JP2010514106A5 - - Google Patents

Claims (18)

1. 電子ビームを傾斜させる手段と、回折図形の強度分布の方向依存性を算出する手段とを有する電子顕微鏡において、
   電子ビームの傾斜と関連させた、電子顕微鏡で撮影した少なくとも一つの回折図形におけるコヒーレントな環状縞の包絡線の方向に依存した狭隘化から、電子顕微鏡のデフォーカス偏差又は焦点分布を算出する手段を備えた評価ユニットを特徴とする電子顕微鏡。
2. 透過電子顕微鏡として構成されていることを特徴とする請求項１に記載の電子顕微鏡。
3. 電子顕微鏡の少なくとも一つの収差、特に、デフォーカス、球面収差及び非点収差から成るグループの中の少なくとも一つの収差を決定する手段を特徴とする請求項１又は２に記載の電子顕微鏡。
4. 当該の評価ユニットが、回折図形用のローパスフィルターを有することを特徴とする請求項１から３までのいずれか一つに記載の電子顕微鏡。
5. 少なくとも一つの対数変換ユニットを有することを特徴とする請求項１から４までのいずれか一つに記載の電子顕微鏡。
6. 当該の評価ユニットが、回折図形の強度分布用の数学モデルを有することを特徴とする請求項１から５までのいずれか一つに記載の電子顕微鏡。
7. 電子ビームを傾斜させる工程と、
   物体の少なくとも一つの回折図形を撮影する工程と、
   その回折図形の強度分布の方向依存性を算出する工程と、
   その回折図形におけるコヒーレントな環状縞の包絡線の方向に依存した狭隘化と電子ビームの傾斜から、電子顕微鏡のデフォーカス偏差又は焦点分布を算出する工程と、
   を有する、電子顕微鏡のデフォーカス偏差又は解像限界を算出する方法。
8. 非結晶物体を選定することを特徴とする請求項７に記載の方法。
9. 電子顕微鏡として、透過電子顕微鏡を選定することを特徴とする請求項７又は８に記載の方法。
10. デフォーカス偏差又は焦点分布から電子顕微鏡の解像限界を算出することを特徴とする請求項７から９までのいずれか一つに記載の方法。
11. 電子顕微鏡の少なくとも一つの収差、特に、デフォーカス、球面収差及び非点収差から成るグループの中の収差を決定する、特に、測定するか、電子顕微鏡において、そのような収差を周知の大きさに調節するか、或いはその両方を実施することを特徴とする請求項７から１０までのいずれか一つに記載の方法。
12. 当該の回折図形に対して、ローパスフィルターを用いたフィルター処理、対数変換及びその原点の周りの円周ラインに沿った評価の中の一つ以上を実施することを特徴とする請求項７から１１までのいずれか一つに記載の方法。
13. 当該の回折図形の強度分布の数学モデルを、撮影した回折図形に適合させることを特徴とする請求項７から１２までのいずれか一つに記載の方法。
14. 当該の電子顕微鏡のデフォーカス偏差を、適合させるためのパラメータとして使用することを特徴とする請求項１３に記載の方法。
15. 当該の適合を、パラメータを最適化する方法にもとづき実施することを特徴とする請求項１３又は１４に記載の方法。
16. 異なるビーム傾斜で撮影した一連の少なくとも三つの回折図形を評価することを特徴とする請求項７から１５までのいずれか一つに記載の方法。
17. ビームを光軸に対して一定の角度に傾斜させるとともに、その傾斜角の方位を一様に分散させて、当該の一連の回折図形を撮影することを特徴とする請求項１６に記載の方法。
18. 当該の焦点分布を評価するために、回折図形内のＭ個の離散的な点に関して、それらの点における回折図形の強度値を、それぞれ画像のＮ個の異なるサブ焦点における焦点分布の値の関数として表したＭ個の式とＮ個の未知数から成る連立方程式、特に線形連立方程式を立てることを特徴とする請求項７から１７までのいずれか一つに記載の方法。