペリジン(I)を添加して、この混合物を510.0Lのtert−アミルアルコール中に懸濁した。120.0Lの溶媒を、次いで常圧で留去した。次いで、57.44kg(102.38mol)のカリウム−tert−ブトキシド テトラヒドロフラン溶液を、82℃で反応混合物に添加し、30.0Lのtert−アミルアルコールで洗浄した。82℃で1.5時間撹拌した後、49.77kg(409.52mol)の塩酸(30%)を添加した。結晶化を開始した後、69.0Lの水を流し込み、懸濁液を22℃まで冷却した。次いで懸濁液は22℃で少なくとも2時間撹拌し、得られた生成物を遠心分離により除去して乾燥させた。
収率:47.88kg(理論値の90%)
ee値:99.9%
化学的純度(HPLC):98.7%
融点:132℃
[実施例5.3:(1R)−4−(1,2,4,5−テトラヒドロ−2−オキソ−3H−1,3−ベンゾジアゼピン−3−イル)−1−カルボキシ−2−[3,5−ジメチル−4−(フェニルメトキシ)フェニル]−1−ピペリジンカルボン酸エチル(J)]
Figure 2010535838
55.4kg(172.0mol)の(αR)−α−ヒドロキシ−3,5−ジメチル−4−(フェニルメトキシ)−フェニルプロパン酸モノナトリウム塩(H)を取り、64.2kg(189.4mol)の1−(1H−イミダゾール−1−イル−カルボニル)−4−(1,2,4,5−テトラヒドロ−2−オキソ−3H−1,3−ベンゾジアゼピン−3−イル)−ピペリジン(I)を添加して、この混合物を149kgのN,N−ジメチルホルムアミド中に懸濁した。次いで70℃で、111kg(198.2mol)の20%のカリウム−tert−ブトキシド テトラヒドロフラン溶液を、反応混合物に添加した。得られた溶液を30分間撹拌し、次いで連続して、23kgのN,N−ジメチルホルムアミド、192Lの水及び100kgのイソプロパノールで希釈した。次いで、65℃で66.2kg(653.6mol)の塩酸(36%)を添加した。同一の温度で種晶を添加した後、混合物を2.5時間以内に段階的に20℃まで冷却して、更に60分間撹拌した。得られた生成物を遠心分離し、乾燥させた。
収率:96.6kg(理論値の98%)
ee値:99.7%
化学的純度(HPLC):99.5%
[実施例6.1:4−[1−(フェニルメチル)−4−ピペリジニル]−モルホリン−2塩酸塩(M)]
Figure 2010535838
10.00kg(52.84mol)の1−ベンジルピペリドン(K)を取り、9.21kg(105.68mol)のモルホリン(L)及び30.0Lの酢酸イソプロピルを添加した。得られた反応混合物を、水分離器を使用して還流温度(95℃)まで加熱し、それ以上水が分離されなくなるまで撹拌した。次いで混合物を4bar、内部温度60℃で、0.50kgのラネーニッケル触媒の存在下で水素化した。次いで減圧下で溶媒を完全に留去した。次いで、45.0Lのエタノールを添加し、10.87kg(116.25mol)のエタノール−10mol塩酸を計量して添加した。得られた懸濁液を20℃まで冷却し、20℃で30分間撹拌した。生成物を遠心分離して乾燥させた。
収率:15.1kg(理論値の86%)
化学的純度(GC):99.7%
[実施例6.2:4−[1−(フェニルメチル)−4−ピペリジニル]−モルホリン−2塩酸塩(M)]
Figure 2010535838
10.00kg(52.84mol)1−ベンジルピペリドン(K)を取り、9.21kg(105.68mol)のモルホリン(L)及び50.0Lのトルエンを添加した。次いで、得られた反応混合物を水分離器を使用して還流温度まで加熱し(110℃)、それ以上水が分離されなくなるまで撹拌した。次いで、6Lエタノール中、0.50kgラネーニッケル触媒の存在下、混合物を4bar、内部温度60℃で水素化した。触媒を分離し、20Lエタノールで洗浄した。次いで、減圧下で溶媒を完全に留去した。次いで、80.0Lのエタノールを添加し、50℃で16.05kg(132.10mol)の塩酸(30%)を計量して添加した。得られた懸濁液を20℃まで冷却し、20℃で30分間撹拌した。生成物を遠心分離し、乾燥させた。
収率:15.5kg(理論値の88%)
化学的純度(GC):99.9%
[実施例7:4−(4−ピペリジニル)−モルホリン(N)]
Figure 2010535838
10.00kg(30.00mol)の4−[1−(フェニルメチル)−4−ピペリジニル]−モルホリン−2塩酸塩(M)を50.0Lのtert−ブタノール及び10.0Lの中に懸濁し、45℃まで加熱した。45℃において、24.0Lの水中の10.37kg(75.01mol)の炭酸カリウムの溶液を計量して添加した。次いで水相を45℃で分離し、20.0Lの溶媒を減圧下で留去した。混合物は4bar、および内部温度60℃で、水素の取り込みがそれ以上検出されなくなるまで水素化した。反応が完了した後、触媒をろ過し、残渣を20.0Lのtert−ブタノールで洗浄した。
得られた水素化している溶液を、次いで反応器に移し、溶媒を減圧下で完全に留去した。油が残され、短時間の後に結晶化した。
収率:5.53kg(理論値の88%)
融点:40.6℃
[実施例8:4−(4−ピペリジニル)−モルホリン塩酸塩(O)]
Figure 2010535838
10.00kg(58.74mol)の4−(4−ピペリジニル)−モルホリン(N)を100.0Lエタノール中に添加し、50℃まで加熱した。50℃で、12.15kg(123.35mol)の濃縮塩酸(37%)を計量して添加した。得られた懸濁液を20℃まで冷却し、20℃で30分撹拌した。生成物を遠心分離し、乾燥させた。
収率:11.46kg(理論値の80%)
[実施例9:4−(4−ピペリジニル)−モルホリン塩酸塩(O)]
Figure 2010535838
30.00kg(90.01mol)の4−[1−(フェニルメチル)−4−ピペリジニル]−モルホリン−2塩酸塩(M)を67.5Lのメタノール、20.0Lの水に溶解した。次いで、混合物を4bar、内部温度50℃、1.80kgの活性炭上のパラジウムの存在下で、水素の取り込みがそれ以上検出されなくなるまで水素化した。反応が終結した後、触媒をろ過し、18.0Lのメタノールと2.0Lの水との混合物で洗浄した。得られた水素化の溶液を次いで反応器に移して、60℃まで加熱した。60℃で、540.0Lのエタノールを計量して添加した。得られた懸濁液を5℃まで冷却した。生成物は遠心分離し、乾燥させた。
収率:19.69kg(理論値の90%)
化学的純度(GC):99.8%
[実施例10.1:2−オキソエチル(1R)−4−(1,2,4,5−テトラヒドロ−2−オキソ−3H−1,3−ベンゾジアゼピン−3−イル)−1−[[3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル]メチル]−2−[4−(4−モルホリニル)−1−ピペリジニル]−1−ピペリジンカルボキシレート酒石酸塩(P)]
Figure 2010535838
10.00kg(17.49mol)の(1R)−4−(1,2,4,5−テトラヒドロ−2−オキソ−3H−1,3−ベンゾジアゼピン−3−イル)−1−カルボキシ−2−[3,5−ジメチル−4−(フェニルメトキシ)フェニル]−1−ピペリジンカルボン酸エチル(J)を取り、5.10kg(20.99mol)の4−(4−ピペリジニル)−モルホリン−2塩酸塩(O)及び85.0L酢酸エチルをそれに加えた。得られた反応混合物に20℃で8.85kg(87.45mol)のトリエチルアミンを添加し、次いで混合物を5.0Lの酢酸エチルで洗浄した。30分以内に17.81kg(27.99mol)の50%プロパンホスホン酸無水物を滴下方式で添加した。更なる30分の反応時間の後、25.0Lの水を添加した。水相を分離して25.0Lの水中、3.63kg(26.24mol)の炭酸カリウムの溶液を添加した。水相を分離し、常圧で85.0Lの溶媒を留去した。118.0Lのエタノールと0.65kgのパラジウム/活性炭(10%)を添加した。混合物を次いで、3bar、40℃の内部温度で、水素の取り込みがそれ以上検出されなくなるまで水素化した。反応が完了した後、触媒をろ過し、残渣を20.0Lのエタノールで洗浄した。常圧で、43.0Lの溶媒を留去し、75℃で35.0Lのイソプロピルアルコールを添加した。溶液を、加圧フィルターを通過させてろ過し、10.0Lのイソプロピルアルコールで洗浄して、次いで反応混合物を65℃まで冷却した。溶液を10gの種晶と合わせた。次いで、3.0Lの水中、2.89kg(19.24mol)のL(+)−酒石酸を添加し、混合物を5.0Lのイソプロピルアルコールで洗浄した。65℃で1時間の撹拌の後、懸濁液を室温まで冷却し、生成物をろ過して乾燥させた。
収率:10.97kg(理論値の80%)
化学的純度(HPLC):99.4%
ee値:99.6%
融点:198℃
[実施例10.2:2−オキソエチル(1R)−4−(1,2,4,5−テトラヒドロ−2−オキソ−3H−1,3−ベンゾジアゼピン−3−イル)−1−[[3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル]メチル]−2−[4−(4−モルホリニル)−1−ピペリジニル]−1−ピペリジンカルボキシレート−酒石酸塩(P)]
Figure 2010535838
30.00kg(52.48mol)の(1R)−4−(1,2,4,5−テトラヒドロ−2−オキソ−3H−1,3−ベンゾジアゼピン−3−イル)−1−カルボキシ−2−[3,5−ジメチル−4−(フェニルメトキシ)フェニル]−1−ピペリジンカルボン酸エチル(J)を取り、15.31kg(62.97mol)の4−(4−ピペリジニル)−モルホリン−2塩酸塩(O)と210.0Lの酢酸エチルをそれに添加した。40℃で26.55kg(262.39mol)のトリエチルアミンを得られた反応混合物に添加し、次いでそれを15.0Lの酢酸エチルで洗浄した。30分以内に、53.43kg(83.97mol)の50%プロパンスルホン酸無水物を40℃で滴下方式で添加した。更に2時間の反応時間の後、60.0Lの水を添加した。水相を分離し、60.0Lの水中、10.88kg(78.72mol)の炭酸カリウムの溶液を添加した。水相を分離し、有機相を再度60Lの水で洗浄した。次いで、210.0Lの溶媒を減圧下で留去した。次いで、90.0Lのエタノールと1.95kgのパラジウム/活性炭(10%)を添加した。次いで、混合物を3bar、40℃の内部温度で、水素の取り込みがそれ以上検出されなくなるまで水素化した。反応が完了した後、触媒をろ過し、35.0Lのイソプロパノールで洗浄した。溶液を、加圧フィルターを通過させてろ過し、10.0Lのイソプロピルアルコールで洗浄し、反応混合物を次いで65℃まで加熱した。溶液を30gの種晶と合わせた。次いで、9.0Lの水中、9.06kg(60.35mol)のL(+)−酒石酸の溶液を添加し、混合物を7.5Lのイソプロピルアルコールで洗浄した。65℃で1時間の撹拌の後、懸濁液を1.5時間以内に5℃まで冷却し、1時間撹拌して、生成物をろ過して乾燥させた。
収率:34.80kg(理論値の85%)
化学的純度(HPLC):99.4%
ee値:99.6%
融点:198℃
[実施例10.3:2−オキソエチル(1R)−4−(1,2,4,5−テトラヒドロ−2−オキソ−3H−1,3−ベンゾジアゼピン−3−イル)−1−[[3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル]メチル]−2−[4−(4−モルホリニル)−1−ピペリジニル]−1−ピペリジンカルボキシレート酒石酸塩(P)]
Figure 2010535838
32.6kg(133.9mol)の4−(4−ピペリジニル)−モルホリン−2塩酸塩(O)を290kgトルエン中に添加し、56.4kg(557.4mol)のトリエチルアミンと合わせて、混合物を85℃で60分間撹拌した。懸濁液を30℃まで冷却し、61.2kg(107.1mol)の(1R)−4−(1,2,4,5−テトラヒドロ−2−オキソ−3H−1,3−ベンゾジアゼピン−3−イル)−1−カルボキシ−2−[3,5−ジメチル−4−(フェニルメトキシ)フェニル]−1−ピペリジンカルボン酸エチル(J)と合わせた。次いで、酢酸エチル中105.4kg(165.6mol)の50%プロパンホスホン酸無水物を、40℃で30分以内に滴下方式で添加し、混合物を26kgのトルエンで洗浄した。更に3時間の反応時間の後、245Lの水及び98kgの2−ブタノールを連続して添加した。水相を50℃で分離し、有機相を18.4kg(183.6mol)の炭酸水素カリウム及び245Lの水と合わせた。再度50℃で相分離をし、更に184Lの水で抽出した後、有機相を3.1kgのNorit SX Ultra及び33Lのエタノールと合わせ、次いでろ過した。33Lのエタノールと3.1kgのパラジウム/活性炭(10%)を溶液に添加した。次いで、混合物を4bar、最大50℃の内部温度で、水素の取り込みがそれ以上検出されなくなるまで水素化した。反応が終結した後、触媒をろ過し、44Lのエタノールで洗浄した。溶液を60℃、減圧下でもともとの体積の3分の1まで濃縮し、98kgのエタノールと合わせて、加圧フィルターを通過させてろ過した。65℃でろ液を242kgのイソプロピルアルコールで希釈した。次いで、22Lの水中、18.7kg(124.5mol)のL(+)−酒石酸の溶液を添加し、混合物を49kgのエタノールで洗浄した。反応混合物に65℃で種晶を添加し、この温度で45分間撹拌し、20℃で更に2時間撹拌した。最後に、生成物をろ過し、乾燥させて、湿った窒素気流を使用して所定の水分含量まで平衡化した。
収率:80.8kg(理論値の94%)
化学的純度(HPLC):99.7%
ee値:>99.5%
[実施例11:(3Z)−3−(4−tert−ブチロキシカルボニロキシ−3,5−ジメチル−フェニル)−2−(テトラヒドロピラン−2−イルオキシ)−アクリル酸モノジシクロヘキシルアミン塩(S)]
Figure 2010535838
20.00g(79.91mmol)の4−tert−ブチロキシカルボニロキシ−3,5−ジメチルベンズアルデヒド(R)を120.0mlの2−メチルテトラヒドロフランに溶解し、31.04g(194.23mmol)のベンジロキシ−酢酸エチル(Q)を添加した。20℃で、26.9g(95.90mol)のカリウム−tert−アミラート(potassium-tert-amylate;テトラヒドロフラン中45%)を滴下方式で添加した。次いで、得られた反応混合物を20℃で2時間撹拌し、反応が完了した後、混合物を30mlの水及び16.0gの水酸化ナトリウム溶液(50%)(199.8mmol)と合わせた。反応混合物を還流温度まで加熱し、1時間撹拌した。酢酸で中和し、相分離した後、有機相を減圧下で濃縮した。残渣を80mlのトルエン及び250mlのn−ヘプタンと合わせた。30.0g(165.45mmol)のジシクロヘキシルアミンを添加した後、得られた懸濁液を、室温で20時間撹拌した。生成物をろ過紙、乾燥させた。
収率:11.47g(理論値の24.8%)
融点:140℃

Claims (15)

  1. 一般式Iの化合物の調製方法であって、以下の工程を含む方法:
    Figure 2010535838
    (I)
    (式中、R1は、H、C1-3−アルキル、C(O)−O−ベンジル、C(O)−O−tert−ブチル又はベンジルを示し、
    2は、第2級アミン−NR2.12.2を示し、
    ここで、R2.1及びR2.2は、互いに独立してC1-3−アルキル及びベンジルの中から選択されてもよく又は
    基−NR2.12.2は、共に、モルフォリン−4−イル−、1−メチルピペラジン−4−イル−、1−ベンジルピペラジン−4−イル−、1−(C1-3−アルキルカルボニル)−ピペラジン−4−イル−、1−(tert−ブチロキシカルボニル)−ピペラジン−4−イル−、1−(ベンジロキシカルボニル)−ピペラジン−4−イル−、ピペリジン−1−イル−、及びピロリジン−1−イル−の中から選択される環状アミンを形成していてもよい。)
    (a)必要に応じて酸の存在下、及び非極性非プロトン性溶媒中で、一般式IIのグリコール酸エチルを保護基を導入するための試薬と反応させて、一般式IIIのエステルを形成すること;
    Figure 2010535838
    (II)
    (式中、R3は、C1-6−アルキル基を示す。)
    Figure 2010535838
    (III)
    (式中、PGは、保護基を示し及び
    3は、C1-6−アルキル基を示す。)
    (b)工程(a)の下で得られる一般式IIIのエステルを溶媒と混合し、強塩基の存在下、一般式IVの化合物と反応させること;
    Figure 2010535838
    (IV)
    (式中、R1は、上記で定義されたとおりである。)
    (c)工程(b)の下で得られる一般式Vの化合物を溶媒と混合し、強塩基を添加すること;
    Figure 2010535838
    (V)
    (式中、PG、R1及びR3は、上記で定義されたとおりである。)
    (d)必要に応じて、工程(c)の下で得られる一般式VIの化合物を極性溶媒から再結晶化し、得られる前記化合物を単離すること;
    Figure 2010535838
    (VI)
    (式中、PGは、保護基を示し、
    1は、H、C1-3−アルキル、C(O)−O−ベンジル、C(O)−O−tert−ブチル又はベンジルを示し、
    4は、基H2+(R4.12、HN+(R4.13又はM+を示し、
    4.1は、ベンジル、C1-6−アルキル又はC3-6−シクロアルキルを示し、ここで、複数の基R4.1は、同一であっても異なっていてもよく及び
    +は、Na+、K+及びLi+から選択される金属カチオンを示す。)
    (e)工程(d)の下で得られる一般式VIの化合物を溶媒と混合し、低温で酸を添加すること;
    (f)工程(e)の下で得られる一般式VIIの化合物から、保護基PGを開裂すること;
    Figure 2010535838
    (VII)
    (式中、PG及びR1は、上記で定義されたとおりである。)
    (g)工程(f)の下で得られる一般式VIIIの化合物を還元剤の存在下で、必要に応じて塩基の存在下で還元し、一般式IXの化合物を形成すること;
    Figure 2010535838
    (VIII)
    (式中、R1は、上記で定義されたとおりである。)
    Figure 2010535838
    (IX)
    (式中、R1は、上記で定義されたとおりである。)
    (h)水酸化リチウム、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムの中から選択される対応するアルカリ溶液を添加することにより、工程(g)の下で得られる一般式IXの化合物を、一般式Xのアルカリ金属塩の形で単離すること;
    Figure 2010535838
    (X)
    (式中、R1は、上記で定義されたとおりであり、M+は、Li+、Na+及びK+の中から選択される金属カチオンを示す。)
    (i)工程(h)の下で得られる一般式Xの化合物を、一般式XIの化合物とカップリングさせること;
    Figure 2010535838
    (XI)
    (式中、R5は窒素原子を介して結合するイミダゾール基又はトリアゾール基を示す。)
    (j)工程(i)で形成される一般式XIIの生成物を、一般式XIIIの化合物と反応させること;
    Figure 2010535838
    (XII)
    (式中、R1は、上記で定義されたとおりである。)
    Figure 2010535838
    (XIII)
    (式中、R2、は上記で定義されたとおりであり、nは0、1、2又は3の数のうちの1つを示す。)
    (k)R1が水素原子を示す一般式Iの化合物を調製するため、必要に応じて、続いて、R1がC(O)−O−ベンジル基、C(O)−O−tert−ブチル基又はベンジル基を示す一般式Iの化合物から、存在している全ての保護基を開裂すること;及び
    (l)工程(k)の下で得られる、R1が水素原子を示す一般式Iの化合物を、必要に応じて、極性溶媒中で生理的に許容される酸と反応させて対応する塩を形成し、前記対応する塩を晶出し、単離すること。
  2. 1が水素原子又はベンジル基を示すことを特徴とする請求項1の方法。
  3. 2が第2級アミン−NR2.12.2であり、ここで基−NR2.12.2は共にモルフォリン−4−イルを示すことを特徴とする請求項1の方法。
  4. 3がエチル基を示すことを特徴とする請求項1の方法。
  5. 一般式Vの化合物。
    Figure 2010535838
    (V)
    (式中、PGは、保護基を示し、
    1は、H、C1-3−アルキル、C(O)−O−ベンジル、C(O)−O−tert−ブチル又はベンジルを示し及び
    3は、C1-6−アルキルを示す。)
  6. 請求項2の一般式Vの下記の化合物。
    Figure 2010535838
  7. 請求項5の式Vaの以下の化合物。
    Figure 2010535838
    (Va)
  8. 一般式Vの化合物の調製方法であって、以下の点を特徴とする方法:
    Figure 2010535838
    (V)
    (式中、PGは、保護基を示し、
    1は、H、C1-3−アルキル、C(O)−O−ベンジル、C(O)−O−tert−ブチル又はベンジルを示し及び
    3は、C1-6−アルキルを示す。)
    (a)非極性非プロトン性溶媒中、必要に応じて酸又は塩基の存在下、一般式IIのグリコール酸エステルを、保護基を導入するための試薬と反応させて、一般式IIIのエステルを形成すること;
    Figure 2010535838
    (II)
    (式中、R3は、C1-6−アルキル基を示す。)
    Figure 2010535838
    (III)
    (式中、PGは、保護基を示し、
    3は、C1-6−アルキル基を示す。)
    (b)工程(a)の下で得られる一般式IIIのエステルを溶媒と混合し、強塩基の存在下で一般式IVの化合物と反応させること;及び
    Figure 2010535838
    (IV)
    (式中、R1は、上記で定義されたとおりである。)
    (c)工程(b)の下でこのようにして得られる一般式Vの化合物を、必要に応じて再結晶化すること。
    Figure 2010535838
    (V)
    (式中、PG、R1及びR3は、上記で定義されたとおりである。)
  9. 一般式VIの化合物。
    Figure 2010535838
    (VI)
    (式中、PGは、保護基を示し、
    1は、H、C1-3−アルキル、C(O)−O−ベンジル、C(O)−O−tert−ブチル又はベンジルを示し、
    4は、基H2+(R4.12、NH+(R4.13又はM+を示し、
    4.1は、ベンジル、C1-6−アルキル又はC3-6−シクロアルキルを示し及び
    +は、Na+、K+及びLi+から選択される金属カチオンを示す。)
  10. 請求項9の一般式VIの下記の化合物。
    Figure 2010535838
  11. 請求項9の式VIaの下記の化合物。
    Figure 2010535838
    (VIa)
  12. 請求項9の式VIeの下記の化合物。
    Figure 2010535838
    (VIe)
  13. 一般式VIの化合物の調製方法であって、以下を特徴とする方法:
    Figure 2010535838
    (VI)
    (式中、PGは保護基を示し、
    1は、H、C1-3−アルキル、C(O)−O−ベンジル、C(O)−O−tert−ブチル又はベンジルを示し、
    4は、基H2+(R4.12、HN+(R4.13又はM+を示し、
    4.1は、ベンジル、C1-6−アルキル又はC3-6−シクロアルキルを示し及び
    +は、Na+、K+及びLi+から選択される金属カチオンを示す。)
    (a)一般式Vの化合物を極性溶媒と混合し、無機強塩基を添加すること;及び
    Figure 2010535838
    (V)
    (ここでPG、R1及びR3は、上記で定義されたとおりである。)
    (b)工程(a)の下で得られる一般式VIの化合物を次いで単離すること。
    Figure 2010535838
    (VI)
    (式中、PG、R1及びR4は、上記で定義されたとおりである。)
  14. 一般式XIIIの化合物の調製方法であって、以下の工程を含む方法:
    Figure 2010535838
    (XIII)
    (式中、nは1、2又は3の数の1つであり、
    2は、第2級アミン−NR2.12.2を示し、ここで、
    2.1及びR2.2は、互いに独立してC1-3−アルキル及びベンジルの中から選択されてもよく又は
    基−NR2.12.2は、共に、モルフォリン−4−イル−、1−メチルピペラジン−4−イル−、1−ベンジルピペラジン−4−イル−、1−(C1-3−アルキルカルボニル)−ピペラジン−4−イル−、1−(tert−ブチロキシカルボニル)−ピペラジン−4−イル−、1−(ベンジロキシカルボニル)−ピペラジン−4−イル−、ピペリジン−1−イル−、及びピロリジン−1−イル−の中から選択される環状アミンを形成していてもよい。)
    (a)1−ベンジルピペリドンを溶媒中、脱水条件下、一般式XIVのアミンと反応させること;
    H−NR2.12.2
    (XIV)
    (式中、R2.1及びR2.2は、上記で定義されたとおりである。)
    (b)工程(a)で形成されるエナミンを、加圧条件下及び触媒の存在下で還元し、塩酸を添加することにより、結果として生成する一般式XVの生成物を単離すること;
    Figure 2010535838
    (XV)
    (式中、n、R2.1及びR2.2は、上記で定義されたとおりである。)
    (c)工程(b)の下で得られた一般式XVの化合物から、ベンジル保護基を除去し、一般式XVIの化合物を単離すること。
    Figure 2010535838
    (XVI)
    (式中、n、R2.1及びR2.2は、上記で定義されたとおりである。)
  15. 一般式XIIIの化合物の調製方法であって、以下の工程を含む方法:
    Figure 2010535838
    (XIII)
    (式中、nは、1、2又は3の数の1つを示し、
    2は、第2級アミン−NR2.12.2を示し、
    2.1及びR2.2は、互いに独立してC1-3−アルキル及びベンジルの中から選択されてもよく又は
    基−NR2.12.2は、共に、モルフォリノ−4−イル−、1−メチルピペリジン−4−イル−、1−ベンジルピペラジン−4−イル−、1−(C1-3−アルキルカルボニル)−ピペラジン−4−イル−、1−(tert−ブチロキシカルボニル)−ピペラジン−4−イル−、1−(ベンジロキシカルボニル)−ピペラジン−4−イル−、ピペリジン−1−イル−及びピロリジン−1−イル−の中から選択されてもよい環状アミンを形成する。)
    (a)1−ベンジルピペリドンを、溶媒中、脱水条件下で一般式(XIV)のアミンと反応させること;
    H−NR2.12.2
    (XIV)
    (式中、R2.1及びR2.2は、上記で定義されたとおりである。)
    (b)工程(a)の下で得られるエナミンを、加圧条件下、且つ触媒の存在下で還元し、塩酸を添加することにより、結果として生じる一般式XVの生成物を単離すること;
    Figure 2010535838
    (XV)
    (式中、n、R2.1及びR2.2は、上記で定義されたとおりである。)
    (c)工程(b)の下で得られ、n、R2.1及びR2.2が上記で定義されたとおりである一般式XVの化合物を、極性溶媒中で塩基と反応させ、R2.1及びR2.2が上記で定義されたとおりであり、nが0の数を示す一般式XVの化合物を形成すること;
    (d)工程(c)の下で得られる一般式XVの化合物からベンジル保護基を除去し、一般式XVIの化合物を単離すること;及び
    Figure 2010535838
    (XVI)
    (式中、R2.1及びR2.2は、上記で定義されたとおりであり、nは0の数を示す。)
    (e)工程(d)の下で得られ、nが0の数を示す一般式XVIの化合物を、溶媒中で塩酸を加えることにより反応させ、nが1、2又は3の数のうちの1つを示す一般式XVIの化合物を得ること。
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