JP2012074697A - Ｅｕｖコレクタ - Google Patents

Abstract

【課題】伝達される物体フィールドを照明するための放射の質を改善するコレクタを提供する。
【解決手段】ＥＵＶ放射源からの放射を集光して伝達するためのＥＵＶコレクタ（１５）が、中心軸（２４）に対して回転対称に構成された、ＥＵＶ放射源の放射を反射するための少なくとも１つのコレクタミラー（２３）と、この少なくとも１つのコレクタミラー（２３）を冷却するための冷却装置（２６）とを備え、冷却装置（２６）が、コレクタミラー（２３）に対する進路を有する少なくとも１つの冷却要素（２７）を有し、この進路を中心軸（２４）に垂直な平面内に投影したものに、予め定めた好ましい方向（２９）との間の最大２０°の角度ｂがいずれの場合にも含まれるようにする。
【選択図】図２

Description

本発明は、ＥＵＶ（極紫外線）放射源からの放射を集光するためのコレクタに関する。さらに、本発明は、この種のコレクタを含む照明系、この種の照明系を含む投影露光系、この種の投影露光系を使用してマイクロ構造又はナノ構造部品を製造する方法、及びこの方法により製造される部品に関する。

冒頭に述べた種類のコレクタは、国際公開第２００７／０５１６３８号、国際公開第２００９／０９５２１９号、独国特許出願公開第１０２００７０４１００４号及び米国特許出願公開第２００４／０２２７１０３号により公知である。

国際公開第２００７／０５１６３８号 国際公開第２００９／０９５２１９号 独国特許出願公開第１０２００７０４１００４号明細書 米国特許出願公開第２００４／０２２７１０３号明細書 米国特許第６，８５９，５１５号明細書 国際公開第２００９／０９５２２０号

本発明の目的は、コレクタを開発し、このコレクタにより伝達される、物体フィールドを照明するための放射の質が改善されるようにすることである。

本発明によれば、この目的は請求項１に記載のコレクタにより達成される。

本発明により、物体フィールド面内の光分布は、照明系の入口における正確な強度分布に強く依存することが認められた。コレクタの表面欠陥、及び特にその他の表面変形は、この場合の物体フィールド面内の光分布に大きな影響を及ぼす。照明系を動作させる場合のコレクタミラーの表面変形の主な原因は熱変形である。熱負荷を有効に解消するために、コレクタには冷却概念が与えられる。本発明により、物体フィールド面の光分布は、コレクタミラーの正確な構造、及び詳細には表面変形の方向に様々な感度で依存することも認められた。特に、コレクタの冷却概念を照明系の正確な設計に合致させることにより、レチクル上の光分布を改善することができる。詳細には、本発明による冷却概念では、少なくとも１つの冷却要素を含む冷却装置を提供し、この冷却要素の配向を、この冷却要素の進路の主方向をコレクタの中心軸に垂直な面内に投影したものに、予め定めた好ましい方向との間の最大２０°の角度ｂが含まれるようにするという点で改善が成されている。コレクタミラーは、楕円ミラー、或いはウォルターＩ型又はＩＩ型のミラーとすることができる。この種のミラーの組み合わせも可能である。コレクタミラーは、互いに内側に配置された複数のミラーシェルの構成の一部とすることができる。冷却装置は、正確に１つの冷却要素を有することができる。この場合、この正確に１つの冷却要素の進路をコレクタミラーの対称軸に垂直な平面内に投影したものと予め定めた好ましい方向との間の角度ｂは最大２０°である。冷却装置が複数の冷却要素を有する場合、これらの冷却要素の５０％よりも多くの少なくとも一部を、冷却要素の進路をコレクタミラーの対称中心軸に垂直な平面内に投影したものに、予め定めた好ましい方向との間の最大２０°の角度ｂが含まれるようにする。具体的には、冷却装置の全ての冷却要素がコレクタミラーに対する進路を有し、この進路を中心軸に垂直な平面内に投影したものに、予め定めた好ましい方向との間の最大２０°の角度ｂが含まれるようにする。フィールドファセットを線形に構成した場合、冷却要素をコレクタミラーに対して、これらの冷却要素の進路を中心軸に垂直な平面内に投影したものが線形になるように配置することができる。フィールドファセットが湾曲し、具体的には環状の弓形である場合、少なくとも１つの冷却要素の進路の投影が、対応する曲率を有することができると好ましい。この場合、進路の投影の主方向は、対応する環状弓の弦により定められる。

請求項２によれば、主方向を中心軸に垂直な平面内に投影したものと予め定めた好ましい方向との間の角度は最大７°であることが好ましい。この場合、この好ましい方向は、物体フィールド内に配置された、ＥＵＶ放射源からの放射を用いて高い質で結像されるオブジェクトの走査方向とすることができる。

請求項３によれば、進路の投影は、予め定めた好ましい方向に平行であることが好ましい。冷却要素の進路を予め定めると、物体フィールド面内の強度変調の進路が特定されるので、物体フィールドの走査露光における走査方向に沿った強度変調が統一されるが、照明フィールドが直交走査方向、換言すれば走査方向に対して横向きすなわち垂直に乱れると露光量が局所的に変動するようになり、これは走査露光中にも平均化されない。

請求項４によれば、冷却装置は、少なくとも２つの、とりわけ複数の、とりわけ少なくとも３つの、とりわけ少なくとも５つの、好ましくは７つの空間的に分離された冷却要素を有することが好ましい。これにより、コレクタミラーのより的を絞った均一な冷却が可能になる。

請求項５に記載の冷却要素を、これらの進路を中心軸に垂直な平面内に投影したものが少なくともほぼ、具体的には少なくとも部分的に互いに平行となるように配置することにより、物体フィールド内の光分布の均一性がさらに改善される。

請求項６によれば、別個の冷却要素を互いに独立して制御できることが好ましい。この結果、コレクタミラーの冷却を、照明系の動作中に生じる状態に対してより柔軟に、具体的には動的に適応させることができるようになる。

請求項７に記載の冷却要素の冷却水路としての構成は、構造的に単純な可能性を有し、これがコレクタミラーを効率的に冷却するようになる。

本発明のさらなる目的として、本発明によるコレクタを含む照明系の構成がある。

本発明によれば、この目的は、請求項８に記載の照明系により達成される。

この種の照明系の利点は、請求項１〜請求項７のいずれかに記載のコレクタについて上述したものと一致する。

複数の細長いファセットを含む少なくとも１つのファセットミラーを有する照明光学系を含む照明系では、少なくとも１つの冷却要素を配向するための好ましい方向が、ファセットの長手方向の配向により予め定められる。このファセットは、物体フィールドを照明するためにこの物体フィールド内に投影されるので、この冷却要素の配向により、投影されるファセットの長手方向の配向に垂直な方向に走査露光することで、物体フィールド内の光分布をさらに改善することができる。

ＥＵＶ投影マイクロリソグラフィに照明系を利用する場合、ＥＵＶ投影マイクロリソグラフィは少なくとも１つのＥＵＶ放射源を有する。

本発明のさらなる目的は、本発明による照明系を含む投影露光系と、この投影露光系を使用して部品を製造する方法と、この方法により製造される部品とを開示することである。

本発明によれば、これらの目的は、請求項１１に記載の投影露光系と、請求項１２に記載の製造法と、請求項１３に記載の部品とによって達成される。投影露光系は、スキャナとして構成されることが好ましい。従って、この投影露光系は、物体を結像させること、及び基板上に結像を行うことの両方のために、例えばウェハと、投影露光中に走査方向に移動できるホルダとを有する。

これらの主題の利点は、既に上述したものと一致する。

以下、添付図面を用いて本発明の実施形態についてより詳細に説明する。

ＥＵＶ投影リソグラフィのための投影露光系を貫いた子午断面を概略的に示す図である。 コレクタミラーの中心軸方向における概略図である。 図２のコレクタミラーの線ＩＩＩ−ＩＩＩに沿った子午断面を概略的に示す図である。 図２のコレクタミラーを、図３の視点方向と垂直の視点方向で見た概略側面図である。 第１の実施形態による照明光学系のフィールドファセットミラーを示す図である。 コレクタミラーのさらなる実施形態を図２及び図３による視点で示す図である。 コレクタミラーのさらなる実施形態を図２及び図３による視点で示す図である。 第２の実施形態による照明光学系のフィールドファセットミラーを示す図である。 コレクタミラーの第３の実施形態に対応する図である。 コレクタミラーの第３の実施形態に対応する図である。 本発明によるコレクタがレチクル上の照明強度分布の均一性に及ぼす効果を局所波長の関数として示す例図である。

図１は、マイクロリソグラフィのための投影露光系１を子午断面で概略的に示す図である。投影露光系１の照明系２は、放射源３とは別に、物体平面６内の物体フィールド５を露光するための照明光学系４を有する。ここでは、物体フィールド５内に配置されレチクルホルダ８により保持された、切り欠いた形でしか示していないレチクル７が露光される。投影光学系９を使用して、像面１１内の画像フィールド１０内に物体フィールド５を結像する。像面１１内の画像フィールド１０の領域内に配置されウェハホルダ１３により保持された、やはり概略的に示すウェハ１２の感光層上に、レチクル７上の構造が結像される。

放射源３は、５ｎｍ〜３０ｎｍの範囲の有効放射を放射するＥＵＶ放射源である。この放射源３は、例えばＧＤＰＰ源（ガス放電励起プラズマ）又はＬＰＰ源（レーザ励起プラズマ）などのプラズマ源であってもよい。放射源３には、シンクロトロンに基づく放射源を使用することもできる。当業者であれば、この種の放射源に関する情報を、例えば米国特許第６，８５９，５１５号明細書から見出すことができる。放射源３から放射されたＥＵＶ放射１４は、コレクタ１５によって束ねられる。ＥＵＶ放射１４は、コレクタ１５を経た後に中間焦点面１６内を伝搬してからフィールドファセットミラー１７にぶつかる。フィールドファセットミラー１７は、物体平面６と光学的に共役する照明光学系４の平面内に配置される。

以下、ＥＵＶ放射１４を照明光又は結像光とも呼ぶ。

ＥＵＶ放射１４は、フィールドファセットミラー１７を経た後に、瞳ファセットミラー１８により反射される。瞳ファセットミラー１８は、投影光学系９の瞳面と光学的に共役する照明光学系４の瞳面内に配置される。瞳ファセットミラー１８と、ビーム経路の順に示すミラー２０、２１及び２２を含む伝達光学系１９の形の結像光学アセンブリ群とを用いて、フィールドファセットミラー１７のフィールドファセットを物体フィールド５内に結像する。伝達光学系１９の最後のミラー２２は、かすり入射ミラーである。瞳ファセットミラー１８及び伝達光学系１９は、照明光１４を物体フィールド５内に転写するための後続する光学系を形成する。特に、瞳ファセットミラー１８を投影光学系９の入射瞳内に配置した場合には、伝達光学系９を省くことができる。

位置関係を簡単に説明するために、図１にはデカルトｘｙｚ座標系を示している。図１では、ｘ軸は図面と垂直にかつ図面の中へ延びる。ｙ軸は右方向に延びる。ｚ軸は下方向に延びる。物体平面６及び像面１１は、両方ともｘｙ平面と平行に延びる。

レチクルホルダ８は、投影露光中に物体平面６内のｙ方向と平行な変位方向にレチクル７を移動できるように制御された態様で移動させることができる。これに応じて、像面１１内のｙ方向と平行な変位方向にウェハ１２を移動できるように制御された態様でウェハホルダ１３を移動させることができる。この結果、一方では物体フィールド５によってレチクル７を走査し、他方では画像フィールド１０によってウェハ１２を走査することができる。以下、この変位方向を走査方向とも呼ぶ。レチクル７及びウェハ１２の走査方向における移動は互いに同期して行われることが好ましい。以下、図２〜図４を参照しながらコレクタ１５の第１の実施形態についてより詳細に説明する。

図１にほんの概略的に示したコレクタ１５は、ＥＵＶ放射源３のＥＵＶ放射１４を反射するための少なくとも１つのコレクタミラー２３を備える。

図１の単なる概略図とは対照的に、この少なくとも１つのコレクタミラー２３を放射源３の背後のビーム方向に配置することもできる。図１には、放射源３の背後のコレクタミラーの配置を点線により２３’で示している。以下、コレクタミラーを参照する場合には、参照数字２３を統一して使用する。

コレクタミラー２３は、いずれの場合にも中心軸２４に対して回転対称に構成される。図２〜図４に示すコレクタミラー２３は、楕円ミラー面２５を有する楕円ミラーである。

放射源３は、楕円形のミラー面２５の焦点内に配置される。楕円形のミラー面２５の他方の焦点は、中間焦点面１６内に存在する。楕円コレクタミラー２３を使用して、放射源３の逆方向に放射される全ＥＵＶ放射１４、換言すれば放射源３から生じて中間焦点１６から離れた半空間に侵入する放射を受光して反射する。また、楕円コレクタミラー２３は、順方向に放射されるＥＵＶ放射１４の一部を反射することもできる。順方向に放射されるＥＵＶ放射を集光するために、図１に連続線によって概略的に示すコレクタミラー２３を、図９及び図１０による構成とともに以下でも説明するようなウォルターミラー光学系型とすることもできる。

放射源３により放射されコレクタミラー２３により反射されるＥＵＶ放射１４の一部はコレクタミラー２３により吸収されるので、投影露光系１の動作中、コレクタミラー２３は加熱する恐れがある。これにより、コレクタミラー２３が熱変形する可能性がある。この種の変形を最小限に抑えるために、ＥＵＶコレクタ１５には冷却装置２６が設けられる。冷却装置２６は、特にコレクタミラー２３を冷却するために使用される。冷却装置２６は、少なくとも１つの冷却要素２７を含む。少なくとも１つの冷却要素２７は、例えば冷却水路として構成され、これに冷媒を装填することができる。冷媒としては、冷却ガス又は冷却液を使用することができる。冷媒として、水又はグリコールを提供することが好ましい。

図２〜図４には、７つの冷却水路を有するコレクタミラー２３を示している。しかしながら、異なる数の冷却要素２７も可能である。冷却装置２６は、少なくとも２つの、とりわけ少なくとも３つの、とりわけ少なくとも５つの、とりわけ少なくとも７つの空間的に分離された冷却要素２７を有することが好ましい。

冷却要素２７は、コレクタ１５の基材２８と一体化される。この結果、コレクタ１５の特に効率的な冷却が可能となる。冷却要素２７の構成としては、これらの冷却要素２７がコレクタ１５上に配置されてコレクタ１５と堅固に接続された構成も可能である。

冷却要素２７は、好ましくは冷却水路として構成され、冷媒が密封されるように構成される。冷却水路に冷媒を装填するために、これらの水路は、図示していない供給及び放出管により、やはり図示していない冷媒リザーバに接続される。

位置関係を簡単に説明するために、図２〜図８には、いずれの場合にも局所的デカルトｘｙｚ座標系を示している。ここでは、いずれの場合にもｚ方向がコレクタミラー２３の領域内のＥＵＶ放射１４の主な展開方向を指すようにして座標系を配置している。従って、コレクタ１５の領域内では、ｚ軸がコレクタミラー２３の中心軸２４と平行になる。図２では、ｘ方向は右方向に延びる。ｙ方向は上方向に延びる。ｚ方向は、図２の図面と垂直に観察者の方に向かって延びる。図２〜図８による局所的ｘｙｚ座標系のｘ方向は、図１による大域的ｘｙｚ座標系のｘ方向と平行に延びる。物体平面６の領域内では、ｙ方向が走査方向に対応するのに対し、ｘ方向は直交走査方向に対応する。

本発明によれば、冷却要素２７のコレクタミラー２３に対する進路は、これらの進路をｘｙ平面、すなわち中心軸２４に垂直な平面内に投影したものが、好ましくはｘ方向と平行に延びるようにされる。一般に、冷却要素２７は、コレクタミラー２３に対し、これらの冷却要素の進路を上記で定めたｘｙ平面内に投影したものに、上記で定めた座標系内のｘ方向に対応する予め定めた好ましい方向２９との間の最大２０°の、とりわけ最大７°の角度ｂが含まれるように配置される。上述したように、物体平面６の領域内では、ｘ方向は直交走査方向に対応する。

図２に示すように、冷却要素２７は、コレクタの基材２８内に、これらの冷却要素の進路をｘｙ平面内に投影したものが互いに少なくともほぼ平行となるように配置される。ここで言うほぼ平行とは、２つの冷却要素２７の進路をｘｙ平面内に投影したものに最大７°の角度が含まれることを意味すると理解されたい。詳細には、冷却要素２７の進路をｘｙ平面に投影したものを、いずれの場合にも部分的に平行又は完全に平行とすることができる。

特に有利な実施形態では、別個の冷却要素２７を互いに独立して制御することができる。具体的には、これらに互いに独立して冷媒を装填することができる。

上述したように、照明系２は、コレクタ１５及び照明光学系４を備え、この照明光学系４はフィールドファセットミラー１７を備える。フィールドファセットミラー１７の詳細については、独国特許出願公開第１０２００７０４１００４号明細書の、特に図３を参照されたい。フィールドファセットミラー１７は、数多くの細長いファセット３０を有する。いずれの場合にも、ファセット３０は長方形である。これらは、少なくとも１：２の、とりわけ少なくとも１：３の、好ましくは少なくとも１：５のアスペクト比を有する。このことは、いずれの場合にもファセット３０の長辺がファセット３０の短辺の長さよりも少なくとも２倍、とりわけ少なくとも３倍、とりわけ少なくとも５倍であることを意味すると理解されたい。ファセット３０のアスペクト比は、１：１５〜１：３０の範囲内にあることが格別である。ファセットのアスペクト比は、物体フィールド５のアスペクト比に対応する。放射源３からの放射１４は、フィールドファセット３０により数多くの放射束に分割される。ファセット３０を使用して二次光源を生成する。これらは、瞳ファセットミラー１８により物体平面６内に結像される。

ファセット３０は、フィールドファセットミラー１７上に、物体平面６内のこれらのファセット３０の像がいずれの場合にもｘ方向、すなわち直交走査方向と平行に延びるように配置される。このことは、ファセット３０の物体平面６内への投影中に、個々のファセットの長辺がｘ方向、すなわち直交走査方向と平行に延びる一方で、個々のファセット３０の短辺がｙ方向、すなわち走査方向を指すことを意味すると理解されたい。

ファセット３０を、瞳ファセットミラー１８の図示していない瞳ファセットとともに使用して、物体フィールド５を照明して照らすための明確な照明設定を実現する。

コレクタ１５の図２〜図４に示す実施形態によれば、ファセット３０の長手方向の配向により、上述した冷却要素２７の配向にとって好ましい方向２９が予め正確に定められる。換言すれば、好ましい方向２９は、ファセット３０の長手方向の配向をｘｙ平面内に、すなわち中心軸２４に垂直な平面内に投影したものに正確に対応する。ファセット３０を傾けずに示す図５による概略図では、ファセット３０の長手方向の配向がｘ方向と一致する。

図５には、フィールドファセットミラー１７の内部照明限界３１も概略的に示している。この照明限界は、例えばコレクタ１５の図示していないセンターストップによって生じ得る。

フィールドファセットミラー１７は、数多くのフィールドファセット群３２を有し、さらにこれらは数多くの個々のファセット３０で構成される。

ファセットミラーのさらなる詳細については、独国特許出願公開第１０２００７０４１００４号明細書の、特に図３を参照されたい。

以下、図６〜図８を用いて、コレクタ３３、及び対応するコレクタ３３及びフィールドファセットミラー３４を有する照明系２のさらなる実施形態について説明する。これらに対応する、図１〜図５を参照しながら既に上述した部品には同一の参照数字を付しており、これらについて再び詳細に説明することはない。

コレクタ３３（図６及び図７を参照）は、冷却装置２６の冷却要素２７の配置を除き、上述のコレクタ１５に一致する。

フィールドファセットミラー３４（図８を参照）も、数多くのファセット３５を含む数多くのフィールドファセット群３２を有する。この実施形態では、フィールドファセット群３２が縦列方向に配置されている。この実施形態によれば、個々のファセット３５はアーチ形である。アーチ形ファセット３５のアスペクト比は、上述した実施形態の長方形ファセット３０のアスペクト比に対応する。さらに、ファセット３５の主方向３６は、いずれの場合にも、ファセット３５によって提供される円形部分の円弧の弦に平行な方向、換言すれば図８のｘ方向を意味すると理解されたい。

冷却要素２７のコレクタミラー２３に対する進路は、このアーチ形ファセットに基づいて構成される。換言すれば、この実施形態の冷却要素２７のコレクタミラー２３に対する進路は、この進路をｘｙ平面内に、すなわち中心軸２４に垂直な平面内に投影したものがアーチ形、詳細には円形部分の円弧となり、この主方向が予め定めた好ましい方向２９に、換言すれば図６のｘ方向に平行となるようにされる。上述した実施形態によれば、ここでは好ましい方向２９が、ファセット３５の主方向３６を投影したものによって定められる。一般的には、冷却要素２７の進路を投影したもの、詳細には冷却要素２７の進路をｘｙ平面内に投影したものの主方向に、好ましい方向２９との間の最大２０°の、特に最大７°の角度ｂが含まれる。

冷却要素２７のアーチ形部分の数は、フィールドファセットミラー３４上のフィールドファセット群３２の縦列の数に正確に対応することが好ましい。

以下、図９及び図１０を用いてコレクタ３７のさらなる実施形態について説明する。

この実施形態によれば、コレクタ３７は、互いに内側に位置する複数のミラーシェル４０を有し、これらの１つを図９及び図１０に示している。対応するコレクタは、例えば独国特許出願公開第１０２００７０４１００４号明細書から公知であり、本明細書ではこれを参照する。コレクタ３７は、例えば、１つのミラーシェル４０、２つのミラーシェル４０、又は互いに内側に位置する２つよりも多くのミラーシェル４０、具体的には互いに内側に位置する３つ、４つ、５つ又はさらに多くのミラーシェル４０を有する。

互いに内側に位置するミラーシェル４０は、Ｉ型又はＩＩ型ウォルター光学系を形成する。これらは中心軸２４の周囲に延びるねじれ領域３８を有し、これについては図１０に概略的にのみ示す。ミラーシェル４０は、かすり入射のために設計される。従って、ＥＵＶ放射１４のミラーシェル４０上への入射角は限界角度未満となる。かすり反射されたＥＵＶ１４は、ミラーシェル４０によって、いずれの場合にも正確に２回、すなわちねじれ領域３８の前で１回、ねじれ領域３８の後で１回反射される。この種のコレクタ３７は、国際公開第２００９／０９５２１９号及び国際公開第２００９／０９５２２０号から公知である。

ミラーシェル４０は、これらの軸２４の周囲の中心領域内に、いずれの場合にも貫通口３９を有する。冷却要素２７は、この貫通口３９の位置ではｙ方向に延び、これらの要素自体に折り返すことができる。この代替として、貫通口３９を通過する冷媒用の供給及び／又は放出管も可能である。

いずれの場合にも、コレクタ３７は、放射源３の半空間内に中間焦点面１６の方を向いて配置される。

当然ながら、この実施形態において、図６及び図７で説明した湾曲部分を含む冷却要素２７の実施形態による湾曲したファセットを含むフィールドファセットの場合の冷却要素２７を構成することもできる。

均一性Ｕは、物体フィールド５の照明の質を定量化するための特性の１つである。均一性Ｕは、次式によって求められ、

式中、ＳＥｍａｘ及びＳＥｍｉｎは、物体フィールド５のフィールド高さにわたる最大又は最小走査集積エネルギーを示す。均一性Ｕの値が小さいほど、物体フィールド５の照明はより均一となり、従ってより良好となる。コレクタ１５、３３、３７の冷却装置２６の冷却要素２７の進路が物体フィールド５の照明の均一性Ｕに及ぼす影響を図１１に一例として示す。ここでは、破曲線により、冷却要素を中心軸２４に対して回転対称に構成した冷却装置の場合の物体平面６内の強度分布の均一性Ｕを、放射状に距離を置いたフィールドの乱れの局所的波長λの関数として示している。連続線は、本発明による冷却装置２６の影響を対応して示している。本発明による冷却要素２７を配置することにより、物体平面６内の強度分布の均一性Ｕが大幅に改善されることが明確に理解できる。

上述したコレクタの変形例の１つを含む投影露光系１を使用する場合、レチクル７と、照明光１４のための感光性コーティングを施したウェハ１２とが提供される。この結果、投影露光系１により、レチクル７の少なくとも一部がウェハ１２上に投影される。レチクル７のウェハ１２上への投影中には、レチクルホルダ８及び／又はウェハホルダ１３を物体平面６に平行な方向又は像面１１に平行な方向に移動することができる。レチクル７及びウェハ１２の移動は、互いに同期して実行できることが好ましい。最終的に、照明光１４によって露光されたウェハ１２上の感光層を現像する。このようにして、マイクロ構造又はナノ構造部品、具体的には半導体チップを製造する。

１５ コレクタ
２３ コレクタミラー
２４ 中心軸
２５ 楕円ミラー面
２６ 冷却装置
２７ 冷却要素
２８ 基材
２９ 好ましい方向
ｂ 角度

Claims (13)

1. ＥＵＶ放射源（３）からの放射（１４）を集光して伝達するためのＥＵＶコレクタ（１５、３３、３７）であって、
   − 中心軸（２４）に対して回転対称に構成された、前記ＥＵＶ放射源（３）の放射を反射するための少なくとも１つのコレクタミラー（２３、４０）と、
   − 前記少なくとも１つのコレクタミラー（２３、４０）を冷却するための冷却装置（２６）と、
   を備え、前記冷却装置（２６）が、前記コレクタミラー（２３、４０）に対する進路を有する少なくとも１つの冷却要素（２７）を有し、前記進路を前記中心軸（２４）に垂直な平面内に投影したものに、予め定めた好ましい方向（２９）との間の最大２０°の角度ｂがいずれの場合にも含まれるようにした、
   ことを特徴とするコレクタ。
2. 前記角度ｂが最大７°である、
   ことを特徴とする請求項１に記載のコレクタ。
3. 前記少なくとも１つの冷却要素（２７）の前記進路を投影したものが、前記予め定めた好ましい方向（２９）に平行である、
   ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のコレクタ。
4. 前記冷却装置（２６）が、少なくとも２つの空間的に分離された冷却要素（２７）を有する、
   ことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載のコレクタ。
5. 前記冷却要素（２７）の前記進路を前記中心軸（２４）に垂直な平面内に投影したものが、少なくともほぼ、具体的には少なくとも部分的に互いに平行である、
   ことを特徴とする請求項４に記載のコレクタ。
6. 前記冷却要素（２７）を互いに独立して制御することができる、
   ことを特徴とする請求項４又は請求項５に記載のコレクタ。
7. 前記冷却要素（２７）が、冷媒を装填できる冷却水路として構成される、
   ことを特徴とする請求項１から請求項６のいずれかに記載のコレクタ。
8. − 請求項１から請求項７のいずれかに記載のコレクタ（１５、３３、３７）と、
   − 前記コレクタ（１５、３３、３７）が集光した放射（１４）を用いて、結像光学系（９）により結像することができる物体フィールド（５）を照明するための照明光学系（４）と、
   を備えることを特徴とする照明系（２）。
9. 前記照明光学系（４）が、前記物体フィールド（５）を照明して照らすための明確な照明設定を実現するための数多くの細長いファセット（３０、３５）を含む少なくとも１つのファセットミラー（１７、３４）を有し、前記好ましい方向（２９）が、少なくとも１つのファセット（３０、３５）の長手方向の配向により予め定められる、
   ことを特徴とする請求項８に記載の照明系（２）。
10. 少なくとも１つのＥＵＶ放射源（３）を含む、
    ことを特徴とする請求項９に記載の照明系（２）。
11. − 請求項９又は請求項１０のいずれかに記載の照明系（２）と、
    − 前記物体フィールド（５）を画像フィールド（１０）内に結像するための結像光学系（９）と、
    を備えることを特徴とする投影露光系（１）。
12. マイクロ構造又はナノ構造の部品を製造する方法であって、
    − レチクル（７）を提供するステップと、
    − 感光性コーティングを施したウェハ（１２）を提供するステップと、
    − 請求項１１に記載の投影露光系（１）を用いて、前記レチクル（７）の少なくとも一部を前記ウェハ（１２）上に投影するステップと、
    − 前記ウェハ（１２）上の前記露光された感光性コーティングを現像するステップと、
    を含むことを特徴とする方法。
13. 請求項１２に記載の方法により製造される、
    ことを特徴とする部品。

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