JP6499658B2 - マイクロミラーアレイ - Google Patents

Description

ドイツ特許出願第１０ ２０１３ ２１７ ２６９．９号明細書の内容が引用によって本明細書に組み込まれている。

本発明は、マイクロミラーアレイに関する。本発明は、更に、そのようなマイクロミラーアレイを有する光学アセンブリに関する。更に、本発明は、そのような光学アセンブリを有する照明光学ユニット及び照明系に関する。最後に、本発明は、そのような照明光学ユニットを有する投影露光装置、及び微細構造化又はナノ構造化構成要素を生成する方法に関する。

マイクロリソグラフィでは、予め決められた強度分布を用いて物体視野を照明することが重要である。望ましくない強度変動は、ここでは回避しなければならない。しかし、多ミラーアレイ（ＭＭＡ）を使用する時に、ミラーの間に存在するその構成に起因する間隙のために物体平面に望ましくない強度変動が存在する可能性がある。

投影露光装置の照明光学ユニットのための多ミラーアレイは、例えば、ＷＯ ２０１０／０９９ ８０７ Ａ１及びＤＥ １０ ２０１２ ２０７ ８６６．５から公知である。

ドイツ特許出願第１０ ２０１３ ２１７ ２６９．９号明細書 ＷＯ ２０１０／０９９ ８０７ Ａ１ ＤＥ １０ ２０１２ ２０７ ８６６．５ ＵＳ ６，８５９，５１５ Ｂ２ ＥＰ １ ２２５ ４８１ Ａ

本発明の目的は、投影露光装置のためのマイクロミラーアレイを改善することである。

本発明により、上述の目的は、各々が非矩形形態を有する個々の反射面を備えた多数のマイクロミラーを含み、平行四辺形の全体反射面を有するマイクロミラーアレイによって達成される。

特に、全体反射面は、非矩形形態を有する。

特に、マイクロミラーは、多角形形態を有する。特に、マイクロミラーは、四辺形として具現化される。しかし、マイクロミラーは、三角形実施形態を有することができる。好ましくは、マイクロミラーは、平行四辺形実施形態を有する。特に、マイクロミラーは、１００°よりも大きい少なくとも１つの内角を有する。

特に、マイクロミラーアレイは、縮尺以外はマイクロミラーの個々の反射面の形態に対応する全体反射面を有する。ここで、個々の反射面の隣接辺と平行な方向の縮尺は、異なる場合がある。

特に、マイクロミラーは、幾何学形状に関して、特にマイクロミラーを取り囲む機構を含むマイクロミラーアレイのものと相似の形態を有する。特に、個々の反射面は、幾何学形状に関して全体反射面のものと相似の形態を有する。

特に、マイクロミラーは、ＥＵＶ範囲の放射線に対して、特に５ｎｍから３０ｎｍの範囲の波長を有する放射線に対して反射性である個々の反射面を有する。特に、個々の反射面は、多層コーティングを有することができる。

マイクロミラーの個々の反射面の各々は、平面実施形態を有することができる。それらはまた、凸又は凹面曲率を備えた実施形態を有することができる。

特に、個々のミラーは変位可能である。好ましくは、それらの各々は、少なくとも１つ、特に少なくとも２つの傾斜自由度を有する。言い換えれば、それらは、好ましくは旋回可能である。それらはまた、直線自由度を有することができる。特に、それらは、その反射面に対して垂直な方向に変位可能とすることができる。

その構成に起因する個々のミラー間の間隔を除いて、マイクロミラーアレイは、間隙なくモザイクにされる。言い換えれば、全体反射面は裂け目がない。特に、マイクロミラーアレイは、多数の行と列を有する。言い換えれば、マイクロミラーは、行と列に配置される。行及び列の数は、特に少なくとも２、特に少なくとも３、特に少なくとも５、特に少なくとも１０、特に少なくとも２０、特に少なくとも３０、特に少なくとも４０である。行の数と列の数は、等しいとすることができる。それは、異なることもできる。マイクロミラーアレイ内のマイクロミラーの全数は、５０よりも多く、特に１００よりも多く、特に２００よりも多く、特に３００よりも多く、特に１０００よりも多いとすることができる。

マイクロミラーアレイのそのような実施形態の結果として、行の向き又は列の向きが走査方向に対して垂直であるようにマイクロミラーアレイを配置することが可能である。特に、この配置により、物体平面内の望ましくない強度変動を効率良く抑制することが可能である。特に、マイクロミラーアレイは、それを走査方向と垂直に位置合わせすることができる境界縁部を有するように具現化される。

本発明の一態様により、全体反射面は、滑らかな縁部を有する。特に、全体反射面の縁部は、ギザギザではない。これはまた、物体平面内の強度損失及び／又は均一性変動を低減する。更に、これは、１又は２以上のマイクロミラーアレイによって照明される物体視野の近似を簡素化及び／又は改善する。

特に明らかになったことは、本発明によるマイクロミラーアレイが、１％よりも良好な、特に０．５％よりも良好な、特に０．３％よりも良好な、特に０．２％よりも良好な、特に０．１％よりも良好な均一性を有する物体視野の照明を可能にするということである。指定した値は、各場合に、最大均一性変動の上限、すなわち、最大均一性誤差を表している。特に、本発明によるマイクロミラーアレイは、物体視野の照明の有意な改善をもたらす。

全体反射面は、特に走査方向に対して垂直な方向に滑らかな縁部を有する。言い換えれば、全体反射面は、走査方向に関して互いに対向して位置する２つの縁部分によって境界が定められ、その各々は、滑らかで特にギザギザではない実施形態を有する。好ましくは、走査方向に対して垂直な方向に互いに対向して位置する他の２つの縁部も、滑らかな実施形態を有する。しかし、後者は、ギザギザ実施形態も有することができる。

本発明の更に別の目的は、投影露光装置のための光学アセンブリを改善することにある。この目的は、上述のマイクロミラーアレイを少なくとも１つ有する光学アセンブリによって達成される。この利点は、マイクロミラーアレイのものから明らかである。

好ましくは、光学アセンブリは、多数のそのようなマイクロミラーアレイを含む。特に、アセンブリのマイクロミラーアレイは、次に、行に配置される。それらは、モザイクの様式に配置することができる。それらは、好ましくは、モジュール式実施形態を有する。それらはまた、交換可能とすることができる。

更に、同じアセンブリの複数のマイクロミラーアレイを共通の制御デバイスと信号送信方式で接続することが可能である。特に、光学アセンブリは、このアセンブリの複数のマイクロミラーアレイを制御可能にする制御デバイスを含むことができる。特に、１つのそのような制御デバイスを用いて、アセンブリの全てのマイクロミラーアレイを作動させることが可能である。

特に、制御デバイスは、個々のミラーの変位、すなわち、位置決めを制御するように機能する。

アセンブリ内のマイクロミラーアレイの数は、特に少なくとも２、特に少なくとも３、特に少なくとも４、特に少なくとも８、特に少なくとも１５、特に少なくとも３０、特に少なくとも１００、特に少なくとも３００である。

特に、光学アセンブリは、マイクロ電気機械システム（ＭＥＭＳ）として具現化される。

本発明の更に別の目的は、照明放射線を放射線源から物体視野内に伝達するための照明光学ユニットを改善することにある。この目的は、以上の説明による光学アセンブリを有する照明光学ユニットによって達成される。

本発明の一態様により、少なくとも１つのマイクロミラーアレイは、各場合に、照明放射線による入射の場合に、それが走査方向に物体視野の対応する境界に対応する境界を有する照明視野を物体平面に各場合にもたらすように配置される。走査方向に対して垂直な縁部を有する直線物体視野の場合に、照明視野の境界も、物体視野の縁部に対して同じく直線状であり、特に平行である。特に、これは、マイクロミラーアレイの全体反射面の直線状境界によって達成することができる。特に、マイクロミラーアレイは、その境界縁部のうちの１つが各場合に走査方向と垂直に位置合わせされるように配置される。

湾曲物体視野の場合に、照明視野は、相応に湾曲した第１の境界を有することができる。しかし、ここでは、マイクロミラーアレイの全体反射面は、それにも関わらず直線状縁部を有することができる。後者は、マイクロミラーアレイと照明視野の間に配置された光学要素を用いて湾曲縁部を有する照明視野に結像することができる。

マイクロミラーアレイのそのような実施形態の結果として、物体視野の照明の効率は、保証及び／又は改善することができる。

本発明の更に別の態様により、走査方向に対抗する照明視野の境界、すなわち、第１の境界に対向して位置する第２の境界は、対応する実施形態を有する。特に、第１の境界と第２の境界は、互いからの平行オフセットを用いて具現化することができる。それらはまた、異なる曲率半径を有することができる。

本発明の更に別の態様により、走査方向に関して互いに対向して位置する照明視野の２つの境界は、各場合に縁部側公差範囲を含む走査方向のレチクルの照明に実質的に使用することができる物体視野のサイズに対応する互いからの距離を有する。有効スロット長さとも呼ぶレチクルの照明に実質的に使用することができる走査方向の物体視野のサイズは、この場合に、レンズによって与えられるサイズから製造、調節、及び作動安定性のための公差を差し引いたものに対応する。

特に、マイクロミラーアレイは、各場合に、それが走査方向の物体視野照明に対応する方向に整数個のマイクロミラー群に再分割可能であり、これらのマイクロミラー群の各々が、各場合に、照明放射線による入射を受ける時に、縁部側公差範囲を除く走査方向の物体視野の高さｈ_OFに対応する走査方向の高さｈ_BFを有する照明視野を物体平面内にもたらすような実施形態を有する。言い換えれば、マイクロミラーアレイは、特に、それが走査方向に対応する方向に整数個の仮想ファセットに再分割可能であるように具現化される。ここでは、ファセットの各１つは、特に、レチクル内の走査方向のその像のサイズが有効スロット長さに対応するような実施形態を有する。

これによって達成することができることは、走査方向と垂直に延びるマイクロミラーアレイの全体反射面の縁部が、使用領域内には、特に物体視野には結像されないことである。

本発明の更に別の態様により、マイクロミラーアレイの全体反射面は、幅ｂ_Rと高さｈ_Rを有し、高さｈ_Rは、照明される物体視野の走査方向の広がりの予め決められた倍数に対応する。全体反射面の高さｈ_Rは、特に、レチクルの照明に実質的に使用することができる走査方向の物体視野の広がりの整数倍数に照明光学ユニットの結像スケールの逆数を乗じたものに対応する。この場合に、レチクルの照明に実質的に使用することができる物体視野の広がりは、次に、照明視野の走査方向の広がりから縁部側公差範囲を差し引いたものを意味すると理解される。物体視野の実質的に使用することができる走査方向の広がりは、特に１ｍｍから１０ｃｍの範囲、特に３ｍｍから３ｃｍの範囲、特に６ｍｍから１ｃｍの範囲にある。

本発明の更に別の態様により、マイクロミラーアレイは、行に配置され、少なくとも２つの隣接行のマイクロミラーアレイは、異なる剪断変形角度を有する。特に、隣接行のマイクロミラーアレイは、反対方向、行の方向と平行、又は逆平行にずらすことができる。特に、行は、２つの異なる剪断変形を有するマイクロミラーアレイで交互に形成することができる。ここで、隣接行のマイクロミラーアレイは、各場合に絶対値に関して同じ剪断変形角度を有することができる。

物体視野の照明特性は、マイクロミラーアレイを異なる剪断変形、特に交替する剪断変形を有する行に配置することによって改善することができる。

本発明の更に別の目的は、投影露光装置のための照明系を改善することにある。この目的は、以上の説明による照明光学ユニットと照明放射線を発生させるための放射線源とを有する照明系を用いて達成される。

特に、放射線源は、ＥＵＶ放射線源とすることができる。従って、放射線源は、特にＥＵＶ範囲、特に５ｎｍから３０ｎｍまでの波長領域の照明放射線を発生させることができる。他の放射線源、特にＤＵＶ又はＶＵＶ放射線源、又は可視範囲の照明放射線を発生させるための放射線源、特にレーザも同じく可能である。

本発明の一態様により、照明系は、物体視野が１％よりも良好な、特に０．５％よりも良好な、特に０．３％よりも良好な、特に０．２％よりも良好な、特に０．１％よりも良好な均一性を用いて照明されるように具現化される。指定した値は、各場合に最大均一性変動の上限、すなわち、最大均一性誤差を表している。これは、本発明によるアセンブリを用いて、特に、マイクロミラーアレイを用いて可能であることが明らかになった。本発明によるマイクロミラーアレイの実施形態により、均一性変動へのその寄与を低減することができると考えられる。

マイクロミラーアレイを使用すると、特に、視野高さｘにわたる走査エネルギ（ＳＥ）、すなわち、全ての方向にわたって積分されて物体視野にわたって走査される視野点が見るエネルギ又は放射線強度の均一性、すなわち、均質性を改善することが可能である。

一般的に、
ＳＥ（ｘ）＝∫Ｅ（ｘ，ｙ）ｄｙ
が適用され、ここで、Ｅ（ｘ，ｙ）、すなわち、ｘｙ視野平面内の強度分布は、ｘ及びｙに依存する。

視野高さにわたる走査エネルギの変動は、視野平面内の走査エネルギの均一性に関する尺度と考えられる。従って、均一性は、均一性誤差に関する次式の関係によってパーセントを単位として記述される。

ここで、
ΔＳＥは、％を単位とする均一性誤差又は走査エネルギ変動であり、
ＳＥ_Maxは、走査エネルギの最大値であり、
ＳＥ_Minは、走査エネルギの最小値である。

本発明の更に別の目的は、マイクロリソグラフィのための投影露光装置を改善することにある。この目的は、以上の説明による照明光学ユニットと投影光学ユニットとを有する投影露光装置を用いて達成される。その利点は、上述したものから明らかである。

本発明の更に別の目的は、微細構造化又はナノ構造化構成要素を生成する方法を改善することにある。この目的は、本発明による投影露光装置の具備の下での方法によって達成される。その利点は、上述したものから明らかである。

本発明の更なる詳細、特徴、及び利点は、図面を参照した例示的実施形態の説明から明らかになるであろう。

ＥＵＶ投影リソグラフィのための投影露光装置を通る略子午断面図である。 マイクロミラーアレイの概略平面図である。 図２に記載のマイクロミラーアレイの領域ＩＩＩの区画的拡大図である。 ファセットミラーのマイクロミラーアレイの３次元配置の略２次元投影図である。 図２から図４のうちの１つによるマイクロミラーアレイのうちの１つの個々のマイクロミラーの各部分を例示的に描示し、走査方向の縁部側公差範囲を例示的に解説する物体視野の照明を解説するための概略図である。 マイクロミラーアレイ内にマイクロミラーの代替配置を有する図５に対応する図である。 図４からの領域ＶＩＩの区画的拡大図である。 図７からの領域ＶＩＩＩの区画的拡大図である。 マイクロミラーアレイの代替配置を有する図４に対応する図である。

図１は、マイクロリソグラフィのための投影露光装置１を子午断面に略示している。投影露光装置１は、光源又は放射線源２を含む。投影露光装置１の照明系３は、物体平面６の物体視野５の露光のための照明光学ユニット４を有する。特に、照明系３は、物体平面６内の照明視野２５の照明をもたらす。照明視野２５は、好ましくは、照明される物体視野５と同じサイズを有する。可能な場合に、照明視野２５は、照明される物体視野５と同じサイズを走査方向に有するが、それよりも大きくはない。走査方向に対して垂直な方向には、照明視野２５は、好ましくは、物体視野５と少なくとも同程度に大きいが、それよりも小さくはない。特に、照明視野２５は、走査方向に物体視野５よりも縁部側公差範囲４０だけ小さい。それによって走査方向の過露光が確実に回避される。この場合に、物体視野５内には、物体ホルダ又はレチクルホルダ８によって把持されるレチクル７の形態にある物体が配置される。レチクル７をリソグラフィマスクとも呼ぶ。物体ホルダ８は、物体変位ドライブ９を用いて変位方向に沿って変位可能である。変位方向を走査方向とも呼ぶ。投影光学ユニット１０は、物体視野５を像平面１２の像視野に結像するように機能する。レチクル７上の構造は、像平面１２の像視野１１の領域に配置されたウェーハ１３の感光層上に結像される。ウェーハ１３は、ウェーハホルダ１４によって把持される。ウェーハ変位ドライブ１５を用いて、ウェーハホルダ１４も同じく変位方向に沿って物体ホルダ３との同期方式で変位可能である。

放射線源２は、５ｎｍと３０ｎｍの間の範囲の放出使用放射線を有するＥＵＶ放射線源である。この放射線源は、プラズマ光源、例えば、ＧＤＰＰ（ガス放電生成プラズマ）光源又はＬＰＰ（レーザ生成プラズマ）光源とすることができる。シンクロトロン又は自由電子レーザ（ＦＥＬ）を利用した放射線源は、放射線源２として使用することができる。当業者は、例えば、ＵＳ ６，８５９，５１５ Ｂ２にそのような放射線源に関する情報を見出されるであろう。放射線源２から発するＥＵＶ放射線１６は、コレクター１７によってフォーカスされる。対応するコレクターは、ＥＰ １ ２２５ ４８１ Ａから公知である。コレクター１７の下流では、ＥＵＶ放射線１６は中間焦点面１８を通って伝播し、その後に、視野ファセットミラー１９上に入射する。視野ファセットミラー１９は、照明光学ユニット４の最初のファセットミラーである。視野ファセットミラー１９は、図１には描示していない多数の個々のミラーを有する。視野ファセットミラー１９は、物体平面６に対して光学的に共役な照明光学ユニット４の平面に配置される。

以下ではＥＵＶ放射線１６を照明光又は結像光とも呼ぶ。

異なる波長領域の照明光を発生させる放射線源２を使用することができる。特に、放射線源２は、ＤＵＶ放射線源又はＶＵＶ放射線源とすることができる。また、放射線源２は、可視波長領域の照明放射線を発生させるための放射線源とすることができる。

視野ファセットミラー１９の下流において、ＥＵＶ放射線１６は、瞳ファセットミラー２０によって反射される。瞳ファセットミラー２０は、照明光学ユニット４の２番目のファセットミラーである。瞳ファセットミラー２０は、中間焦点面１８に対してかつ投影光学ユニット１０の瞳平面に対して光学的に共役であるか又はこの瞳平面と一致する照明光学ユニット４の瞳平面に配置される。瞳ファセットミラー２０は、図１に描示していない複数の瞳ファセットを有する。以下に更により詳細に説明する視野ファセットミラー１９の個々のミラー群２５（図７を参照されたい）は、瞳ファセットミラー２０の瞳ファセットと、その下流のビーム経路の順番に２２、２３、２４で表記しているミラーを有する伝達光学ユニット２１の形態にある結像光学アセンブリとによって物体視野５に結像される。伝達光学ユニット２１の最後のミラー２４は、かすめ入射ミラーである。

位置関係の説明を簡略化するために、図１は、物体平面６と像平面１２の間の投影露光装置１の構成要素の位置関係の説明のための広域座標系として直交ｘｙｚ座標系を示している。ｘ軸は、図１の作図面と垂直にかつそこに入り込むように延びている。図１では、ｙ軸は、右に物体ホルダ９及びウェーハホルダ１４の変位方向と平行に延びている。図１では、ｚ軸は、下向き、すなわち、物体平面６及び像平面１２と垂直に延びている。

物体視野５又は像視野１１にわたるｘ寸法を視野高さとも呼ぶ。

図２及び図３は、複数の多ミラーアレイ２７（ＭＭＡ）を有する光学アセンブリ２６の一区画を示している。

投影露光装置１の基本構成及びその機能に関する更なる詳細に関しては、本明細書において全体が本出願の構成要素であるように意図するＤＥ １０ ２０１２ ２０７ ８６６．５を参照されたい。

特に、光学アセンブリ２６は、視野ファセットミラー１９の構成要素とすることができる。光学アセンブリ２６は、瞳ファセットミラー２０の構成要素又は照明光学ユニット４の別の要素とすることができる。

位置関係の説明を簡略化するために、図２から図９は、光学アセンブリ２６の局所座標系として直交ｘｙｚ座標系を示している。この場合に、図１に記載の広域座標系のｙ方向、すなわち、レチクル７及びウェーハ１３に対する変位方向と、図２から図９の局所座標系のｙ方向とは互いに対応する。これは、局所座標系のｙ方向が、広域座標系のｙ方向に対して少なくとも近似的に平行、特に走査方向と平行に延びるように照明光学ユニット４の光学構成要素が結像されることを意味すると理解される。

光学アセンブリ２６は、多数のＭＭＡ２７を含む。ＭＭＡ２７は、行２８に配置される。ここでは、行２８は、各場合にｘ方向と平行に位置合わせされる。従って、行２８は、走査方向と平行なｙ方向に対して垂直である。

特に、ＭＭＡ２７は、１又は２以上の球体の緯度圏に対応する方式で配置される。ここでは、緯線の行は、各場合に視野ファセットミラー１９上の有効走査方向と垂直に延びている。特に、緯度線に沿ったＭＭＡ２７の位置決めは、視野ファセットミラーの理想的なカバレージが存在するように選択することができる。特に、これは、視野ファセットミラー１９を網羅するのに要求されるＭＭＡ２７の数が最小にされることを意味すると理解される。好ましくは、ＭＭＡ２７は、瞳ファセットを照明するのに必要とされる傾斜角が可能な限り小さく、結像スケールが、個々の照明チャネルの間で可能な限り小さくしか変動せず、及び／又は放射線源２の遠視野が、可能な限り少ない構成要素のみを用いて可能な限り小さい間隙しか伴わずに含まれるように配置される。ＭＭＡ２７は、各場合に平面実施形態を有する。しかし、それらは、曲面、特に楕円体面又は球体面上に配置することができる。ＭＭＡ２７の３次元配置に関する詳細に関しては、ＤＥ １０ ２０１２ ２０７ ８６６．５を参照されたい。

ＭＭＡ２７は、各場合に平行四辺形実施形態を有する。ＭＭＡ２７は、特に非矩形方式で具現化される。特に、ＭＭＡ２７は、１００°よりも大きい内角を有する。

ＭＭＡ２７の各々は、その寸法に起因してマイクロミラー３１とも呼ぶ多数の個々のミラー３１を含む。特に、個々のミラー３１の各々は、１０μｍから１０ｍｍの範囲、特に１００μｍから１ｍｍの範囲、特に３００μｍから８００μｍの範囲の辺長を有することができる。

個々のミラー３１の各々は、個々の反射面３２を有する。個々の反射面３２は、平行四辺形実施形態を有する。特に、幾何学形状に関しては、個々の反射面３２は、ＭＭＡ２７の全体反射面と同様である。

特に、個々のミラー３１は、モザイクの様式で配置される。言い換えれば、その構成に起因する個々の反射面３２間の間隙を除いて、ＭＭＡ２７は、間隙を伴わずにモザイクにされる。ＭＭＡ２７の個々のミラー３１間の距離は、特に１００μｍよりも小さく、特に３０μｍよりも小さく、特に１０μｍよりも小さい。特に、ＭＭＡ２７には裂け目がない。その一方、２つの隣接ＭＭＡ２７の間には裂け目３３が存在することができる。裂け目３３は可能な限り幅狭である。裂け目３３は、１ｍｍよりも小さく、特に３００μｍよりも小さく、特に１００μｍよりも小さい裂け目幅を有することができる。更に、ＭＭＡ２７は周縁４１を有するので、２つの隣接ＭＭＡ２７の全体反射面は、これらの２つの縁部４１及び裂け目３３によって離間する。２つの隣接ＭＭＡ２７の全体反射面の間の距離は、好ましくは、１ｍｍよりも小さい。好ましくは、この距離は、個々のミラー３１のうちの１つの対応する方向の辺長よりも小さい。

個々のミラー３１は、照明放射線１６の個々の偏向に向けて変位可能である。この目的に対して、個々のミラー３１の各々は、図に描示していないアクチュエータに接続される。個々のミラー３１の変位機能性及びそのために設けられるアクチュエータに関しては、例えば、ＤＥ １０ ２０１２ ２０７ ８６６．５を参照されたい。

個々のミラー３１もまた、行３４と列３５に配置される。特に、行３４は、行２８と平行に延びている。特に、これらの行は、ｘ方向と平行に位置合わせされる。

特に、列３５は、ｙ方向に対して傾斜して配置される。列３５は、ｙ方向との間に少なくとも１０°の角度を含む。

個々のミラー３１の各々は、平行四辺形の個々の反射面３２を有する。特に、個々の反射面３２の縁部は、各場合に、関連付けられたＭＭＡ２７の全体反射面と平行である。図２及び図３に図示の実施形態により、個々のミラー３１は、特に、２つの隣接する個々の反射面３２の境界が各場合に同一面内の行を形成するように配置される。それによって図５に示す物体視野５の照明がもたらされる。

上記に対する代替として、隣接行内の個々のミラー３１は、ｘ方向に対して傾斜して延びる２つの隣接する個々の反射面３２の境界が各場合に互いに同一面内にないように互いに対するオフセットを有するように配置することができる。

特に、個々のミラー３１の個々の反射面３２は、剪断変形矩形の形態を有する。特に、走査方向に互いに隣接する個々のミラー３１は、剪断変形によって予め決定される方式で走査方向と垂直にオフセットされる。そのような配置の結果として、物体平面６内、特に物体視野５内で強度変動の非常に効率的な抑制が達成される。

特に、ＭＭＡ２７の全ての個々のミラー３１が、その幾何学形状に関して互いに対して相似、特に同一の実施形態を有するという規定が作られる。

走査方向に、ＭＭＡ２７は、仮想ファセット４２の走査方向の広がりの倍数に対応する広がりを有する。図７に例示的に図示の実施形態において、１つのＭＭＡ２７上で、ｙ方向に例えば４つの仮想ファセット４２が収まる。ｘ方向には、仮想ファセット４２は、１又は２以上のＭＭＡ２７にわたって延びることができる。特に、仮想ファセット４２は、２、３、４、又はそれよりも多いＭＭＡ２７にわたって延びることができる。この例では、仮想ファセット４２は、平行四辺形実施形態を有する。仮想ファセット４２は、ｙ方向に９個の個々のミラー３１の高さに対応するｙ方向高さ、すなわち、走査方向に対応する方向の広がりを有する。ｘ方向、すなわち、走査方向に対して垂直な方向には、仮想ファセット４２は、７２、１０８、又は１４４個の個々のミラー３１の広がりに対応する広がりを有する。しかし、仮想ファセット４２の代替実施形態も同じく可能である。

ＭＭＡ２７上に整数倍数の仮想ファセット４２を配置することによって達成することができることは、走査方向と垂直に延びるＭＭＡ２７の縁部が、使用領域内に、すなわち、物体視野５内に結像されないことである。その結果、位相空間内の間隙の数を低減することができる。特に、間隙の数を５０％だけ低減することができる。

特に、仮想ファセット４２は、各場合にそれらが物体視野５の走査方向の完全照明をもたらすように具現化される。特に、それらの各々は、走査方向に公差範囲４０よりも大きくない分だけ照明される物体視野５よりも小さい照明視野２５をもたらす。

本発明によるＭＭＡ２７を使用すると、瞳のより低い充填度を得ることが可能である。より少ない間隙の数の結果として、物体視野５内の強度変動を低減することができる。

ＭＭＡ２７、特に個々のミラー３１をｘ方向と平行に、すなわち、走査方向に対して垂直な行２８及び３４にそれぞれに配置することにより、特に矩形物体視野５の場合に物体視野５の充填を改善することが可能である。これはまた、瞳のより小さい充填度、従って、より良好な分解能も可能にする。

図９を参照してＭＭＡ２７の更に別の配置を以下に説明する。図４に記載の実施形態において、全てのＭＭＡ２７が同じ方向に剪断変形され、それによってこの図に示す２次元投影図内のいずれか２つのＭＭＡ２７が各場合に互いに平行に変位したように見えるが、図９に図示の実施形態により、隣接行２８のＭＭＡ２７は、各場合に反対方向に剪断変形されている。従って、これらの行に対して傾斜して延びる隣接行２８のＭＭＡ２７の境界は互いに平行ではない。それによって特に瞳において対称性が破壊され、この破壊によって物体視野５の照明特性の改善がもたらされる。

一般的に、隣接行２８のＭＭＡ２７は、異なる剪断変形角度を有する。これは、図９に例示的に示すように、剪断変形角度が、絶対値に関して同じであるが、交替する符号を有することを意味することも理解しなければならない。

完全を期して、図４及び図９では、明瞭にするためにＭＭＡ２７を拡大方式で描示している。ファセットミラー１９のＭＭＡ２７の実際の数は、これらの図に示すものよりも有意に大きいとすることができる。

微細構造化又はナノ構造化構成要素、特に半導体構成要素、例えば、マイクロチップのリソグラフィ製造に向けて、物体視野５内のレチクル７の少なくとも一部は、投影露光中に投影露光装置１を用いてウェーハ１３上の感光層の領域上の像視野１１に結像される。ここでは、レチクル７とウェーハ１３は、走査方向に時間同期方式で変位させることができる。

２６ 光学アセンブリ
２７ マイクロミラーアレイ
２８ 行
３３ 裂け目
ＩＩＩ マイクロミラーアレイの領域

Claims (15)

1. 投影露光装置（１）のためのマイクロミラーアレイ（２７）であって、
   ａ．各々が非矩形形態を有する個々の反射面（３２）を備えた多数のマイクロミラー（３１）であって、多数の行及び列に配置されるマイクロミラー（３１）、
   を含み、
   ｂ．マイクロミラーアレイ（２７）が、平行四辺形形状の非矩形全体反射面を有し、
   ｃ．マイクロミラーアレイ（２７）の全てのマイクロミラー（３１）が、互いに対して幾何学的に相似の実施形態を有する、
   ことを特徴とするマイクロミラーアレイ（２７）。
2. 前記全体反射面は、滑らかな縁部（３０）を有することを特徴とする請求項１に記載のマイクロミラーアレイ（２７）。
3. 前記個々の反射面（３２）は、前記全体反射面と幾何学的に相似である形態を有することを特徴とする請求項１及び請求項２のいずれか１項に記載のマイクロミラーアレイ（２７）。
4. 前記個々の反射面（３２）は、ＥＵＶ範囲にある放射線に対して反射性を有することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のマイクロミラーアレイ（２７）。
5. 投影露光装置（１）のための光学アセンブリ（２６）であって、
   請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の少なくとも１つのマイクロミラーアレイ（２７）、
   を有することを特徴とする光学アセンブリ（２６）。
6. 照明放射線（１６）を放射線源（２）から物体視野（５）内に伝達するための照明光学ユニット（４）であって、
   請求項５に記載の光学アセンブリ（２６）、
   を含むことを特徴とする照明光学ユニット（４）。
7. 少なくとも１つのマイクロミラーアレイ（２７）の各々が、照明放射線（１６）による入射の場合に、それが照明視野（２５）を物体平面（６）にもたらすように配置され、該照明視野（２５）は、走査方向に前記物体視野（５）の対応する境界に対応する第１の境界を有することを特徴とする請求項６に記載の照明光学ユニット（４）。
8. マイクロミラーアレイ（２７）が、走査方向と垂直に位置合わせされた境界縁部をそれらが有するように配置されることを特徴とする請求項５及び請求項６のいずれか１項に記載の照明光学ユニット（４）。
9. 少なくとも１つのマイクロミラーアレイ（２７）の各々が、それが仮想ファセット（４２）の高さの整数倍数である広がりを第１の方向に有するように具現化されることを特徴とする請求項６から請求項８のいずれか１項に記載の照明光学ユニット（４）。
10. 多数のマイクロミラーアレイ（２７）が、行（２８）に配置され、少なくとも２つの隣接する行（２８）の該マイクロミラーアレイ（２７）は、異なる剪断変形角度を有することを特徴とする請求項６から請求項９のいずれか１項に記載の照明光学ユニット（４）。
11. マイクロミラー（３１）が、行（３４）と列（３５）に配置され、該列（３５）は、走査方向に対して角度を付けて配置されることを特徴とする請求項５から請求項９のいずれか１項に記載の照明光学ユニット（４）。
12. 投影露光装置（１）のための照明系（３）であって、
    請求項６から請求項１１のいずれか１項に記載の照明光学ユニット（４）と、
    照明放射線（１６）を発生させるための放射線源（２）と、
    を含むことを特徴とする照明系（３）。
13. １％よりも小さい均一性誤差を有する物体視野（５）の照明の均一性を特徴とする請求項１２に記載の照明系（３）。
14. マイクロリソグラフィのための投影露光装置（１）であって、
    請求項６から請求項１１のいずれか１項に記載の照明光学ユニット（４）と、
    投影光学ユニット（１０）と、
    を含むことを特徴とする投影露光装置（１）。
15. 微細構造化又はナノ構造化構成要素を生成する方法であって、
    感光材料で作られた層が少なくとも部分的に適用されたウェーハ（１３）を与える段階と、
    結像される構造を有するレチクル（７）を与える段階と、
    請求項１４に記載の投影露光装置（１）を与える段階と、
    前記投影露光装置（１）の投影光学ユニット（１０）を用いて前記レチクル（７）の少なくとも一部を前記層の領域上に投影する段階と、
    を含むことを特徴とする方法。

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