JP2010523777A - 耐燃性改良製品 - Google Patents
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Abstract
Description
の炭酸ジエステル、
例えば、
ジフェニルカーボネート、ブチルフェニルフェニルカーボネート、ジブチルフェニルカーボネート、イソブチルフェニルフェニルカーボネート、ジイソブチルフェニルカーボネート、tert−ブチルフェニルフェニルカーボネート、ジ−tert−ブチルフェニルカーボネート、n−ペンチルフェニルフェニルカーボネート、ジ−(n−ペンチルフェニル)カーボネート、n−ヘキシルフェニルフェニルカーボネート、ジ−(n−ヘキシルフェニル)カーボネート、シクロヘキシルフェニルフェニルカーボネート、ジシクロヘキシルフェニルカーボネート、フェニルフェノールフェニルカーボネート、ジフェニルフェノールカーボネート、イソオクチルフェニルフェニルカーボネート、ジイソオクチルフェニルカーボネート、n−ノニルフェニルフェニルカーボネート、ジ−(n−ノニルフェニル)カーボネート、クミルフェニルフェニルカーボネート、ジクミルフェニルカーボネート、ナフチルフェニルフェニルカーボネート、ジナフチルフェニルカーボネート、ジ−tert−ブチルフェニルフェニルカーボネート、ジ−(ジ−tert−ブチルフェニル)カーボネート、ジクミルフェニルフェニルカーボネート、ジ−(ジクミルフェニル)カーボネート、4−フェノキシフェニルフェニルカーボネート、ジ−(4−フェノキシフェニル)カーボネート、3−ペンタデシルフェニルフェニルカーボネート、ジ−(3−ペンタデシルフェニル)カーボネート、トリチルフェニルフェニルカーボネート、ジトリチルフェニルカーボネート、
好ましくは、
ジフェニルカーボネート、tert−ブチルフェニルフェニルカーボネート、ジ−tert−ブチルフェニルカーボネート、フェニルフェノールフェニルカーボネート、ジフェニルフェノールカーボネート、クミルフェニルフェニルカーボネート、ジクミルフェニルカーボネート、
特に好ましくはジフェニルカーボネート
である。
R1〜4は、同一であっても異なっていてもよく、C1〜C10アルカン、C6〜C10アリール、C7〜C10アラルキルまたはC5〜C6シクロアルキル、好ましくはメチルまたはC6〜C14アリール、特に好ましくはメチルまたはフェニルであり、
X−は、アニオン、例えばヒドロキシド、スルフェート、ハイドロゲンスルフェート、ハイドロゲンカーボネート、カーボネート、ハライド、好ましくはクロリド、または式OR(式中、RはC6〜C14アリールまたはC7〜C12アラルキル、好ましくはフェニルである。)のアルコレートである。)
のホスホニウム塩である。好ましい触媒は、
テトラフェニルホスホニウムクロリド、
テトラフェニルホスホニウムヒドロキシド、
テトラフェニルホスホニウムフェノレート、
特に好ましくはテトラフェニルホスホニウムフェノレート
である。
R1〜R20 は、互いに独立して、水素、C原子6個以下の直鎖または分枝アルキル基であり、
n は、0.5〜50の平均値であり、
B は、それぞれ、C1〜C12アルキル、好ましくはメチル、またはハロゲン、好ましくは塩素もしくは臭素であり、
q は、それぞれ、互いに独立して、0、1または2であり、
X は、単結合、C=O、S、O、SO2、C(CH3)2、C1〜C5アルキレン、C2〜C5アルキリデン、C5〜C6シクロアルキリデン、C6〜C52アリーレンであって、任意にヘテロ原子を含んでいてもよい別の芳香環が縮合していてもよいもの、または式(5)もしくは(6)
Y は、炭素であり、
R21およびR22 は、それぞれのYに個々に選択可能な方法で、互いに独立して、水素またはC1〜C6アルキル、好ましくは水素、メチルまたはエチルであり、
m は、4〜7の整数、好ましくは4または5であり、
但し、少なくとも一つの原子YにおけるR21とR22とは同時にアルキルである。)
のリン化合物が好ましい。
ポリカーボネートおよび2−[2−ヒドロキシ−4−(2−エチルヘキシル)オキシ]フェニル−4,6−ジ(4−フェニル)フェニル−1,3,5−トリアジン(CAS番号204583−39−1)0.001wt.%〜0.5wt.%および防炎添加剤0.01wt.%〜30.00wt.%を含む組成物の製造は、標準の組み込みプロセスによって行われ、例えば、好適な溶媒、例えばジクロロメタン、ハロアルカン、ハロ芳香族、クロロベンゼンおよびキシロール、中の防炎添加剤の溶液および2−[2−ヒドロキシ−4−(2−エチルヘキシル)オキシ]フェニル−4,6−ジ(4−フェニル)フェニル−1,3,5−トリアジンの溶液とポリカーボネートの溶液との混合によって行われる。次に、物質混合物を、好ましくは既知の方法で押出によって均質化する。溶液混合物は、好ましくは、既知の方法で溶媒を蒸発させることによって、次の混合物の押出によって、再生される−例えば配合される。
−長さ33Dかつ直径70mmのスクリューを有し、ガス抜きを有する主押出機
−長さ25Dかつ直径35mmのスクリューを有する、トップ層を適用するための共押出機
−幅450mmの専用共押出スリットダイ
−平滑カレンダー
−ローラーコンベア
−テイクオフ・デバイス(take−off device)
−フライングナイフ(ソー)
−段積みテーブル
−長さ33Dかつ直径70mmのスクリューを有し、ガス抜きを有する主押出機
−共押出アダプタ(フィードブロックシステム)
−長さ25Dかつ直径30mmのスクリューを有する、トップ層を適用するための共押出機
−幅350mmの専用スリットダイ
−キャリブレータ
−ローラーコンベア
−テイクオフ・デバイス
−フライングナイフ(ソー)
−段積みテーブル
多くの耐燃性試験が知られている。合成材料の耐燃性は、例えば、UL94V法(これについて、(a)Underwriters Laboratories Inc.Standard of Safety,“Test for Flammability of Plastic Materials for Parts in Devices and Appliances”,14頁以降,Northbrook 1998年、(b)J.Troitzsch,“International Plastics Flammability Handbook”,346頁以降,Hanser Verlag,ミュンヘン1990年参照。)によって決定されうる。この方法で、ASTM規格試験片の燃焼時間および滴下挙動を評価する。
組成物の機械的特性に関連する調査は、以下の規格に従って行われうる。
サンプルの耐候性は、さまざまな方法によって提供されうる。これらとしては、特に、ASTM G6、ASTM G151、ASTM G155、DIN EN ISO 4892−2、SAE J 1885またはVDA 75202に従うXenon−WOM法、DIN EN ISO 4892−3に従うLSL−WOM法、DIN EN ISO 4892−2またはDIN EN 50014に従うXenotest(登録商標)High Energy、ASTM B117、DIN 50021、DIN EN ISO 7253、DIN EN 9227またはISO 11503に従うスプレー−ミスト試験(spray−mist test)および更にISO 4892−3またはASTM G154およびASTM G53に従うQUV試験が挙げられる。
メルトインデックス(MFR、MVR)の決定を、ISO 1133に従って、またはASTM D1238 MVRに従って行う。
光沢度の決定は、寸法60×40×2mm3のシートに関して反射率計を用いて行われる。ここで、厚さ2mmに加えて、厚さ3mm、3.2mmおよび4mmもまた考慮に入る。DIN 67530、ISO 2813、ASTM D523または対応する規格がこの測定に応用される。
配合デバイスは以下のものからなる。
成分の配合デバイス
*スクリュー径53mmの同方向回転ツインシャフトニーダー(Werner & Pfleiderer製のZSK 53)
*メルトストランドの成形用オリフィスノズル
*ストランドの冷却および固化用ウォーターバス
*グラニュレータ
*成分の計量添加デバイス
*スクリュー径32mmの同方向回転ツインシャフトニーダー(Clextral製のEvolum 32 High Torque)
*ビスフェノールAジホスフェートをLEWAポンプを介して20barにおいて75〜80℃において押出機に注入した
*溶融ストランドの成形用オリフィスノズル
*ストランドの冷却および固化用ウォーターバス
*グラニュレータ
*Makrolon(登録商標)2808 550115、95.00wt.%
*Makrolon(登録商標)3108 550115、4.90wt.%
*2−[2−ヒドロキシ−4−(2−エチルヘキシル)オキシ]フェニル−4,6−ジ(4−フェニル)フェニル−1,3,5−トリアジン、0.10wt.%
*Makrolon(登録商標)2808 550115、95.00wt.%
*Makrolon(登録商標)3108 550115、4.85wt.%
*2−[2−ヒドロキシ−4−(2−エチルヘキシル)オキシ]フェニル−4,6−ジ(4−フェニル)フェニル−1,3,5−トリアジン、0.10wt.%
*カリウムノナ−フルオロ−1−ブタンスルホネート(Lanxess製のBayowet(登録商標)C4)、0.05wt.%
*Makrolon(登録商標)2808 550115、95.00wt.%
*Makrolon(登録商標)3108 550115、4.95wt.%
*カリウムノナ−フルオロ−1−ブタンスルホネート(Lanxess製のBayowet(登録商標)C4)、0.05wt.%
*Makrolon(登録商標)2808 550115、95.00wt.%
*Makrolon(登録商標)3108 550115、4.30wt.%
*2−[2−ヒドロキシ−4−(2−エチルヘキシル)オキシ]フェニル−4,6−ジ(4−フェニル)フェニル−1,3,5−トリアジン、0.10wt.%
*カリウムジフェニルスルホン酸スルホネート、0.60wt.%
*Makrolon(登録商標)2808 550115、95.00wt.%
*Makrolon(登録商標)3108 550115、4.40wt.%
*カリウムジフェニルスルホン酸スルホネート、0.60wt.%
*Makrolon(登録商標)2808 550115、95.00wt.%
*Makrolon(登録商標)3108 550115、3.90wt.%
*2−[2−ヒドロキシ−4−(2−エチルヘキシル)オキシ]フェニル−4,6−ジ(4−フェニル)フェニル−1,3,5−トリアジン、0.10wt.%
*Chemtura製のテトラブロモビスフェノールAオリゴカーボネート BC−52 HP、1.00wt.%
*Makrolon(登録商標)2808 550115、95.00wt.%
*Makrolon(登録商標)3108 550115、4.00wt.%
*Chemtura製のテトラブロモビスフェノールAオリゴカーボネート BC−52 HP、1.00wt.%
*Makrolon(登録商標)2808 550115、95.00wt.%
*Makrolon(登録商標)3108 550115、4.30wt.%
*2−[2−ヒドロキシ−4−(2−エチルヘキシル)オキシ]フェニル−4,6−ジ(4−フェニル)フェニル−1,3,5−トリアジン、0.10wt.%
*Momentive performance materials製のPD5(フェニルトリス(トリメチルシロキシ)シラン)、0.10wt.%
*カリウムジフェニルスルホン酸スルホネート、0.50wt.%
*Makrolon(登録商標)2808 550115、95.00wt.%
*Makrolon(登録商標)3108 550115、4.40wt.%
*Momentive performance materials製のPD5(フェニルトリス(トリメチルシロキシ)シラン)、0.10wt.%
*カリウムジフェニルスルホン酸スルホネート、0.50wt.%
*Makrolon(登録商標)2808 550115、75.00wt.%
*Makrolon(登録商標)3108 550115、24.90wt.%
*2−[2−ヒドロキシ−4−(2−エチルヘキシル)オキシ]フェニル−4,6−ジ(4−フェニル)フェニル−1,3,5−トリアジン、0.10wt.%
*Makrolon(登録商標)2808 550115、75.00wt.%
*Makrolon(登録商標)3108 550115、4.90wt.%
*2−[2−ヒドロキシ−4−(2−エチルヘキシル)オキシ]フェニル−4,6−ジ(4−フェニル)フェニル−1,3,5−トリアジン、0.10wt.%
*ビスフェノールAジホスフェートコンパウンド、20.00wt.%(ビスフェノールAジホスフェート3.00wt.%に相当する。)
*Makrolon(登録商標)2808 550115、75.00wt.%
*Makrolon(登録商標)3108 550115、5.00wt.%
*ビスフェノールAジホスフェートコンパウンド、20.00wt.%(ビスフェノールAジホスフェート3.00wt.%に相当する。)
*Makrolon(登録商標)2808 550115、75.00wt.%
*Makrolon(登録商標)3108 550115、4.40wt.%
*2−[2−ヒドロキシ−4−(2−エチルヘキシル)オキシ]フェニル−4,6−ジ(4−フェニル)フェニル−1,3,5−トリアジン、0.10wt.%
*Chemtura製のBlendex(登録商標)B449、0.50wt.%
*ビスフェノールAジホスフェートコンパウンド、20.00wt.%(ビスフェノールAジホスフェート3.00wt.%に相当する。)
*Makrolon(登録商標)2808 550115、75.00wt.%
*Makrolon(登録商標)3108 550115、4.50wt.%
*Chemtura製のBlendex(登録商標)B449(PTFE/SANブレンド、重量比50:50)0.50wt.%
*ビスフェノールAジホスフェートのマスターバッチ20.00wt.%(ビスフェノールAジホスフェート3.00wt.%に相当する。)
Claims (19)
- ポリカーボネートおよび2−[2−ヒドロキシ−4−(2−エチルヘキシル)オキシ]フェニル−4,6−ジ(4−フェニル)フェニル−1,3,5−トリアジン0.0001〜0.5wt.%および防炎添加剤0.01wt.%〜30.00wt.%を含む組成物。
- 該防炎添加剤が防炎性有機酸塩であることを特徴とする、請求項1に記載の組成物。
- 該防炎添加剤がスルホン酸、スルホンアミドまたはスルホンイミドの脂肪族または芳香族誘導体のアルカリまたはアルカリ土類金属塩であることを特徴とする、請求項2に記載の組成物。
- 該防炎性有機酸塩がナトリウムまたはカリウムノナ−フルオロ−1−ブタンスルホネートであることを特徴とする、請求項3に記載の組成物。
- 該防炎性有機酸塩がナトリウムまたはカリウムジフェニルスルホン酸スルホネートであることを特徴とする、請求項3に記載の組成物。
- 防炎添加剤として、ナトリウムまたはカリウムノナ−フルオロ−1−ブタンスルホネートおよびナトリウムまたはカリウムジフェニルスルホン酸スルホネートからなる混合物を使用することを特徴とする、請求項3に記載の組成物。
- 該防炎添加剤がハロゲン含有防炎添加剤であることを特徴とする、請求項1に記載の組成物。
- 該ハロゲン含有防炎添加剤がテトラブロモビスフェノールAオリゴカーボネート(TBBOC)であることを特徴とする、請求項7に記載の組成物。
- 該防炎添加剤がシロキサンであることを特徴とする、請求項1に記載の組成物。
- 該防炎添加剤がリン含有防炎添加剤であることを特徴とする、請求項1に記載の組成物。
- 該リン含有防炎添加剤がトリフェニルホスフェート(TPP)またはビスフェノールAジホスフェート(DBP)またはレソルシノールジホスフェート(RDP)であることを特徴とする、請求項10に記載の組成物。
- 該リン含有防炎添加剤の混合物が含まれることを特徴とする、請求項11に記載の組成物。
- 該防炎添加剤の混合物が含まれることを特徴とする、請求項3〜12に記載の組成物。
- ポリテトラフルオロエチレンまたはポリテトラフルオロエチレンブレンドが更に含まれることを特徴とする、請求項1〜13に記載の組成物。
- 該組成物が更に熱安定剤を、組成物の総量に対して、10ppm〜3000ppm含むことを特徴とする、請求項1〜14のいずれか一項に記載の組成物。
- 該熱安定剤が、トリス−(2,4−ジ−tert.−ブチルフェニル)ホスフェートおよびトリフェニルホスフィンからなる群から選択される、請求項15に記載の組成物。
- 請求項1に記載の組成物を含む製品。
- 該製品がシングルレイヤーまたはマルチレイヤーのソリッド、マルチウォールまたは波形シートを構成し、該シートの一以上の層が請求項1〜7のいずれか一項に記載の組成物を含むことを特徴とする、請求項17に記載の製品。
- 該製品が射出成形法で製造されることを特徴とする、請求項17に記載の製品。
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