JP2011512647A5

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Info

Publication number: JP2011512647A5
Application number: JP2010543446A
Authority: JP
Filing date: 2009-01-28
Publication date: 2012-03-15
Anticipated expiration: 2029-01-28

Claims

極紫外線及びＸ線放射用の光源−集光光学系であって、軸に沿って、
燃料ターゲットを有し、前記燃料ターゲットが前記軸に沿ったレーザビームにより照射されるとき放射を行うレーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）源と、
前記軸に沿って前記ＬＰＰ源に相対的に配され、前記放射の一部を集光し、前記光軸上の中間焦点に向ける、斜入射集光器と、
を備える、光源−集光光学系。
前記燃料ターゲットは、Ｌｉ、Ｓｎ、又はＸｅを含む、
請求項１に記載の光源−集光光学系。
前記燃料ターゲットは、燃料液滴ジェネレータから出される燃料液滴を含む、
請求項２に記載の光源−集光光学系。
前記光学系の軸に沿って配され、レーザ光を前記燃料ターゲットに向けるミラーを備える、
請求項１に記載の光源−集光光学系。
更に、前記燃料ターゲット上にレーザ光を合焦させるレンズを備える、
請求項４に記載の光源−集光光学系。
前記斜入射集光器は、斜入射集光器の温度分布を管理する熱管理システムを有する、
請求項１に記載の光源−集光光学系。
前記斜入射集光器は、同心に配され又は入れ子状の斜入射ミラーを備える、
請求項１に記載の光源−集光光学系。
前記斜入射ミラーは、電鋳金属から形成されてなる、
請求項７に記載の光源−集光光学系。
前記斜入射ミラーは、反射コーティングがなされた光学面をそれぞれ有する、
請求項８に記載の光源−集光光学系。
請求項１に記載の集光光学系と、
前記集光光学系に相対的に配され同光学系からの放射を受光する光学集光レンズと、
前記光学集光レンズからの放射を受光する反射マスクと、
を備える、リソグラフィシステム。
極紫外線及びＸ線放射用の光源−集光光学系であって、軸に沿って、
燃料ターゲットを有するレーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）源と、
前記燃料ターゲットに向けられ放射されるレーザ光を生成するレーザと、
前記軸に沿って前記ＬＰＰ源に相対的に配され、前記放射の一部を集光し、中間焦点に向ける、入れ子状の電鋳ミラーを有する斜入射集光器と、
を備える、光源−集光光学系。
前記ＬＰＰ源と前記中間焦点との間に前記軸に沿って配され、前記軸に沿ってレーザ光を反射するミラーを更に備える、
請求項１１に記載の光源−集光光学系。
前記斜入射集光器に隣接して前記ＬＰＰ源の反対側に軸に沿って配され、前記軸に沿って前記斜入射集光器を通ってレーザ光を反射するミラーを更に備える、
請求項１１に記載の光源−集光光学系。
前記燃料ターゲットは、燃料液滴ジェネレータより出されるＳｎの液滴である、
請求項１１に記載の光源−集光光学系。
各電鋳ミラーは、反射コーティングされた光学面を有する、
請求項１１に記載の光源−集光光学系。
前記電鋳ミラーは、同心に配されている、
請求項１１に記載の光源−集光光学系。
請求項７に記載の集光光学系と、
前記集光光学系に相対的に配され同光学系からの放射を受光する光学集光レンズと、
前記光学集光レンズからの放射を受光する反射マスクと、
を備える、リソグラフィシステム。
極紫外線又はＸ線放射を集光する方法であって、
集光器軸を有する斜入射集光器を設け、
前記集光器軸上であって前記斜入射集光器との相対位置に燃料ターゲットを配し、
軸に沿って走るレーザ光により前記燃料ターゲットを照射して、前記放射を行うレーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）源を形成し、
前記斜入射集光器で前記放射の一部を集光し、集光された放射を中間焦点に向ける、
方法。
前記燃料ターゲットを、燃料液滴ジェネレータより出されるＳｎの液滴とする、
請求項１８に記載の方法。
レーザ光が光軸に沿うようにミラーでレーザ光を反射させることを含み、ミラーを
（ａ）ＬＰＰ源及び中間焦点の間に配すること、又は
（ｂ）レーザ光が斜入射集光器を通るように斜入射集光器に隣接してＬＰＰ源の反対側に配すること、
を含む、請求項１８に記載の方法。
前記斜入射集光器を同心に配された電鋳ミラーにより形成することを含む、
請求項１８に記載の方法。