JP2010531163A - 不規則な矩形の放射線撮像装置及び該装置から成る口外歯科用撮像システム - Google Patents

不規則な矩形の放射線撮像装置及び該装置から成る口外歯科用撮像システム Download PDF

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Abstract

放射線撮像装置には、複数の個別検知器を含み、該個別検知器でX線に反応する不規則な矩形のアクティブ領域を画定し、該個別検知器はアクティブ領域の長さに沿って異なる幅を有する。個別検知器を異なる矩形とし、マザーボードに実装してもよい。該マザーボードを、2つの個別検知器の第1個別検知器を実装する第1モジュールと、該第1モジュールに取外可能に連結し、2つの個別検知器の第2個別検知器を実装する第2モジュールとから、形成してもよい。

【選択図】 図1

Description

本出願では、先に出願した2007年2月11日付米国特許出願第11/673,583号の利益を主張するものであり、該出願では、2006年3月27日付米国特許出願第11/277,530号の利益を主張しており、該出願では、2005年5月2日付米国特許出願第60/677,020号の利益を主張しており、それら全てを引用によりここに組込み、本出願を、それらへの米国本出願特許の一部継続出願とする。
本発明は、デジタル放射線撮像に関する。特に、本発明は、様々なサイズや形の最適化した撮像領域を、別々の半導体画素検出器をモザイク状に並べて組合せて、センサのアクティブ領域の形を、特定用途のX線ビーム形状(又は複数の形状)に出来る限り正確に合致させるように作製して、効率的に構成することに関する。
デジタルX線撮像装置を構成する際に主要な問題となるのは、広いセンサ領域を製造する点である。一般的に、市販の最先端の大面積装置は、フラット・パネル技術によるものである。シンチレータ-CCDセンサ等他の技術に基づくセンサ、又は特に半導体CMOSセンサは、高画質だが、製造可能なアクティブ撮像領域は限定される。
単一のCCDセンサ及びCMOSセンサ検出器チップの最大の連続アクティブ領域は、典型的には数平方センチメートル(cm2)である。これら単一検出チップを、モザイク状に並べて実装して組合せ、広面積を形成することもある。こうしたモザイク状の構成は、走査システムに上手く適用されており、該システムでは、アクティブ撮像領域をスロット形状として、直線に配列した撮像素子を形成している。数十cm2の矩形撮像領域も、製造出来ている。CCD及びCMOSセンサの矩形領域を広くするのは、単一のCCD及びCMOSチップの片側には必ず外部電気接続部が必要で、該片側に並置して実装しないようにするため、限定される。撮像領域を別々の微小検知素子から構成する利点として、柔軟に異形領域を形成できる点や、費用効率良く生産できる点が挙げられる。しかしながら、先行技術のセンサは、こうしたニーズには対応できていない。
用途によっては、異なる撮像モードに対して異なるセンサ領域を必要とする可能性がある。例えば、現代のデジタル歯科用口外X線撮像では、同一撮像システムで、ファンビームパノラマ走査獲得とコーンビーム三次元(3D)撮像の両方を行えるようにしなければならない。走査モードでは、垂直で比較的長いスロット状の撮像領域が、センサ領域とX線ファンビーム形状とを合致させ、読出速度を最適化するために、好適であり、3Dモードでは、垂直で短いが、水平方向に幅広なセンサ領域が、適切なコーンビーム対象範囲を提供するのに最適である。
先行技術では、これらの部分的に矛盾するセンサ領域に関する必要条件を満たすために、現代の歯科用口外X線システムの製造者らは、2種類の異なる利用可能な最先端のデジタルセンサを使用する、或はファンビーム形状とコーンビーム形状の両方をカバーするのに十分な面積の矩形を有する1つの大型センサ(通常フラットパネル)を使用する、必要がある。これら選択肢の両方共が、費用、コンパクト性、効果的利用の点でマイナスとなっている。本発明では、上述した両撮像モードに対して最適化した固有な異形アクティブ領域を有する新規なデジタルX線センサを導入することで、この問題に対処する。本発明を、同様な撮像領域に関する必要条件を有する他のX線撮像用途に役立てるためにも使用できる。本発明は、特に半導体CMOS検出技術で良好に実現できるだけでなく、シンチレータCCD技術等他の技術でも実現可能である。
単一検出素子で広いモザイク状アクティブ撮像領域を構成するいくつかのアイデアや方法が、導入及び特許化されている(米国特許第6,207,744号、米国特許第5,812,191号、欧州特許第EP0421869号、国際公開第WO9708751号、欧州特許第EP0138647号)。かかる方法では、一般的に、矩形又はスロット形状の十分に広い規則的な撮像領域を実現することを目的としており、殆どの提示された方法では、別々の検知素子間のやむを得ないデッドスペースや死角領域を最小化する技術を教示している。隣接する検知素子のアクティブ領域間の間隙を、該素子を互いに物理的に接触させて実装することで、明らかに最小化している。多素子センサの素子間デッドスペースを排除、或は最小化するのが、均質なX線画像を得るのに理想的であるが、別々の検知素子を物理的に互いに接触させて組み立てるのは、製造の観点から実現可能でないかも知れない。上述したアクティブ領域を最適な異形にするのに加えて、本発明では、多素子センサ用の効果的な製造技術も導入している。この技術は、半導体CMOS技術に基づくセンサに特に適用でき、CdTe-CMOS画素検知器に特に適する。
米国特許第6207744号 米国特許第5812191号 欧州特許第EP0421869号 国際公開第WO9708751号 欧州特許第EP0138647号
本発明では、X線撮像センサに、矩形とは異なる固有の異形アクティブ領域を設けるが、該形を、センサ用途の必要条件に合わせて最適化する。図1に示すように、センサのアクティブ領域の形を、片方の端部16で幅広にし、他方の端部17で幅狭にしてもよい。或は、センサを、アクティブ領域の両端部で幅狭にし、中央部18で幅広にする、またはその逆にしてもよい。その形は、アクティブ領域の中心線に対して対称にする、又は非対称としてもよい。センサのアクティブ領域を、図1に示すように、好適には別々の検知素子1をモザイク状にして構成する。その結果、アクティブ領域の形を、様々なサイズの小矩形の殆どあらゆる組合せとすることができる。形には、用途の必要条件に応じて、アクティブ領域の中央に切れ目又は空間2を含んでもよい。
本発明の重要な1態様は、センサのアクティブ領域の形を、特定用途のX線ビームの形(又は複数の形)に出来る限り正確に合致するよう、作製することである。X線ビーム形がコーンビーム又はファンビーム形と大幅に異なる場合、又は用途が、2種類以上の異なる形のX線ビームを使用する必要がある場合、直線又は矩形といった従来のセンサはいずれも、こうしたX線ビーム形と効率的に合致しない。例えば、ファンビームと矩形コーンビームを異なる撮像モードで使用する用途では、異形アクティブ領域有するセンサにより、広い矩形アクティブ領域を有する従来のセンサより、はるかに効率的なビーム範囲を提供できる。センサ領域を最適化する利点として、材料費を節約できる、迅速にデータ読出す、異なるビーム形用の多数のセンサの代わりに、1つのセンサを使用できる点が挙げられる。
本発明の別の態様は、隣接する検知素子間に有限で物理的な間隙を残存させてモザイク状のセンサ構造体を製造する方法である。この構造体は、個別検知器チップ間のデッドスペースを排除するという先行技術の教示から離れたものである。アクティブ撮像領域内に最小デッドスペースを設けないこの本発明による製造方法により、センサの生産収率と長期的な耐久性の点で明らかに有利となる。固体半導体は一般的に脆い結晶であるため、該半導体を物理的に接触させて実装すると、結晶縁部に、生産中にひび割れや破砕といった破損を生じるリスクが大幅に増大する。また、検知素子が、中間に物理的間隙を有して実装する方法に比べて、熱膨張や機械的衝撃による損傷を一段と受け易いままとなる。その上、半導体検出器の結晶間が物理的に接触することで、結晶に印加される信号収集用電場において歪みが生じる可能性がある。検知素子間の間隙を単に空所にしてもよく、或は該間隙を、検知素子間にマイラー膜のような材料を幾つか配置することで、作成してもよい。該間隙の大きさを、好適には、検知素子の画素サイズと等しくする、又は画素サイズの倍数とするが、必ずしもそうする必要はない。
本発明の更に別の態様は、不同の異形アクティブ領域を有する数個の異なるモザイクタイプのセンサを同一センサ基板に製造する有効な方法であり、該基板を、一般的には、プリント基板(PCB)とする。別々な検知素子の制御方式及び信号読出し方式が同じため、1つのPCBを設計して、異なる組合せの検知素子を収容することが、可能である。その結果、1種類のPCB及び1種類(又は複数種類)の検知素子で、異なる用途のための様々な形のアクティブ領域を有するセンサを容易に、且つ高価で時間がかかる基板の設計変更の必要なしに、作製できる。或は、所望する形のアクティブセンサ領域を、2個以上の別々な同じ又は異なるセンサ基板を並べて組合せて、構成できるが、該各基板には、同様な又は不同なサイズ又は形の1個又は複数の検知素子を装着する。
本発明を特に、CdTe-CMOS画素検知器でできたX線撮像センサに適用するが、同技術に限定するものではなく、本発明はシンチレータ-CCD技術等他の技術にも適合すると考えられる。
本発明を、特に、歯科用口外X線撮像で使用するが、他の用途でも有用である。
本発明のX線センサの異形アクティブ領域の様々な選択肢を示す。 歯科用口外X線撮像用に設計した本発明のX線センサのアクティブ領域の好適な形を示す。 歯科用口外X線撮像用に設計した本発明のX線センサのアクティブ領域の好適な形を示す。 歯科用口外X線撮像用に設計した本発明のX線センサのアクティブ領域の好適な形を示す。 1検知素子について複数の図でこれを示す。 3個の別々な検知素子を有するスロット状センサを示す。 異なるアクティブセンサ領域を形成するよう検知素子を装着した、2枚の同じセンサ基板を示す。 2つの別々なセンサ基板からなるセンサを示す。 歯科用口外X 線撮像システムの概略図である。
本発明の放射線撮像装置には、複数の個別検知器を含み、該検知器によりX線に反応する不規則な矩形のアクティブ領域を画定し、該アクティブ領域の長さに沿って異なる幅を有する。これら個別検知器を、夫々異なる矩形とし、マザーボードに実装してもよい。該マザーボードを、2つの個別検知器の第1個別検知器を実装した第1モジュールと、該第1モジュールに取外可能に連結し、2つの個別検知器の第2個別検知器を実装した第2モジュールとから形成してもよい。
本発明のX線センサのアクティブ領域の好適な形5を、図2に示す。該形5は、本実施例では、9個の個別検知素子8から構成しており、ファンビーム3をパノラマ走査撮像に使用すると同時に、矩形コーンビーム4を3D断層撮像に使用する、現代の歯科用口外X 線撮像のニーズに対応するよう設計している。該好適なアクティブ領域の典型的な寸法を、図2では表している。図2から観測できるように、好適な異形のアクティブセンサ領域5のビーム範囲は、広い従来の矩形領域6のものより遥かに良好である。矩形6では、不使用センサ領域7が、パノラマモード(ファンビーム)と3Dモード(コーンビーム)両方で、より多く残ってしまう。
図1から図2で示すように、夫々、本発明の放射線撮像装置には、X線に反応するアクティブ領域を含んでいる。アクティブ領域は、全長y(図2では150mm)及び全幅x(図2では50mm)の不規則な矩形をしている。有利には、各撮像装置は、部分毎に異なる幅(図2では、50mm、6mm)を、長さに沿った夫々の対応する異なる範囲(図2の装置の下半分及び上半分夫々)に対して有する。
図3では、歯科用口外X 線撮像に用いる際の、アクティブセンサ領域の3つの他の好適な形19、20、21を示している。また、多くの他の同様な形も、歯科用口外撮像において使用できる。形の選択については、その用途のX線ビーム形によって決まる。形19では、より広いコーンビーム範囲を設けるが、これは画像データを、より広範囲な3D又は横断方向にスライスした(断層)撮像のために、より広い領域から取得するのに、望ましいかも知れない。形20及び21では、コーンビーム範囲を狭くした結果、一層経済的なセンサソリューションとなっている。形21において、コーンビーム領域22を形20よりも高く上げている。形21は、X線コーンビームの中心を、一層効率的に歯の周辺をカバーするために顎より上に、高く上げた場合に、望ましいセンサ形状である。
図4では、アクティブ領域の別な好適な形9を示しており、該形9は、歯科用パノラマ断層撮像用だけでなく、頭蓋計測用撮像用にも最適化したものである。頭蓋計測用撮像では、人間の頭蓋骨全体の画像を取得するが、そのため、アクティブセンサ領域のスロット部分の縦方向の寸法を、長くする必要がある。 また、図4に示したアクティブ領域の形は、例示のみであり、本発明で教示した原理に従って構成可能な多数の内の1選択肢であると考えるべきである。
図5では、更に広い撮像領域を構成するのに使用する1個の検知素子10の図を示している。該素子10の上面図23及び側面図24が夫々示されている。該素子10の構造体は、CMOS読出回路17に連結したCdTe水晶16を備えるCdTe-CMOS検知器の構造体を表している。しかしながら、本発明はCdTe-CMOS技術に限定されるものではない。該素子10には、一辺に電気的接続部11(典型的には、超音波ワイヤボンド)を有し、同辺では素子を並べて実装しないようにする。他の素子を、他の全ての辺12では、この1素子10にかなり近くに、又は物理的に接触させて実装できる。
図6では、検知素子13を有限な物理的間隙14を該素子13間に設けて並べて実装する、本発明による製造技術について説明している。検知素子の最外縁部間の間隙14を空にできる、又はマイラー膜等の電気絶縁材料15を配置することで充填することもできる。間隙14の幅を、好適には検知器画素のサイズと関連させ、電気的絶縁を維持し、物理的接触を回避できる限り、画素サイズより小さくできる。これは重要である、というのは縁部に「凹凸がある」、又は縁部が若干許容可能な程度の「欠け」を伴って四角く切断されている可能性があるため、縁部間の距離を平均距離と呼ぶのが相応しいかも知れないからである。従って、間隙14(平均間隙)を検知器画素サイズの一定の割合とすべきである。間隙の幅を、好適には画素サイズに対する百分率関数、即ち画素サイズの5%から400%とするが、必ずしも百分率関数でなくてもよい。典型的な画素サイズを0.1mmとしてもよい。しかしながら、本発明を、0.05mmから0.4mmの画素サイズに適用する。0.1mm画素に対して、間隙を、有利には0.005mmから0.4mmとし、更に有利には0.005mmから0.05mmとし、最も有利には0.005mmから0.10mmとするが、これは適切な空間であるとともに、画素サイズと比べても十分に狭い間隙でもあるためである。
一つの実施例では、本発明の放射線撮像装置は、個別検知器から成り、Cd(Zn)Te検知器を互いに並置するが、Cd(Zn)Te検知器の縁部間の物理的平均間隙を0.005mm、好適には該縁部間の物理的平均間隙を0.005mmから0.4mmとする。この間隙に膜、例えば厚さ0.005mmから0.4mmのマイラー膜を設ける、或は顕微鏡を使用してCd(Zn)Te検知器を上記範囲の平均間隙を有するように正確に配置して設けることができる。
図7では、2つの異なる形32及び33のアクティブ領域を、同一のセンサ基板34上(検出器モジュール)とも呼ぶ)にどのように構成できるかについて示している。この説明では、基板/検出器モジュール34を、プリント基板(PCB)とする。同じ基板で、様々な数の異なる又は同じ形及びサイズの検出素子を収容して、所望するアクティブセンサ領域を形成できる。本発明の同態様の利点は、費用効率や時間効率良く作製できる点である。
図7では、同じセンサ基板/検出器モジュール34の夫々に対して、複数の個別検知器で、X線に反応するアクティブ領域を画定することを、示している。アクティブ領域は、夫々全長yと全幅xを有する矩形となっている。いずれの場合にも、基板/検出器モジュール34を、アクティブ領域を有する共通のマザーボードとして機能させ、該モジュールには、異なる矩形の個別検出器を備え、マザーボード上に共に実装する。図示のように、該検出器の第1検出器には、第1アクティブ長y1と第1アクティブ幅x1を有し、2検出器の第2検出器には、第2アクティブ長y2と第2アクティブ幅x2を有する。2種類の個別検知器は異なる矩形をしているため、少なくとも第1アクティブ長y1と第2アクティブ長y2が異なるか、第1アクティブ幅x1と第2アクティブ幅x2か異なるかする。これにより、アクティブ領域の構成を、アクティブ幅xがアクティブ長yに沿って変化するようにできる(例えば、図7のアクティブ幅xとx'を参照)。
図8では、所望するセンサ領域を、取外可能な方法で2つの異なるセンサ基板35と36とを並べて組合わせて、どのように構成できるかについて示している。この実施例では、基板35に、スロット状に直線的に配列したセンサを収容し、基板36に正方形のセンサを収容している。本発明のこの態様の利点は、上記のように効率的に作製及び商品開発ができる点である。複数の基板を使用することで、別々の基板を独立して自在に、異形センサ領域を必要としない用途で使用できる、或は別々の基板を組合わせて、本発明によるアクティブ領域の形を形成して、使用することができる。
図8では、放射線撮像装置を示すが、該装置には、第1個別検知器37を実装する第1モジュール35(即ち、第1検知器基板)と、該第1モジュール35に取外可能に連結し、第2個別検知器38を実装する第2モジュール36(即ち、第2検知器基板)とを、備える。第1検知器と第2検知器とで、X線に反応するアクティブ領域を画定する。図示したように、第1検知器と第2検知器は、少なくとも長さ及び幅の一方が異なる、異なった矩形をしている。
図9では、本発明を歯科用口外X 線撮像へ適用について説明している。患者25を、本発明による設計のX線源26とX 線撮像センサ27の間に配置する。画像を、患者頭部周りに回転走査して、取得する。X線ビーム形28を、この説明では、パノラマ画像と断層画像を同時に得るために最適化している。断層画像データを、センサ領域の下側の幅広部分29で収集する一方、幅狭なスロット状の全長30のアクティブ領域を使用して、パノラマ画像データを収集する。
データを、画像フレームとして所定の速度で得るが、各フレームは、X線源とセンサの走査の回転経路に沿った特定の位置に対応する。このデータを、コンピュータ31に送り、画像を再構成し、表示する。パノラマ層全体又は局所的なパノラマ層の他、局所的なパノラマ層に対応する横断方向のスライス又は3D画像を、データフレームから再構成できる。
このようにして、図9のシステムにより、口外歯科用X線撮像システムを提供する。X線源26で、X線を曝射して患者を撮像するためのX線を発生させる。上述したように、本発明のX線撮像装置28を使用して、少なくとも一部の曝射中に、複数のフレームを生成する。少なくともX線源と撮像装置の一方を、スプライン38で規定する少なくとも1つの回転軸37周りに回転させるが、該軸を、X線源の焦点とX線撮像装置との間に位置させ、走査中に方向39及び40に沿って位置を変化させる。
コンピュータ31、即ちプロセッサにより、単一の曝射によるフレームを処理して、選択的に少なくとも2つの要素群を構成し、該要素には、(a)所定の歯科用パノラマ層画像、(b)局所的な所定外の歯科用パノラマ層画像、(c)局所的な歯科用パノラマ層画像の横断方向のスライス、(d)幾つかの局所的歯科用パノラマ層に対応する量の3D再構成を、備える。
1 検知素子
2 空間
3 ファンビーム
4 コーンビーム
5、9、19、20、21、32、33 アクティブセンサ領域
6 矩形領域
7 不使用センサ領域
10、13 検知素子
11 電気的接続部
14 間隙
15 電気絶縁材料
16、17 端部
18 中央部
22 コーンビーム領域
26 X線源
27 X 線撮像センサ
28 X線ビーム形
31 コンピュータ
34、35、36 センサ基板
37 回転軸
38 スプライン

Claims (20)

  1. X線に反応するアクティブ領域を画定する複数の個別検知器を備える放射線撮像装置であって、
    前記アクティブ領域を、長さyと幅xを有する不規則な矩形とし、
    幅xには、少なくとも2つの異なる値xとx'とを長さyに沿った夫々に対応する範囲に対して有すること、
    を特徴とする放射線撮像装置。
  2. マザーボード、を更に備え、
    前記アクティブ領域には、マザーボード上に共に実装した異なる矩形の2つの個別検知器を備え、
    前記2つの検知器の第1検知器には、第1アクティブ長y1と第1アクティブ幅x1を有し、
    前記2つの検知器の第2検知器には、第2アクティブ長y2と第2アクティブ幅x2を有する、放射線撮像装置であって、
    i)前記第1アクティブ長y1と前記第2アクティブ長y2、及びii)前記第1アクティブ幅xlと前記第2アクティブ幅x2の、少なくとも一方が異なること、
    を特徴とする請求項1に記載の放射線撮像装置。
  3. 2つの個別検知器の第1個別検知器を実装する第1モジュールと、
    前記第1モジュールに取外可能に連結し、前記2つの個別検知器の第2個別検知器を実装する第2モジュールと、を更に備える放射線撮像装置であって、
    前記第1検知器と前記第2検知器により、X線に反応するアクティブ領域を画定し、
    前記第1検知器と前記第2検知器を、異なる矩形とし、
    前記第1検知器には、第1アクティブ長y1と第1アクティブ幅x1とを有し、
    前記第2検知器には、第2アクティブ長y2と第2アクティブ幅x2とを有し、
    i)前記第1アクティブ長y1と前記第2アクティブ長y2、及びii)前記第1アクティブ幅xlと前記第2アクティブ幅x2の、少なくとも一方が異なること、
    を特徴とする請求項1に記載の放射線撮像装置。
  4. 異なる矩形の2つの個別検知器を備える前記アクティブ領域と、
    第1アクティブ長y1と第1アクティブ幅x1を有する前記2つの検知器の第1検知器と、
    第2アクティブ長y2と第2アクティブ幅x2を有する前記2つの検知器の第2検知器と、を更に備える放射線撮像装置であって、
    前記第1アクティブ幅xlと前記第2アクティブ幅x2とが異なること、
    を特徴とする請求項1に記載の放射線撮像装置。
  5. 2つの個別検知器の第1個別検知器を実装する第1モジュールと、
    前記第1モジュールに取外可能に連結し、2つの個別検知器の第2個別検知器を実装する第2モジュールと、を更に備える放射線撮像装置であって、
    前記第1検知器と前記第2検知器により、X線に反応するアクティブ領域を画定し、
    前記第1検知器と前記第2検知器とが、異なる矩形であること、
    を特徴とする請求項1に記載の放射線撮像装置。
  6. 前記個別検知器を共に実装する少なくとも1つの検出器モジュールを、更に備える放射線撮像装置であって、
    前記個別検知器には、少なくとも2つの個別検知器を互いに並置して備え、該検知器の縁部間の物理的平均間隙を0.005mmとすること、
    を特徴とする請求項1に記載の放射線撮像装置。
  7. 矩形の少なくとも2つの個別検出器モジュールには、前記個別検知器を実装し、
    前記個別検出器モジュールを、Cd(Zn)Te検知器とし、該Cd(Zn)Te検知器の縁部間の物理的な平均間隙を0.005mmとするよう、互いに機械的に隣接して配置すること、
    を特徴とする、請求項6に記載の放射線撮像装置。
  8. 前記アクティブ領域を、第1遠位端部で最も幅広とし、第2遠位端部で最も幅狭にすること、
    を特徴とする、請求項1に記載の放射線撮像装置。
  9. 前記アクティブ領域を、該アクティブ領域の遠位端部で最も幅狭にし、中心で最も幅広にすること、
    を特徴とする、請求項1に記載の放射線撮像装置。
  10. 前記アクティブ領域を、該アクティブ領域の遠位端部で最も幅広にし、中心で最も幅狭にすること、
    を特徴とする、請求項1に記載の放射線撮像装置。
  11. 前記アクティブ領域を、対称にすること、
    を特徴とする、請求項1に記載の放射線撮像装置。
  12. 前記アクティブ領域を、非対称にすること、
    を特徴とする、請求項1に記載の放射線撮像装置。
  13. 前記アクティブ領域を対称にし、該アクティブ領域の中央には空間を含むこと、
    を特徴とする、請求項1に記載の放射線撮像装置。
  14. 前記アクティブ領域には、該アクティブ領域の中央には空間を含むこと、
    を特徴とする、請求項1に記載の放射線撮像装置。
  15. 前記個別検知器夫々を分離する膜を、更に備えること、
    を特徴とする、請求項1に記載の放射線撮像装置。
  16. 前記膜を、マイラー膜とすること、
    を特徴とする、請求項15に記載の放射線撮像装置。
  17. 前記膜の厚さを0.005mmとすること、及び
    前記アクティブ領域には、該アクティブ領域の中央に空間を含むこと、
    を特徴とする、請求項16に記載の放射線撮像装置。
  18. 隣接して位置決めされ、X線に反応するアクティブ領域を画定する複数の個別検知器であって、
    各前記個別検知器は、矩形をしており、該検知器は纏まって全体のアクティブ領域を、長さy及び幅xで画定する検知器と、
    前記個別検知器を実装する少なくとも1つの検知器モジュールと、を備え、
    前記個別検知器には、少なくとも2つの個別なCd(Zn)Te検知器を互いに並置して備え、該Cd(Zn)Te検知器の最外縁部間の物理的平均間隙を、0.005mm以上とすること、
    を特徴とする放射線撮像装置。
  19. 少なくとも2つの矩形の個別検出器モジュールには、前記個別検知器を実装し、
    前記個別検出器モジュールを、Cd(Zn)Te検知器の最外縁部間の物理的な平均間隙を0.005mm以上、0.4mm未満とするよう、互いに機械的に隣接して配置すること、
    を特徴とする請求項18に記載の放射線撮像装置。
  20. a.X線を対象物に曝射するX線を発生させるように構成したX線源、
    b.少なくとも一部の前記曝射の間に多数のフレームを生成するよう構成したX線撮像装置であって、該X線撮像装置には、X線に反応するアクティブ領域を画定する複数の個別検知器を備え、前記アクティブ領域を、長さyと幅xを有する矩形とし、幅xが、少なくとも2つの異なる値を長さyに沿った夫々に対応する範囲に対して有するX線撮像装置、
    c.少なくともX線源と撮像装置の一方の周りにスプラインに沿って回転する少なくとも1つの回転軸であって、該X線源の焦点とX線撮像装置との間に位置する該回転軸、
    選択的に要素群の少なくとも2つを構成するために、単一の曝射によるフレームを処理するプロセッサ、を備え、
    前記素子には、
    (a)所定の歯科用パノラマ層画像、
    (b)局所的な所定外の歯科用パノラマ層画像、
    (c)局所的な歯科用パノラマ層画像の横断方向のスライス、
    (d)幾つかの局所的な歯科用パノラマ層に対応する量の3D再構成、を備えること
    を特徴とする口外歯科用X線撮像システム。
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