JP2018520262A - レーザーコーティング方法及びそれを実施するための装置 - Google Patents
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Abstract
Description
・ ポリアミド
・ PC−ABS(ポリカーボネートアクリロニトリルブタジエンスチレン)
・ PPS(ポリフェニレンスルフィド)
・ PBT(ポリブチレンテレフタレート)
・ 熱硬化性樹脂
・ ポリカーボネート
・ ポリアクリレート
・ とりわけアクリレートモノマーを含有するUV硬化塗料(Lacke)
1. エレクトロニクス産業では、この方法は、3次元物体、特にプラスチックおよびセラミックからなる物体上に、構造化された導体経路を堆積させるために使用することができる。さらに、平面プリント回路基板上にパターン化導体経路白金を堆積させる方法が使用される。
2. 半導体産業では、この方法は、例えば、IGBTモジュールの製造のために、ウェーハ上に多孔質金属層を堆積するために使用することができる。加えて、本発明による方法では、半導体とキャリア本体との間の接触は、ボンド接続の代替として製造することができる。
3. 特に、医療技術では、この方法は、例えば、排気下でインプラントのための医学的に有効なコーティングを製造するために、排気された作業空間で行うこともできる。
4. 光起電力の分野では、本発明による方法を用いて、太陽電池上に導電性接触構造および/または半導体材料を堆積させることができる。
5. ディスプレイ製造の分野では、本発明による方法を用いてディスプレイを製造するために、例えば、導電性構造をガラスの表面上に堆積させることができる。
6. 産業用のロール・ツー・ロールコーティング法では、例えば、フィルムウェブおよびシートに、好ましくは膨張性のガス混合物流によって塗布される多孔質金属層を設けることができる。
2. コーティング材料
2a. 第1のコーティング材料
2b. 第2のコーティング材料
3. 基材
3a. 表面
3b. 基材の部分
3c. 基材の部分
4. 粉末フィーダー
5. 供給要素
5a. 出口
5b. 粉末ノズル
5c. 中空針
6. レーザー
7. レーザービーム
8. ガス混合物流
9. 供給ライン
10. カップリング領域
11/11b. 衝突領域
12. 矢印
13. カバー層
14. 中央領域
15. 付着性の層
16. 第1の層
17. 第2の層
18. 第3の層
19. 物体
20. アンダーカット
21. −
22. 装置
23. 回転軸
24. ターンテーブル
25. 矢印
26. 駆動装置
27. リニアシステム
28. 変位軸
29. ハウジング
・ ポリアミド
・ PC−ABS(ポリカーボネートアクリロニトリルブタジエンスチレン)
・ PPS(ポリフェニレンスルフィド)
・ PBT(ポリブチレンテレフタレート)
・ 熱硬化性樹脂
・ ポリカーボネート
・ ポリアクリレート
・ とりわけアクリレートモノマーを含有するUV硬化塗料(Lacke)
1. エレクトロニクス産業では、この方法は、3次元物体、特にプラスチックおよびセラミックからなる物体上に、構造化された導体経路を堆積させるために使用することができる。さらに、平面プリント回路基板上にパターン化導体経路白金を堆積させる方法が使用される。
2. 半導体産業では、この方法は、例えば、IGBTモジュールの製造のために、ウェーハ上に多孔質金属層を堆積するために使用することができる。加えて、本発明による方法では、半導体とキャリア本体との間の接触は、ボンド接続の代替として製造することができる。
3. 特に、医療技術では、この方法は、例えば、排気下でインプラントのための医学的に有効なコーティングを製造するために、排気された作業空間で行うこともできる。
4. 光起電力の分野では、本発明による方法を用いて、太陽電池上に導電性接触構造および/または半導体材料を堆積させることができる。
5. ディスプレイ製造の分野では、本発明による方法を用いてディスプレイを製造するために、例えば、導電性構造をガラスの表面上に堆積させることができる。
6. 産業用のロール・ツー・ロールコーティング法では、例えば、フィルムウェブおよびシートに、好ましくは膨張性のガス混合物流によって塗布される多孔質金属層を設けることができる。
2. コーティング材料
2a. 第1のコーティング材料
2b. 第2のコーティング材料
3. 基材
3a. 表面
3b. 基材の部分
3c. 基材の部分
4. 粉末フィーダー
5. 供給要素
5a. 出口
5b. 粉末ノズル
5c. 中空針
6. レーザー
7. レーザービーム
8. ガス混合物流
9. 供給ライン
10. カップリング領域
11/11b. 衝突領域
12. 矢印
13. カバー層
14. 中央領域
15. 付着性の層
16. 第1の層
17. 第2の層
18. 第3の層
19. 物体
20. アンダーカット
21. −
22. 装置
23. 回転軸
24. ターンテーブル
25. 矢印
26. 駆動装置
27. リニアシステム
28. 変位軸
29. ハウジング
Claims (27)
- 表面(3a)上にコーティング材料(2)を施用する方法であって、
− キャリアガス及び固体のコーティング材料(2)を含むガス混合物流(8)を提供するステップ;
− ガス混合物流(8)を表面(3a)に供給するステップであって、その際、該ガス混合物流(8)が該表面(3a)に衝突し、そして、そこに施用されたコーティング材料(3a)が、該表面(3a)上に衝突領域(11)を形成する、該ステップ;
− 該ガス混合物流(8)中へ少なくとも一つのレーザービーム(7)をカップリングさせるステップ;
を含み、
− その際、該少なくとも一つのレーザービーム(7)のカップリングさせたエネルギーは、該固体のコーティング材料(2)が少なくとも部分的に融解するように決定され、そして、
− その際、各レーザービーム(7)は、該ガス混合物流(8)に対して、そのレーザービーム(7)が、該表面上の衝突領域(11)に衝突しないように方向付けられる、上記の方法。 - 前記表面(3a)と前記ガス混合物流(8)とが、前記コーティング材料(2)を施用する間、相互に対して移動することを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記固体のコーティング材料が、前記少なくとも一つのレーザービーム(7)のカップリングさせたエネルギーだけによって、部分的に融解することを特徴とする、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記提供されたガス混合物流(8)が、粉末状のコーティング材料を含むことを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一つに記載の方法。
- 前記粉末粒子の少なくとも表面が融解することを特徴とする、請求項4に記載の方法。
- 前記少なくとも一つのレーザービーム(7)が、連続波レーザーを使って連続的に、又はパルスレーザーを使って不連続的にカップリングされることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一つに記載の方法。
- 前記少なくとも一つのレーザービーム(7)が、レーザー光学システムを使って焦点を合わされるか、又は焦点を合わせずにカップリングされることを特徴とする、請求項6に記載の方法。
- 前記ガス混合物流(8)中へ前記少なくとも一つのレーザービーム(7)をカップリングさせる間、各レーザービーム(7)の方向付けは変わらずに維持されることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一つに記載の方法。
- 前記ガス混合物流(8)中へ前記少なくとも一つのレーザービーム(7)をカップリングさせる間、各レーザービーム(7)の方向付けが変更されることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一つに記載の方法。
- 前記ガス混合物流(8)の供給の間、前記少なくとも一つのレーザービーム(8)のカップリングが、一時的に中断されることを特徴とする、請求項1〜9のいずれか一つに記載の方法。
- 1〜50l/分、好ましくは1〜20l/分の範囲の体積流量の前記キャリアガスを有する前記ガス混合物流(8)が供給されることを特徴とする、請求項1〜10のいずれか一つに記載の方法。
- 0.1g/分〜100g/分、好ましくは、2g/分〜20g/分の範囲の質量流量のコーティング材料(2)を有する前記ガス混合物流(8)が供給されることを特徴とする、請求項1〜11のいずれか一つに記載の方法。
- 前記キャリアガスが、不活性ガス、窒素ガス又は周囲空気であることを特徴とする、請求項1〜12のいずれか一つに記載の方法。
- 前記固体の粉末状のコーティング材料(2)が、100nm〜120μmの粒度分布を有することを特徴とする、請求項5〜13のいずれか一つに記載の方法。
- 前記ガス混合物流(8)の供給が、該ガス混合物流(8)のための出口(5a)を備えた供給部材(5)を使って行われ、その際、該出口は、衝突領域に対して1mm〜100mmの範囲の垂直距離に保持されることを特徴とする、請求項1〜14のいずれか一つに記載の方法。
- 前記ガス混合物流(8)の供給が、0.1〜10mmの範囲の内径を有する中空針(5c)を使って行われることを特徴とする、請求項1〜15のいずれか一つに記載の方法。
- 前記ガス混合物流(8)の供給が、該ガス混合物流の流れ横断面を広げるディフューザを使って行われることを特徴とする、請求項1〜15のいずれか一つに記載の方法。
- 衝突領域(11)を有する表面(3a)が、基板(3)の構成要素であることを特徴とする、請求項1〜17のいずれか一つに記載の方法。
- コーティング材料(2、2a、2b)のいくつかの層(16、17、18)が相互に上下に堆積されることを特徴とする、請求項1〜18のいずれか一つに記載の方法。
- 衝撃領域(11)を有する表面(3a)がアンダーカット(20)を有することを特徴とする、請求項1〜19のいずれか一つに記載の方法。
- ガス混合流(8)が供給される前に、引き続いてガス混合物流(8)に供給されるコーティング材料(2)に対して粘着抵抗特性を有するカバー層(13)が、前記表面(3a)に部分的に設けられることを特徴とする、請求項1〜20のいずれか一つに記載の方法。
- 前記表面(3a)又は該表面(3a)を有する物品が、少なくとも部分的に、犠牲材料からなり、その際、該犠牲材料は、前記ガス混合物流(8)に供給されたコーティング材料(2)に対して粘着抵抗特性を有することを特徴とする、請求項1〜20のいずれか一つに記載の方法。
- 前記犠牲材料が、少なくとも一つのアシル基(CH2=CH−COR)を含み、その際、該アシル基の割合が、好ましくは、該犠牲材料少なくとも1重量%であることを特徴とする、請求項22に記載の方法。
- 表面(3a)上にコーティング材料(2)を施用するために請求項1〜23のいずれか一つに記載の方法を実施するための装置(1)であって、
− キャリアガス及びコーティング材料(2)を含むガス混合物流(8)を供給するように構成された粉末フィーダー(4)、
− ガス混合物流を表面(3a)に供給する供給部材(5)であって、その際、前記ガス混合物流(8)が前記表面(3a)上に衝突し、そしてそこに施用されたコーティング材料が、その表面上に衝撃領域(11)を形成するように構成されている、該供給部材(5)、
− レーザービーム(7)を前記ガス混合物流(8)中へカップリングさせるように構成された、レーザービーム(7)を発生させるためのレーザー(6)、
を含み、
− その際、各レーザービーム(7)が、該レーザービームが前記表面上の衝突領域(11)に衝突しないようにガス混合物流(8)に対して方向付けられている、上記の装置。 - 前記供給部材(5)とコーティングされる表面(3a)との間に相対運動を生じさせるよう構成されたハンドリングシステムを含む、請求項24に記載の装置。
- − 前記ハンドリングシステムが、回転軸(23)を中心に回転可能なターンテーブル(24)を有し、該ターンテーブルは、コーティングされる前記表面(3a)を有する少なくとも一つの物品を受容するように構成されており、
− 該ハンドリングシステムが、リニアシステム(27)を有し、該リニアシステムは、変位軸(28)の方向で前記供給部材(5)の直線運動を生じるように構成されており、
− その際、該変位軸(28)は、前記回転軸(23)に対して平行に延びていることを特徴とする、請求項25に記載の装置。 - 前記レーザー(6)が、レーザービーム(7)を方向付けるように構成されたレーザー光学システムを有し、及び/又はレーザー(6)が、レーザービーム(7)を方向付けるように構成されたハンドリング装置に配置されていることを特徴とする、請求項26に記載の装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102015106464.2 | 2015-04-27 | ||
DE102015106464.2A DE102015106464A1 (de) | 2015-04-27 | 2015-04-27 | Laserbeschichtungsverfahren und Vorrichtung zu dessen Durchführung |
PCT/EP2016/059126 WO2016173963A1 (de) | 2015-04-27 | 2016-04-25 | Laserbeschichtungsverfahren und vorrichtung zu dessen durchführung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2018520262A true JP2018520262A (ja) | 2018-07-26 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017557115A Pending JP2018520262A (ja) | 2015-04-27 | 2016-04-25 | レーザーコーティング方法及びそれを実施するための装置 |
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EP (1) | EP3250731B1 (ja) |
JP (1) | JP2018520262A (ja) |
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CN (1) | CN107532284A (ja) |
DE (1) | DE102015106464A1 (ja) |
WO (1) | WO2016173963A1 (ja) |
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- 2015-04-27 DE DE102015106464.2A patent/DE102015106464A1/de not_active Withdrawn
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2016
- 2016-04-25 WO PCT/EP2016/059126 patent/WO2016173963A1/de active Application Filing
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- 2016-04-25 JP JP2017557115A patent/JP2018520262A/ja active Pending
- 2016-04-25 EP EP16720081.5A patent/EP3250731B1/de not_active Not-in-force
- 2016-04-25 US US15/568,284 patent/US20180117711A1/en not_active Abandoned
- 2016-04-25 KR KR1020177027225A patent/KR20180002603A/ko not_active Application Discontinuation
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