JP2010503882A5 - - Google Patents

Claims (14)

1. 極紫外線応用例やＸ線応用機器のための集光光学系において、放射光は放射線光源を出て集光されてから画像合焦点に方向転換され、
   前記光学系は１枚以上の鏡を備えており、前記１枚の鏡または複数の鏡は各々が、前記放射線光源を通って延びる光軸を中心として対称性を示しているとともに、少なくとも第１反射面および第２反射面を有しており、前記第１反射面および前記第２反射面は合焦点が共通しており、それによって、使用するときに、前記放射線光源からの放射光は前記第１反射面および前記第２反射面に入射する際に連続して、すれすれの入射を受け、
   前記第１反射面および前記第２反射面の共通合焦点は光軸に関して所定の距離 Δr だけ横断方向に片寄せされる、
   ことを特徴とする、集光光学系。
2. 前記所定の距離 Δr は光軸と前記画像合焦点および前記共通合焦点を通る直線との間に設けられる角度が約1ミリラジアンから約100ミリラジアンの範囲にあることを特徴とする、請求項１に記載の集光光学系。
3. 前記角度は約10ミリラジアンから約45ミリラジアンの範囲に入ることを特徴とする、請求項２に記載の集光光学系。
4. 前記１枚の鏡または複数の鏡は各々が電鋳モノリシック構成部材として形成されており、前記第１反射面は１枚の鏡の２つの連続する領域のうちの一方に設けられており、前記第２反射面はその同じ鏡の連続領域の他方に設けられていることを特徴とする、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の集光光学系。
5. 前記１枚の鏡または複数の鏡の各々について、
   前記第１反射面は、前記放射線光源に最も近い位置にあって、双曲面形状を呈していることを特徴とする、請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の集光光学系。
6. 前記１枚の鏡または複数の鏡の各々について、
   前記第２反射面は、前記放射線光源から最も遠い位置にあって、或る軸線を中心として楕円形の側面形状を回転させることにより得られるが、前記軸線は楕円面領域の対称軸線とは異なっていることを特徴とする、請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の集光光学系。
7. 複数の鏡が入れ子配置にして設けられていることを特徴とする、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の集光光学系。
8. 前記鏡のうち２枚以上は各々が互いに異なる幾何学的形状を呈していることを特徴とする、請求項７に記載の集光光学系。
9. 前記１枚以上の鏡には１個以上の鏡の熱管理用装置が取付けられており、取付け位置は前記鏡の背面側であり、前記１個以上の熱管理用装置は、冷却線、ペルチエ熱電池、および、温度センサーを含むことを特徴とする、請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の集光光学系。
10. 前記１枚以上の鏡には光源から出る埃を緩和する１個以上の装置が取付けられており、例えば、取付け位置は前記鏡の背面側であり、前記１個以上の埃を緩和する装置は、腐食検出装置、ソレノイド、および、高周波源などを含んでいることを特徴とする、請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の集光光学系。
11. 極紫外線製版に好適な集光光学系であって、請求項１から請求項１０のいずれかに記載の光学系を含んでいることを特徴とする、集光光学系。
12. 極紫外線製版システムであって、
    レーザープラズマ（LPP）光源などのような放射線光源と、
    請求項１１に記載の集光光学系と、
    光コンデンサと、
    反射マスクと、
    備えていることを特徴とする、システム。
13. 極紫外線画像処理またはＸ線画像処理に好適な画像処理光学系であって、請求項１から請求項１０のいずれかに記載の集光光学系を備えることを特徴とする、画像処理光学系。
14. 極紫外線画像処理システムまたはＸ線画像処理システムであって、
    請求項１３に記載の画像処理光学系と、
    電荷結合素子などのような画像処理装置とを備え、前記画像処理装置は画像合焦点に配置されることを特徴とする、システム。