JP2011511435A5 - - Google Patents

Claims (14)

1. 放射源からの極紫外線（ＥＵＶ）又はＸ線放射により光のファーフィールド強度分布を形成するＥＵＶ及びＸ線に用いる集光光学系であって、
   入れ子構造に配され、光源を介して延びる光軸を中心に対称に配された複数のミラーであって、各ミラーは、前記放射をそれぞれ反射させて前記ファーフィールド強度分布を形成する少なくとも第１及び第２反射面を有する、複数のミラーを備え、
   前記第１及び第２反射面のうち一以上は、前記ファーフィールド強度分布の高い空間周波数変化を補償するような多項補正形状を有する、
   集光光学系。
2. 前記ファーフィールド強度分布の変化はくぼみを含み、前記矯正形状は、前記くぼみを埋めるように形成されている、
   請求項１に記載の集光光学系。
3. 前記第１及び第２反射面は双曲部と楕円部をそれぞれ含み、前記第１反射面は前記第２反射面よりも前記放射源に近い、
   請求項１に記載の集光光学系。
4. 各ミラーは電鋳モノリシック部材を含む、
   請求項１に記載の集光光学系。
5. 各ミラーは、一種類以上の温度管理装置を有する、
   請求項１に記載の集光光学系。
6. 請求項１に記載の集光光学系、
   前記集光光学系から集光される放射を受光する集光レンズ、及び
   前記集光レンズからの集光された放射を受光する反射マスク、
   を備える、ＥＵＶリソグラフィシステム。
7. 放射源からの極紫外線（ＥＵＶ）又はＸ線放射により光のファーフィールド強度分布を形成するＥＵＶ及びＸ線に用いる集光光学系であって、
   入れ子構造に配され、光源を介して延びる光軸を中心に対称に配された複数のミラーであって、各ミラーは、前記放射をそれぞれ反射させる少なくとも第１及び第２反射面を有する、複数のミラーを備え、
   一以上のミラーは、前記第１及び第２反射面により反射された放射を反射する第３反射面を含む、
   集光光学系。
8. 前記第１反射面は、前記光源に最も近く、双曲形状を有し、
   前記第２反射面は双曲形状を有し、
   前記第３反射面は、前記光源から最も遠く、楕円形を有する、
   請求項７に記載の集光光学系。
9. 前記第２双曲形状は、第１双曲形状と一つの共通の焦点を有し、前記楕円形とは一つの共通の焦点を有する、
   請求項７に記載の集光光学系。
10. 前記複数のミラーは、
    二以上のミラーからなり第１及び第２反射面のみを有する第１セットと、
    二以上のミラーからなり前記第１、第２及び第３反射面を有する第２セットと、
    を備える、
    請求項７に記載の集光光学系。
11. 各ミラーは電鋳モノリシック部材である、
    請求項７に記載の集光光学系。
12. 各ミラーは、一種類以上の熱管理装置を有する、
    請求項７に記載の集光光学系。
13. 前記光学系は像焦点を有し、更に、像焦点に配される撮像装置を備える、
    請求項７に記載の集光光学系。
14. 請求項７に記載の集光光学系、
    前記集光光学系から集光される放射を受光する集光レンズ、及び
    前記集光レンズからの集光された放射を受光する反射マスク、
    を備える、ＥＵＶリソグラフィシステム。