JP2010271603A - 面位置検出装置、パターン形成装置、面位置検出方法、パターン形成方法及びデバイス製造方法 - Google Patents

面位置検出装置、パターン形成装置、面位置検出方法、パターン形成方法及びデバイス製造方法 Download PDF

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013035696A1 (ja) * 2011-09-05 2013-03-14 株式会社ニコン 基板搬送装置及び基板処理装置
WO2013121625A1 (ja) * 2012-02-17 2013-08-22 株式会社ニコン 基板搬送装置、基板処理装置、及び基板処理方法
JP2014060240A (ja) * 2012-09-18 2014-04-03 Disco Abrasive Syst Ltd 加工装置
JP2016535300A (ja) * 2013-10-22 2016-11-10 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ アクティブアラインメントを用いたロールツーロールのマスクレスリソグラフィー

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58156210U (ja) * 1982-04-14 1983-10-19 パイオニアビデオ株式会社 平面度測定機の裏面反射防止構造
JPS62217250A (ja) * 1986-03-19 1987-09-24 Fujitsu Ltd 焦点合わせ方法
JPH01197605A (ja) * 1988-02-03 1989-08-09 Asahi Optical Co Ltd 透過用光学素子の表面形状測定方法及びその測定方法に用いる測定治具
JPH05281458A (ja) * 1992-03-31 1993-10-29 Canon Inc 自動焦点合わせ装置
JPH06188173A (ja) * 1992-12-16 1994-07-08 Nikon Corp 表面位置検出装置
JPH07111233A (ja) * 1993-10-12 1995-04-25 Nikon Corp 露光方法
JPH116714A (ja) * 1998-06-01 1999-01-12 Hitachi Ltd 試料表面の高さ検出方法及びその装置
JPH11230860A (ja) * 1998-02-12 1999-08-27 Fujitsu Ltd 光学的薄膜計測方法及び装置並びにこの装置に用いられる光学的薄膜計測妨害光除去装置
JP2004273828A (ja) * 2003-03-10 2004-09-30 Nikon Corp 面位置検出方法、面位置検出装置、合焦装置、露光装置及びデバイスの製造方法
JP2006178463A (ja) * 2004-12-22 2006-07-06 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置、デバイス製造方法及びそれによって製造されたデバイス
JP2006313866A (ja) * 2005-05-09 2006-11-16 Canon Inc 露光装置及び方法

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58156210U (ja) * 1982-04-14 1983-10-19 パイオニアビデオ株式会社 平面度測定機の裏面反射防止構造
JPS62217250A (ja) * 1986-03-19 1987-09-24 Fujitsu Ltd 焦点合わせ方法
JPH01197605A (ja) * 1988-02-03 1989-08-09 Asahi Optical Co Ltd 透過用光学素子の表面形状測定方法及びその測定方法に用いる測定治具
JPH05281458A (ja) * 1992-03-31 1993-10-29 Canon Inc 自動焦点合わせ装置
JPH06188173A (ja) * 1992-12-16 1994-07-08 Nikon Corp 表面位置検出装置
JPH07111233A (ja) * 1993-10-12 1995-04-25 Nikon Corp 露光方法
JPH11230860A (ja) * 1998-02-12 1999-08-27 Fujitsu Ltd 光学的薄膜計測方法及び装置並びにこの装置に用いられる光学的薄膜計測妨害光除去装置
JPH116714A (ja) * 1998-06-01 1999-01-12 Hitachi Ltd 試料表面の高さ検出方法及びその装置
JP2004273828A (ja) * 2003-03-10 2004-09-30 Nikon Corp 面位置検出方法、面位置検出装置、合焦装置、露光装置及びデバイスの製造方法
JP2006178463A (ja) * 2004-12-22 2006-07-06 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置、デバイス製造方法及びそれによって製造されたデバイス
JP2006313866A (ja) * 2005-05-09 2006-11-16 Canon Inc 露光装置及び方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013035696A1 (ja) * 2011-09-05 2013-03-14 株式会社ニコン 基板搬送装置及び基板処理装置
WO2013121625A1 (ja) * 2012-02-17 2013-08-22 株式会社ニコン 基板搬送装置、基板処理装置、及び基板処理方法
JP2014060240A (ja) * 2012-09-18 2014-04-03 Disco Abrasive Syst Ltd 加工装置
JP2016535300A (ja) * 2013-10-22 2016-11-10 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ アクティブアラインメントを用いたロールツーロールのマスクレスリソグラフィー

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