JP2010514919A - 特に導体路を溶射する方法並びに装置、及び導体路を備えた電気的な構成部材及び調量装置 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (28)
- 長手方向(8)に延在するスプレーランス(6)によって、基板(4)に通路、特に導体路(2)を溶射する方法において、スプレーランス(6)を基板(4)に対して相対的に相対速度をもって運動させ、スプレーランス(6)に、大気中の条件下でイオン化可能なガス(G)を供給し、該イオン化可能なガス(G)をスプレーランス(6)内で製造されるアーク(20)によりイオン化し、その結果、3000Kより低い、特に2500Kより低いプラズマ温度をもった低温のプラズマ(22)を製造し、スプレーランス(6)内にキャリアガス(T)を用いて粉末(P)を供給し、該粉末(P)をプラズマ(22)によってスプレーランス(6)の正面端部側の流出開口(16)に向かって連行し、該流出開口(16)において粉末(P)は流出し、且つ基板(4)に衝突することを特徴とする、基板に通路、特に導体路を溶射する方法。
- スプレーランス(6)は流出開口(16)を有するランスヘッド(6A)を有しており、該ランスヘッド(6A)は流出開口(16)に向かって先細りしていく真っ直ぐなノズルの形式で形成されており、その結果、キャリアガス(T)は粉末(P)と共に音速を下回る速度に最高で達する、請求項1記載の方法。
- 通路(2)の幅を、特に専ら流出開口(16)の寸法設定を介して、0,2から10mmの範囲で調節する、請求項1又は2記載の方法。
- ランスヘッド(6A)はガラスから成っており、流出開口(16)を有する先端は規定の最終寸法にまで延ばされている、請求項2又は3記載の方法。
- ランスヘッド(6A)は交換可能に取り付けられている、請求項2から4までのいずれか一項記載の方法。
- 複数のランスヘッド(6A)が交換ユニット(56)に保管されており、複数のランスヘッド(6A)を所望の通路幅に基づき自動的に選択し且つ取り付ける、請求項5記載の方法。
- 3から35mmの範囲のスプレー距離(a3)を置いて、スプレーランス(6)を基板(4)上で移動させる、請求項1から6までのいずれか一項記載の方法。
- スプレーランス(6)は、長手方向(8)に対して角度(α)を成して傾いて配向されている供給短管(18)を粉末(P)のために有しており、角度(α)と、イオン化可能なガス(G)及びキャリアガス(T)の流れとは、粉末(P)が、スプレーランス(6)の壁部又は装置(12)に接触せずに、供給短管(18)から弓形の軌道に沿って流出開口(16)に達するように互いに調整されている、請求項1から7までのいずれか一項記載の方法。
- 角度(α)はほぼ2から70°の間にある、請求項8記載の方法。
- 供給短管(18)は、長手方向(8)において流出開口(16)からほぼ1cm離間されている、請求項8又は9記載の方法。
- 供給短管(18)は長手方向(8)で、スプレーランス(6)の陰極(12)から5から7cmの範囲で離間されている、請求項8から10までのいずれか一項記載の方法。
- 複数、特に3から6個の供給短管(18)が、スプレーランス(6)の周面に分配されて配置されている、請求項8から11までのいずれか一項記載の方法。
- イオン化可能なガス(G)及びキャリアガス(T)は、ほぼ同じ圧力下、特にほぼ1*105−10*105Paの範囲において、スプレーランス(6)内に流入する、請求項1から12までのいずれか一項記載の方法。
- 全ガス体積流(GG)を、スプレーランス(6)に供給されるガス(G)のための体積流内及びキャリアガス(T)のための体積流内に分岐することにより、イオン化可能なガス(G)及びキャリアガス(T)のために同じガス源(48)を使用し、該ガス源(48)を介してガス(G)及びキャリアガス(T)のために共通の圧力を規定する、請求項1から13までのいずれか一項記載の方法。
- 粉末を収容するために、特に分岐されたキャリアガス(T)を調量装置(24)を通じて導く、請求項1から14までのいずれか一項記載、特に請求項14記載の方法。
- 調量装置(24)は粉末貯蔵容器(26)と調量室(28)とを有しており、粉末(P)を粉末貯蔵容器(26)から重力を利用し調量管(34)を介して、特に回転する調量皿(40)に調量し、キャリアガス(T)を調量室(28)内に導入し、キャリアガス(T)が粉末(10)を連行しつつサクションランス(42)内に流入することにより、粉末(P)を調量皿(42)からサクションランス(42)によって収容する、請求項15記載の方法。
- 粉末貯蔵容器(26)をキャリアガス(T)の圧力で負荷する、請求項16記載の方法。
- 連続的な運転のために粉末貯蔵容器(26)に自動的に粉末(P)を供給する、請求項15から17までのいずれか一項記載の方法。
- 種々異なる粉末(P)で満たされた複数の粉末貯蔵容器(26)が設けられており、種々異なる粉末(P)を規定された混合比においてスプレーランス(6)に供給する、請求項15から18までのいずれか一項記載の方法。
- 粉末(P)として、金属製の粉末、特にスズ粉末、スズ合金粉末、又は銅粉末、銅合金粉末、又はプラスチック、ガラス又は塩から成る非金属製の粉末を使用する、請求項1から19までのいずれか一項記載の方法。
- スプレーランス(6)を基板(4)に対して、10から90cm/minの範囲の相対速度で移動させる、請求項1から20までのいずれか一項記載の方法。
- 特に鏡(60)の電気的な加熱のために働くメアンダ形状の加熱導体路(2)を製造する、請求項1から21までのいずれか一項記載の方法。
- スプレーパラメータを変更せずに、種々異なる材料の互いに隣接している基板(4)に通路(2)を連続して形成する、請求項1から22までのいずれか一項記載の方法。
- 通路、特に導体路(2)を基板(4)に溶射する装置において、長手方向(8)に延びているスプレーランス(6)を有しており、該スプレーランス(6)は基板(4)に対して相対的に相対速度をもって移動可能であり、スプレーランス(6)にイオン化可能なガス(G)を供給可能であり、該イオン化可能なガス(G)はスプレーランス(6)内で製造可能なアーク(20)によりイオン化可能であるので、3000Kより低い、特に2500Kより低いプラズマ温度を有する低温のプラズマを製造可能であり、スプレーランス(6)内にキャリアガス(T)を使って粉末(P)を供給可能であり、該粉末(P)は運転中に、プラズマによってスプレーランス(6)の正面端部側の流出開口(16)に向かって連行され、流出開口(16)において流出し、基板(4)に衝突することを特徴とする、基板に通路、特に導体路を溶射するための装置。
- スプレーランス(6)はプラズマ管(6B)を有しており、該プラズマ管(6B)に供給短管(18)を有するランスヘッド(6A)が交換可能に取り付けられている、請求項24記載の装置。
- 種々異なって形成されたランスヘッド(6A)は交換ユニット(56)内に配置されている、請求項25記載の装置。
- 導電性の導体路(2)を備えた電気的な構成部材(60)において、導電性の導体路(2)は、請求項1から23までのいずれか一項記載の方法によって、構成部材(60)の基板(4)に被着されたことを特徴とする、導電性の導体路を備えた電気的な構成部材。
- 前記電気的な構成部材は加熱可能な鏡(60)として形成されており、導体路(2)はメアンダ形状の加熱通路として形成されている、請求項27記載の電気的な構成部材。
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